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減少亞烷基二醇和聚亞烷基二醇制備中的副反應(yīng)的方法

文檔序號:3540651閱讀:217來源:國知局
專利名稱:減少亞烷基二醇和聚亞烷基二醇制備中的副反應(yīng)的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及通過環(huán)氧垸和水的反應(yīng)制備亞烷基二醇的方法。本發(fā)明還 涉及通過環(huán)氧烷和亞垸基二醇的反應(yīng)制備高級二醇的方法。更具體而言, 本發(fā)明涉及減少可能在這些二醇的制備和隨后的純化過程中產(chǎn)生的某些 類型的雜質(zhì)和/或副產(chǎn)物的量的方法。
背景技術(shù)
1,2-亞烷基二醇通過將相應(yīng)的環(huán)氧烷和水的混合物加熱到高溫而制
備,在該高溫下,水在環(huán)氧基團(tuán)的部位反應(yīng)以形成連位羥基。該反應(yīng)可以
使用或不使用催化劑而實(shí)現(xiàn)。因此,環(huán)氧乙垸和水反應(yīng)形成1,2-乙二醇, 而環(huán)氧丙烷和水反應(yīng)形成1,2-丙二醇。制備1,2-乙二醇的反應(yīng)的通常的副 產(chǎn)物包括二甘醇("DEG")和三甘醇("TEG")。另外,高級二醇也可以通過例 如DEG與環(huán)氧烷的反應(yīng)制備。四甘醇("TETRA")就是高級二醇的一個(gè)實(shí) 例。
在這些過程中,可能發(fā)生各種不需要的副反應(yīng)。羰基化合物通常經(jīng)由 幾種機(jī)理形成。例如,亞烷基二醇可以氧化而形成相應(yīng)的醛和水分子。另 外,例如,亞垸基二醇可以脫氫以形成相應(yīng)的醛和氫分子。這些和其它羰 基化合物隨后可能反應(yīng)形成吸收紫外光的化合物,該吸收紫外光的化合物 也必需從產(chǎn)物中移除。
這些不需要的副反應(yīng)可以包括來自工藝設(shè)備的金屬物種的瀝濾以及金 屬鹽和金屬氧化物的形成。在足量時(shí),這些金屬物種本身可能成為問題, 而即使在低水平時(shí),它們也可能催化亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的氧化和 /或脫氫而形成羰基化合物。實(shí)際上,各種金屬物種可能在這些二醇制備工 藝中的任何階段形成,并且可能由于氧和/或酸性材料的存在而加重。
含羰基化合物在蒸餾亞烷基二醇(或二聚體以上的低聚物比如DEG、 TEG和TETRA)的后處理塔中通常構(gòu)成二醇反應(yīng)器的下游。在此,可能涉
5及導(dǎo)致將這種二醇氧化而形成羰基化合物的低水平氧的存在的問題。另 外,可能涉及存在可以作為催化劑的某些金屬物種的問題。如上所述,這 些羰基化合物可以進(jìn)一步反應(yīng)形成吸收紫外光的化合物。在這些二醇后處 理過程中形成羰基化合物的問題通常在啟動和關(guān)閉操作的過程中或當(dāng)存 在工藝干擾時(shí)更嚴(yán)重。羰基化合物和吸收紫外光的化合物的形成是一個(gè)相 當(dāng)大的問題,因?yàn)闉榱藵M足某些最終用途的應(yīng)用的要求,需要將羰基化合 物和吸收紫外光的化合物都從二醇中移除。這種分離可能困難并且給工藝 增加了資本和運(yùn)行費(fèi)用。
處理亞垸基二醇以移除醛的一種方法是將混合物與亞硫酸氫鹽化合物
接觸。例如,美國專利6,187,973描述了一種通過使乙二醇與亞硫酸氫鹽 處理的陰離子交換樹脂接觸而從乙二醇移除醛的方法。加拿大專利 1,330,350描述了將亞硫酸氫鹽離子添加到乙二醇化合物中,之后將該混合 物與羥基形式的陰離子交換樹脂接觸,從而移除醛。JP 53-029292描述了 一種用于從氣流中吸收醛的方法,其中將所述流與浸漬有亞硫酸鹽或酸式 亞硫酸鹽的活性炭接觸。SU 1498752 (摘要)描述了使用含有次氯酸鈉、溴、 對-氯苯磺酸二氯胺或氯琥珀酰胺的第一試劑混合物純化乙二醇,然后使用 亞硫酸氫鈉溶液處理該溶液的方法。這些方法全都集中于移除方法,而不 是集中于首先減少醛(或其它副產(chǎn)物)的生成的方法。Research Disclosure
465117 (Kenneth Mason Publications, Ltd. , 2003年1月)描述了將反應(yīng)物比 如亞硫酸鹽添加到某些環(huán)氧乙烷/乙二醇工藝流中,用于雜質(zhì)轉(zhuǎn)化。亞硫酸 氫根離子也已經(jīng)被添加到由環(huán)氧乙垸、二氧化碳和水經(jīng)由碳酸亞乙酯中間 產(chǎn)物制備乙二醇的工藝中。
所需要的是一種降低亞垸基二醇或聚亞垸基二醇制備工藝中產(chǎn)生的不 需要的副產(chǎn)物比如羰基化合物、吸收紫外光的化合物和各種金屬物種的水 平的方法。
發(fā)明概述
本發(fā)明涉及一種通過環(huán)氧烷和水的反應(yīng)制備一種或多種亞垸基二醇或 聚亞垸基二醇的方法,由此降低所產(chǎn)生的不需要的副產(chǎn)物比如羰基化合 物、吸收紫外光的化合物和各種金屬物種的水平。其中本發(fā)明的方法特別適合的具體工藝操作包括亞烷基二醇反應(yīng)器和亞烷基二醇蒸餾單元。申請 人發(fā)現(xiàn),在很多情況下,水溶性還原劑的存在降低了當(dāng)工藝流處于高溫條 件時(shí)發(fā)生的不需要的副反應(yīng)的量。當(dāng)存在還原劑時(shí),降低了羰基化合物比 如醛、金屬物種和吸收紫外光的化合物的形成。
.在一個(gè)方面中,本發(fā)明是一種方法,所述方法包括使含有環(huán)氧垸和水 的反應(yīng)混合物經(jīng)受包括足以將至少一部分的環(huán)氧垸轉(zhuǎn)化成一種或多種相 應(yīng)的亞垸基二醇或聚亞垸基二醇的高溫的反應(yīng)條件,其中所述反應(yīng)混合物 還含有所述反應(yīng)混合物的lppb至5重量%的水溶性還原劑。該方面的方法 與不存在還原劑時(shí)相比,趨向于產(chǎn)生更少的羰基化合物、更少的吸收紫外 光的化合物和更少的金屬物種。結(jié)果,下游純化處理得到簡化并且更廉價(jià)。
在另一個(gè)方面中,本發(fā)明是一種方法,所述方法包括在使工藝流經(jīng)受 足以將至少一部分環(huán)氧烷轉(zhuǎn)化成一種或多種相應(yīng)的亞垸基二醇或聚亞烷 基二醇的高溫之后,將水溶性還原劑添加到含有環(huán)氧烷并且含有水和聚亞 垸基二醇中的一種或多種的工藝流中。該方面的方法與不存在還原劑時(shí)相 比,趨向于產(chǎn)生更少的羰基化合物、更少的吸收紫外光的化合物和更少的 金屬物種,并且與前述方面的不同之處在于水溶性還原劑與環(huán)氧垸的反應(yīng) 得到明顯減少。結(jié)果,下游的純化處理被簡化并且更廉價(jià)。
在另一方面中,本發(fā)明是一種方法,所述方法包括將含有亞烷基二醇
或聚亞烷基二醇的混合物蒸餾,其中所述混合物包含1 ppb至5重量%的
水溶性還原劑。在本發(fā)明的該方面中,可以相當(dāng)顯著地減少醛和吸收紫外 光的化合物的形成。
發(fā)明詳述
在本發(fā)明中,水溶性還原劑存在于在制備或蒸餾亞烷基二醇或聚亞垸 基二醇的工藝的一個(gè)或多個(gè)階段的反應(yīng)混合物。
環(huán)氧院是1,2-環(huán)氧垸比如環(huán)氧乙垸、環(huán)氧丙烷、1,2-環(huán)氧丁烷、1,2-環(huán) 氧己垸等。相應(yīng)的亞烷基二醇是連位二羥基烷烴,比如1,2-乙二醇、1,2-丙二醇、1,2-丁二醇、1,2-己二醇等。最令人感興趣的亞垸基二醇是1,2-乙 二醇。最令人感興趣的聚亞垸基二醇是二甘醇。下面的論述以亞垸基二醇 作為代表,但是也可適用于聚亞垸基二醇,尤其是DEG、 TEG和TETRA。
7在制備這樣的亞烷基二醇和聚亞垸基二醇的過程中,通常使含有二醇 的工藝流一次或多次地經(jīng)受IO(TC以上的溫度。
例如,通常在由環(huán)氧烷和水的前體混合物形成亞烷基二醇的反應(yīng)器中
遭遇超過IO(TC的溫度。包含在工藝流中的亞烷基二醇可以主要地或者甚
至全部在該反應(yīng)器中形成。例如,進(jìn)入反應(yīng)器的工藝流可以包含前體化合 物(例如,環(huán)氧垸和水),但是可以幾乎不含二醇,或不含二醇。
在例如乙二醇制備的情況下,通常使沒有催化劑的環(huán)氧乙垸和水的混 合物在足以保持所述流的組分(環(huán)氧乙烷、水和產(chǎn)物乙二醇)處于液態(tài)形式
的超大氣壓條件下經(jīng)受IO(TC以上的溫度。羰基化合物可以在這些條件下 在反應(yīng)器中形成。
其中含有二醇的工藝流經(jīng)受這種高溫的另一個(gè)單元操作是蒸餾單元, 其中亞烷基二醇被蒸餾,以使其與雜質(zhì)分離。為了產(chǎn)生更純的產(chǎn)物,亞烷 基二醇的生產(chǎn)設(shè)備可以包含多個(gè)的蒸餾單元,并且它們通常串聯(lián)安置以進(jìn) 行多級蒸餾。在一些二醇生產(chǎn)設(shè)備中,離開二醇反應(yīng)器的粗制二醇被送入 一個(gè)或多個(gè)蒸發(fā)器,在此大量殘留水從二醇中被移除。然后,工藝流被送 到一個(gè)或多個(gè)蒸餾塔,在此含水量降低到ppm的水平,并且其它揮發(fā)性雜 質(zhì)被移除。在一個(gè)或多個(gè)蒸餾單元中的溫度通常在130。C至或超過亞垸基 二醇的正常沸點(diǎn)溫度的范圍內(nèi)。例如,在1大氣壓下,乙二醇在約197'C 沸騰,而1,2-丙二醇在約1S7。C沸騰。亞烷基二醇暴露于這些溫度下通常 導(dǎo)致雜質(zhì),尤其是羰基化合物比如醛和吸收紫外光的化合物的產(chǎn)生。
作為雜質(zhì)的吸收紫外光的化合物至少存在三種通常的類別(1) 1,2-環(huán) 戊二酮類,并且尤其是3-甲基-1,2-環(huán)戊二酮;(2)1,3-環(huán)戊二酮類 (1,3-cyclopentandediones),并且尤其是4-甲基-l,3-環(huán)戊二酮;以及(3)環(huán)戊 烯酮類,并且特別是2-環(huán)戊烯酮。
在本發(fā)明不受限于任何理論的情況下,據(jù)認(rèn)為在一些情況下,羰基化 合物的形成可能與可以周期性地存在于某些反應(yīng)容器中的某些金屬物種 比如金屬氧化物、金屬鹽或金屬離子的存在相關(guān)。能夠形成羰基化合物的 金屬受到特別關(guān)注。這些金屬的主要實(shí)例是鎳和銅。據(jù)認(rèn)為組成的變化趨 向于最通常在啟動、關(guān)閉和在工藝干擾的過程中發(fā)生。據(jù)認(rèn)為這些金屬、 由這些金屬得到的金屬鹽或氧化物可以向下游運(yùn)送到遭遇高溫的單元處理中,在該點(diǎn)它們催化羰基化合物的形成。這個(gè)特定問題被認(rèn)為是在亞垸 基二醇和聚亞烷基二醇的蒸餾單元中形成相當(dāng)大的量的羰基化合物的原 因。
在本發(fā)明不受限于任何理論的情況下,據(jù)認(rèn)為通過利用本發(fā)明,這些 各種類型的副產(chǎn)物的形成由于在工藝流中存在還原劑而得到了抑制。在本 發(fā)明的某些實(shí)施方案中,在含亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的工藝流經(jīng)受 IO(TC以上的溫度時(shí),還原劑有利地存在于該工藝流中。在其它的實(shí)施方 案中,在工藝流經(jīng)受亞垸基二醇或聚亞垸基二醇形成條件時(shí),還原劑存在 于該工藝流中。在另一個(gè)實(shí)施方案中,在亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的蒸 餾過程中,存在還原劑。
還原劑是水溶性的。它應(yīng)當(dāng)在工藝的條件下,不與存在的任何環(huán)氧烷 或亞烷基二醇或聚亞烷基二醇明顯地反應(yīng),但是如果足夠的還原劑可用于
實(shí)現(xiàn)所需的結(jié)果并且如果收率損失不太高,則可以容許一些反應(yīng)。合適的 還原劑包括例如水溶性亞硫酸鹽、亞硫酸氫鹽、偏亞硫酸氫鹽和亞磷酸鹽 化合物,以及羥基胺。優(yōu)選水溶性的亞磷酸鹽、亞硫酸氫鹽和偏亞硫酸氫 鹽。合適的堿金屬亞磷酸鹽、亞硫酸氫鹽和偏亞硫酸氫鹽包括亞硫酸鈉、 亞硫酸氫鈉、偏亞硫酸氫鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鉀、偏亞硫酸氫鉀、亞 硫酸銫、亞硫酸氫銫、偏亞硫酸氫銫、亞硫酸鋰、亞硫酸氫鋰和偏亞硫酸 氫鋰。優(yōu)選亞硫酸鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鈉、亞硫酸氫鉀、偏亞硫酸氫 鈉和偏亞硫酸氫鉀。
還原劑通常有益于總的工藝,并且通??梢员灰氲叫枰墓に囇b 置中,或在某些上游點(diǎn)被引入,從該上游點(diǎn)它通過工藝被輸送至上述的單 元操作。
還原劑可以在亞烷基二醇或聚亞垸基二醇反應(yīng)器的上游引入,或需要 時(shí),可以直接引入到這樣的二醇反應(yīng)器中以控制該反應(yīng)器中雜質(zhì)的形成。 還原劑還可以在這樣的二醇反應(yīng)器的出口和/或在反應(yīng)器的下游(如在下游 蒸餾單元)引入。備選地,還原劑可以被直接引入到亞烷基二醇或聚亞垸基 二醇蒸餾單元,或如果需要控制蒸餾單元中的雜質(zhì)形成,則在任意上游點(diǎn)
引入,從該點(diǎn)還原劑被運(yùn)送到蒸餾單元。在某些情況下,還原劑可以通過添加合適的前體材料原位產(chǎn)生。例如, 可以將亞硫酸、二氧化硫、亞硫酸的有機(jī)酯、亞硫酸氫鹽或亞硫酸鹽與有
機(jī)材料的加成產(chǎn)物或它們的堿金屬鹽添加到pH大于7的工藝流中,以在
原位形成亞硫酸根或亞硫酸氫根離子。
還原劑的量的范圍可以很寬?;诒惶幚淼墓に嚵鞯闹亓?,還原劑可 以占lppb那么少或5"/。那么多。通常地,超過所需要的量不是有害的,但 是它們可能增加不必要的費(fèi)用。可以在需要保持有效水平時(shí)連續(xù)或間歇添 加還原劑。
通常只有在預(yù)期有雜質(zhì)形成時(shí),才需要引入還原劑。這些時(shí)間包括啟 動、關(guān)閉或工藝干擾的時(shí)間。因此,例如,在某些實(shí)施方案中,還原劑可 以在操作的啟動或關(guān)閉階段的過程中添加,或響應(yīng)工藝干擾而添加,作為 防止可能的雜質(zhì)形成的預(yù)防措施。在本發(fā)明的其它實(shí)施方案中,監(jiān)測在工 藝流中是否存在一種或多種雜質(zhì)。在這種情況下,還原劑可以在需要的基 礎(chǔ)上響應(yīng)一種或多種雜質(zhì)的檢測而添加。需要時(shí),在這些情形中可以在作 為預(yù)防措施的操作的整個(gè)期間保持工藝流中還原劑的有效水平。
優(yōu)選量可以根據(jù)在需要它們的工藝中的特定點(diǎn)變化。關(guān)注的主要問題 通常是羰基化合物的形成。在這種情況下,優(yōu)選量是10ppb至5重量Y。, 更優(yōu)選量是約50 ppb至3重量%,并且最優(yōu)選量特別是100 ppb至3重量 %。
除了將有效量的還原劑供給到合適的工藝流中之外,通常不需要進(jìn)一 步調(diào)節(jié)制備亞烷基二醇或聚亞烷基二醇或蒸餾亞烷基二醇或聚亞垸基二 醇的工藝。用于亞烷基二醇或聚亞垸基二醇形成反應(yīng)以及產(chǎn)物流的后續(xù)處 理的條件都可以以與沒有還原劑時(shí)相同的方式操作。例如,在美國專利 4,822,926、 3,922,314和6,514,388中描述用于環(huán)氧烷與水反應(yīng)形成相應(yīng)的 亞垸基二醇的合適條件。例如,在美國專利6,437,199中描述了用于操作 整體環(huán)氧乙烷/乙二醇工藝的合適條件。在其中描述的條件通常適合用于本 發(fā)明。
典型地,亞烷基二醇和水反應(yīng)制備環(huán)氧垸的條件將包括高溫,比如100 至210。C,尤其是140至20(TC。反應(yīng)條件還典型地包括超大氣壓,比如 200 psig至500 psig (379至3448 kPa)或更大。水通常以相對于環(huán)氧垸化學(xué)
10計(jì)量過量的量存在。以起始的反應(yīng)混合物中每摩爾的環(huán)氧烷計(jì),可以存在
1至15摩爾的水。反應(yīng)可以被催化。在美國專利5,260,495中描述了用于 環(huán)氧烷到相應(yīng)二醇的反應(yīng)的合適催化劑。
下面的實(shí)施例被提供用于說明本發(fā)明,但是并沒有意圖限制本發(fā)明的 范圍。所有的份和百分比都是以重量計(jì)的,除非另有說明。
實(shí)施例1
向被供給有140 kg/s的重量比約為1:14的環(huán)氧乙垸和水的乙二醇反應(yīng) 器的進(jìn)口 ,以50 kg/h的速率供給2.5重量%的亞硫酸鈉/硫酸鈷溶液。在 添加亞硫酸鈉/硫酸鈷溶液之前,餾出物含有按乙醛計(jì)算的14.5ppm的羰 基化合物,并且在220 nm的紫外光透射率為96.5%,在250nm的紫外光 透射率為94.0%以及在275 nm的紫外光透射率為96.9%。在添加亞硫酸鈉 /硫酸鈷溶液之后,餾出物的羰基含量下降至10ppm,并且在220nm的紫 外光透射率增加至98.1%,在250 nm的的紫外光透射率增加至96.8%以及 在275 nm的紫外光透射率增加至98.6%。
實(shí)施例2
向被供給有13.0 kg/s的粗制乙二醇的乙二醇蒸餾塔的進(jìn)口,以10L/h 的速率供給2.5重量%的亞硫酸鈉/硫酸鈷溶液。在添加亞硫酸鈉/硫酸鈷溶 液之前,餾出物含有按乙醛計(jì)算的14.0 ppm的羰基化合物,并且在275 nm 的紫外光透射率為98.0%。在添加亞硫酸鈉/硫酸鈷溶液之后,餾出物的羰 基含量下降至1.5 ppm,并且在275 nm的紫外光透射率增加至99.5%。
權(quán)利要求
1.一種方法,所述方法包括將含有一種或多種亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的工藝流加熱到至少100℃的溫度,其中所述工藝流還包含占所述工藝流的1ppb(十億分之一)至5重量%的水溶性還原劑。
2. 權(quán)利要求l所述的方法,其中所述亞烷基二醇為乙二醇,并且所述 聚亞垸基二醇為二甘醇、三甘醇或四甘醇。
3. 權(quán)利要求2所述的方法,其中所述還原劑是水溶性的亞硫酸鹽、亞 硫酸氫鹽、偏亞硫酸氫鹽或亞磷酸鹽化合物、羥基胺或它們的兩種以上的 混合物。
4. 權(quán)利要求3所述的方法,其中所述還原劑是亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、 偏亞硫酸氫鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鉀、偏亞硫酸氫鉀、亞硫酸銫、亞硫 酸氫銫、偏亞硫酸氫銫、亞硫酸鋰、亞硫酸氫鋰、偏亞硫酸氫鋰或它們的 兩種以上的混合物。
5. 權(quán)利要求4的方法,其中所述工藝流含有50 ppb至3重量%的所述 還原劑。
6. —種方法,所述方法包括使含有環(huán)氧烷和一種或多種的水或聚亞烷 基二醇的反應(yīng)混合物經(jīng)受包括足以將所述環(huán)氧烷的至少一部分轉(zhuǎn)化成相 應(yīng)的亞垸基二醇或相應(yīng)的聚亞垸基二醇的高溫的反應(yīng)條件,其中所述反應(yīng) 混合物還含有占所述反應(yīng)混合物的1 ppb至5重量%的水溶性還原劑。
7. 權(quán)利要求6所述的方法,其中所述環(huán)氧烷為環(huán)氧乙烷,并且所述聚 亞烷基二醇為二甘醇、三甘醇或四甘醇。
8. 權(quán)利要求7所述的方法,其中所述還原劑是水溶性的亞硫酸鹽、亞 硫酸氫鹽、偏亞硫酸氫鹽或亞磷酸鹽化合物、羥基胺或它們的兩種以上的 混合物。
9. 權(quán)利要求8所述的方法,其中所述還原劑是亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、 偏亞硫酸氫鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鉀、偏亞硫酸氫鉀、亞硫酸銫、亞硫 酸氫銫、偏亞硫酸氫銫、亞硫酸鋰、亞硫酸氫鋰、偏亞硫酸氫鋰或它們的 兩種以上的混合物。
10. 權(quán)利要求9所述的方法,其中所述工藝流含有50ppb至3重量y。的所述還原劑。
11. 權(quán)利要求6所述的方法,其中在使所述工藝流經(jīng)受包括足以將所 述環(huán)氧烷的至少一部分轉(zhuǎn)化成一種或多種相應(yīng)的亞烷基二醇或聚亞烷基 二醇的高溫的反應(yīng)條件時(shí),將所述還原劑添加到所述工藝流中。
12. 權(quán)利要求6所述的方法,其中在使所述反應(yīng)混合物經(jīng)受包括足以 將所述環(huán)氧垸的至少一部分轉(zhuǎn)化成一種或多種相應(yīng)的亞烷基二醇或聚亞 烷基二醇的高溫的反應(yīng)條件之前,將所述還原劑添加到所述工藝流中。
13. —種方法,所述方法包括將含有一種或多種亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的混合物蒸餾,其中所述混合物含有l(wèi) ppb至5重量。/。的堿金屬亞硫酸氫鹽、堿金屬亞硫酸鹽、堿金屬偏亞硫酸氫鹽或它們的兩種以上的組 合。
14. 權(quán)利要求13所述的方法,其中所述亞烷基二醇為乙二醇,并且所 述聚亞烷基二醇為聚乙二醇。
15. 權(quán)利要求14所述的方法,其中所述還原劑是水溶性的亞硫酸鹽、 亞硫酸氫鹽、偏亞硫酸氫鹽或亞磷酸鹽化合物、羥基胺或它們的兩種以上 的混合物。
16. 權(quán)利要求15所述的方法,其中所述還原劑是亞硫酸鈉、亞硫酸氫 鈉、偏亞硫酸氫鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸氫鉀、偏亞硫酸氫鉀、亞硫酸銫、 亞硫酸氫銫、偏亞硫酸氫銫、亞硫酸鋰、亞硫酸氫鋰、偏亞硫酸氫鋰或它 們的兩種以上的混合物。
17. 權(quán)利要求16所述的方法,其中所述工藝流含有50 ppb至3重量%的所述還原劑。
18. 權(quán)利要求1所述的方法,所述方法還包括監(jiān)測所述工藝流中是否 存在羰基化合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物中的一種或多種,并且 響應(yīng)所述羰基化合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物的檢測而添加所述 還原劑。
19. 權(quán)利要求6所述的方法,所述方法還包括監(jiān)測所述工藝流中是否 存在羰基化合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物,并且響應(yīng)所述羰基化 合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物的檢測而添加所述還原劑。
20.權(quán)利要求13所述的方法,所述方法還包括監(jiān)測所述工藝流中是否 存在羰基化合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物,并且響應(yīng)所述羰基化 合物、金屬物種和吸收紫外光的化合物的檢測而添加所述還原劑。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種通過環(huán)氧烷和水的反應(yīng)制備一種或多種亞烷基二醇或聚亞烷基二醇的方法,由此降低所產(chǎn)生的不需要的副產(chǎn)物比如羰基化合物、吸收紫外光的化合物和各種金屬物種的水平。
文檔編號C07C29/10GK101568506SQ200780047258
公開日2009年10月28日 申請日期2007年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月22日
發(fā)明者理查德·C·霍伊, 路易斯·A·卡皮卡克 申請人:陶氏技術(shù)投資有限公司
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