專利名稱：一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法
一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及超材料基板的制造加工技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法。
背景技術(shù)：
近年來，隨著雷達(dá)探測(cè)、衛(wèi)星通信、航空航天等高新技術(shù)的快速發(fā)展，以及抗電磁干擾、隱形技術(shù)、微波暗室等研究領(lǐng)域的興起，微波吸收材料的研究越來越受到人們的重視。超材料可以現(xiàn)出非常奇妙的電磁效應(yīng)，可用于吸波材料和隱形材料等領(lǐng)域，成為吸波材料領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。超材料的性質(zhì)和功能主要來自于其內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，如何精確制備具有周期排列的三維精細(xì)結(jié)構(gòu)成為超材料制備技術(shù)的關(guān)鍵。超材料的加工過程主要是將帶有金屬微結(jié)構(gòu)陣列的PCB基板疊層在一起，各層基板之間填充其他介質(zhì)。但是傳統(tǒng)的PCB基板大多為均勻介質(zhì)基板，難以滿足對(duì)介質(zhì)基板電磁特性的需求。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種非均勻多孔介質(zhì)基板的制備方法，能夠降低制備非均勻介質(zhì)基板工藝流程的復(fù)雜度，提高制備效率。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明一實(shí)施例提供了一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法， 其特征在于，該制備方法包括配置預(yù)設(shè)濃度的樹脂溶液；將所述樹脂溶液涂敷在無紡布的上表面，形成一層液膜；將上表面具有液膜的無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間；開啟冷、熱噴射頭，通過水蒸氣帶走所述液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑；取下所述液膜，置于干燥烘箱干燥后獲得非均勻介質(zhì)基板。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)以無紡布作為支撐，將樹脂溶液涂敷在表面形成液膜，然后在懸掛的液膜兩側(cè)同時(shí)用冷、熱噴射頭噴水，通過水蒸氣帶走液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑，從而在液膜上形成孔，將該液膜干燥后獲得具有多孔的非均勻介質(zhì)基板，制備工藝簡(jiǎn)單。并且能夠滿足對(duì)介質(zhì)基板電磁特性的需求。

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。圖1是本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖；圖2是本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖3是本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖；圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種非均勻介質(zhì)基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。實(shí)施例一、參見圖1，是本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖，該制備方法包括Sll 配置預(yù)設(shè)濃度的樹脂溶液。其中，該預(yù)設(shè)濃度的樹脂溶液為聚砜(PSF/PSU)溶液；或者聚偏氟乙烯(PVDF)溶液。聚砜溶液的濃度為15-20% ；聚偏氟乙烯溶液的濃度為20-25%。S12 將樹脂溶液涂敷在無紡布的上表面，形成一層液膜。其中，該無紡布的形狀為正方形或者長方形。S13 將上表面具有液膜的無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間。S14 開啟冷、熱噴射頭，通過水蒸氣帶走所述液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑。一般情況下，冷、熱噴射頭的開啟時(shí)間為5-10分鐘。S15 取下液膜，置于干燥烘箱干燥后獲得非均勻介質(zhì)基板。其中，干燥烘箱的溫度為40-60°C。其中，獲得的非均勻介質(zhì)基板的介電常數(shù)在0.9-1. 5之間；液膜的厚度在 0. 06-0. 2mm之間；孔徑的大小在60-900nm之間，在具體的實(shí)施過程中，根據(jù)對(duì)介質(zhì)基板電磁特性的要求，選擇對(duì)應(yīng)的液膜厚度和孔徑大小。本實(shí)施例中，通過以無紡布作為支撐，將樹脂溶液涂敷在表面形成液膜，然后通過水蒸氣帶走液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑，從而在液膜上形成孔，將該液膜干燥后獲得具有多孔的非均勻介質(zhì)基板，制備工藝簡(jiǎn)單。并且能夠滿足對(duì)介質(zhì)基板電磁特性的需求。實(shí)施例二、參見圖2，是本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖，該制備方法包括S21 配置濃度為17%的聚砜溶液。S22 將濃度為17%的聚砜溶液涂敷在正方形無紡布的上表面，形成一層液膜。S23 將上表面具有液膜的正方形無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間。S24:開啟冷、熱噴射頭，調(diào)整冷、熱噴射頭的水蒸氣噴出量，直到最后達(dá)到恒定噴速，噴淋10分鐘。其中，冷噴射頭水蒸氣噴出量大于熱噴射頭水蒸氣噴射量。S25 取下聚砜液膜，放入溫度為60°C的鼓風(fēng)干燥烘箱中進(jìn)行烘干獲得非均勻介質(zhì)基板。相對(duì)于實(shí)施例一，本實(shí)施例通過具體實(shí)例對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行了詳細(xì)描述。
實(shí)施例三、參見圖3，是本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法流程圖，該制備方法包括S31 配置濃度為23%的聚偏氟乙烯溶液。S32 將濃度為23%的聚偏氟乙烯溶液涂敷在長方形無紡布的上表面，形成一層液膜。S33 將上表面具有液膜的長方形無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間。S34:開啟冷、熱噴射頭，調(diào)整冷、熱噴射頭的水蒸氣噴出量，直到最后達(dá)到恒定噴速，噴淋8分鐘。在此過程中，水蒸氣帶走了液膜中的可溶于水的有機(jī)溶劑。其中，冷噴射頭水蒸氣噴出量大于熱噴射頭水蒸氣噴射量。S35 取下聚偏氟乙烯液膜，放入溫度為40°C的鼓風(fēng)干燥烘箱中進(jìn)行烘干獲得非均勻介質(zhì)基板。相對(duì)于實(shí)施例一，本實(shí)施例通過具體實(shí)例對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行了詳細(xì)描述。在具體的實(shí)施過程中，根據(jù)實(shí)施一中列舉的參數(shù)范圍，還可以得出其他實(shí)施例，此處不再贅述。采用上述實(shí)施例一至實(shí)施例三制備的非均勻介質(zhì)基板如圖4所示，非均勻介質(zhì)基板41為兩表面具有不同孔徑的貫穿孔的多孔介質(zhì)基板。以上對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想； 同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法，其特征在于，該制備方法包括配置預(yù)設(shè)濃度的樹脂溶液；將所述樹脂溶液涂敷在無紡布的上表面，形成一層液膜；將上表面具有液膜的無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間；開啟冷、熱噴射頭，通過水蒸氣帶走所述液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑；取下所述液膜，置于干燥烘箱干燥后獲得非均勻介質(zhì)基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述樹脂溶液為聚砜溶液或者聚偏氟乙烯溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述聚砜溶液的濃度為15-20%。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯溶液的濃度為 20-25%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述無紡布的形狀為正方形或者長方形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述冷、熱噴射頭的開啟時(shí)間為5-10 分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述干燥烘箱為鼓風(fēng)干燥烘箱。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或者7所述的制備方法，其特征在于，所述干燥烘箱的溫度為 40-60 "C。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，開啟冷、熱噴射頭之后，還包括調(diào)整冷、熱噴射頭的水蒸氣噴出量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或者9所述的制備方法，其特征在于，所述冷噴射頭水蒸氣噴出量大于熱噴射頭水蒸氣噴射量。
全文摘要
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種非均勻介質(zhì)基板的制備方法，該制備方法包括配置預(yù)設(shè)濃度的樹脂溶液；將所述樹脂溶液涂敷在無紡布的上表面，形成一層液膜；將上表面具有液膜的無紡布垂直懸掛在兩個(gè)冷、熱噴射頭中間；開啟冷、熱噴射頭，通過水蒸氣帶走所述液膜中可溶于水的有機(jī)溶劑；取下所述液膜，置于干燥烘箱干燥后獲得非均勻介質(zhì)基板。以降低非均勻介質(zhì)基板的制備難度。
文檔編號(hào)C08L81/06GK102477165SQ20111029697
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者劉若鵬, 張影, 金曦 申請(qǐng)人:深圳光啟高等理工研究院