硅片制絨系統(tǒng)及其鼓泡裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種硅片制絨系統(tǒng)及其鼓泡裝置。該鼓泡裝置用于設(shè)置在硅片制絨系統(tǒng)的工作槽中，包括多孔板和通氣管；所述多孔板用于設(shè)置在所述工作槽中，所述多孔板上開設(shè)有多個第一孔；所述通氣管用于設(shè)置在所述多孔板的靠近所述工作槽的底部的一側(cè)，所述通氣管內(nèi)開設(shè)有通氣通道，所述通氣管的內(nèi)壁上開設(shè)有多個第二孔。上述硅片制絨系統(tǒng)及其鼓泡裝置，不僅能提高工作中工作液的流動性，使得工作內(nèi)工作液均勻分布，且使得整個硅片表面與工作液充分接觸，使得硅片表面均勻。
【專利說明】
硅片制絨系統(tǒng)及其鼓泡裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及硅片加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種鼓泡裝置及具有該鼓泡裝置的硅片制絨系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]硅片加工方式正在由傳統(tǒng)的砂漿切割轉(zhuǎn)換成新型的金剛線切割技術(shù)，金剛線切割可以大幅降低生產(chǎn)成本，同時更符合綠色生產(chǎn)理念。針對新型的金剛線切割工藝，尤其是樹脂金剛線切割多晶硅片的加工過程中，存在金剛線硅片制絨表面不均勻，嚴(yán)重降低金剛線電池片的轉(zhuǎn)化效率的問題。
[0003]采用金剛線切割方式加工的硅片在后續(xù)制絨或清洗時，工作液在工作槽中流動不均勻，在反應(yīng)時間內(nèi)工作液與硅片表面接觸時間與局部濃度不一致，導(dǎo)致硅片表面結(jié)構(gòu)不均勻，進而嚴(yán)重降低最終電池的轉(zhuǎn)化效率。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]基于此，有必要針對如何提高工作槽中的工作液的流動均勻性的問題，提供一種鼓泡裝置及具有該鼓泡裝置的硅片制絨系統(tǒng)。
[0005]—種鼓泡裝置，用于設(shè)置在硅片制絨系統(tǒng)的工作槽中，包括:
[0006]多孔板，所述多孔板用于設(shè)置在所述工作槽中，所述多孔板上開設(shè)有多個第一孔；以及
[0007]通氣管，所述通氣管用于設(shè)置在所述多孔板的靠近所述工作槽的底部的一側(cè)，所述通氣管內(nèi)開設(shè)有通氣通道，所述通氣管的內(nèi)壁上開設(shè)有多個第二孔。
[0008]上述鼓泡裝置，通過將其設(shè)置在裝有工作液的工作槽中，鼓泡裝置包括多孔板和通氣管，多孔板上開設(shè)有多個第一孔，通氣管設(shè)置在多孔板靠近工作槽的底部的一側(cè)，且通氣管的內(nèi)壁上開設(shè)有多個第二孔，從而當(dāng)氣體進入通氣管后，氣體會從第二孔中流出，氣體再經(jīng)過開設(shè)在多孔板上的第一孔，從而氣體將工作槽中的工作液均勻鼓動，進而改善工作槽中的工作液的流動均勻性。
[0009]在其中一個實施例中，所述第一孔為錐形孔，且所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的面積大于所述第一孔的遠離所述通氣管的開口的面積。
[0010]通過將第一孔設(shè)置為錐形孔，從而使得氣體經(jīng)過第一孔的時候，調(diào)整氣體上升的速率，進而進一步提高工作槽中工作液的流動均勻性。
[0011]在其中一個實施例中，所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的形狀為圓形，且所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的孔徑為1.5厘米-2.5厘米，所述第一孔的遠離所述通氣管的開口的孔徑為3暈米-6暈米。
[0012]在其中一個實施例中，所述多孔板的厚度為0.8厘米-1.3厘米。
[0013]在其中一個實施例中，所述多孔板的開孔率為0.5-0.9。
[0014]在其中一個實施例中，所述通氣管呈連續(xù)S狀設(shè)置。
[0015]在其中一個實施例中，所述多個第二孔開設(shè)在所述通氣管的遠離所述多孔板的一側(cè)的內(nèi)壁上。
[0016]通過將多個第二孔開設(shè)在通氣管的遠離多孔板的一側(cè)的內(nèi)壁上，從而氣體通過第二孔后垂直地向工作槽的底部流動，氣體再從工作槽的底部慢慢往上流動，從而使得工作液被更加均勻鼓動，進一步提高工作槽中工作液的流動均勻性。
[0017]在其中一個實施例中，所述多個第二孔的孔徑小于I毫米。
[0018]在其中一個實施例中，從所述多孔板的邊緣到所述多孔板的中心的方向，所述多個第二孔的分布密度逐步增大。
[0019]在其中一個實施例中，還包括支架，所述支架用于設(shè)置在所述多孔板靠近所述工作槽的底部的一側(cè)，所述支架包括兩個基板和連接所述兩個基板的連接部，所述兩個基板分別與所述多孔板連接，且所述兩個基板呈對稱設(shè)置，所述通氣管設(shè)置在所述多孔板與所述支架之間。
[0020]一種硅片制絨系統(tǒng)，其特征在于，包括工作槽和上述鼓泡裝置，所述鼓泡裝置設(shè)置在所述工作槽中。
[0021 ]上述硅片制絨系統(tǒng)，通過鼓泡裝置，使得工作槽中的工作液被均勻鼓動，提高工作液的流動均勻性。
【附圖說明】
[0022]圖1為一實施例的多孔板的俯視圖；
[0023]圖2為圖1中所不的多孔板的仰視圖；
[0024]圖3為一實施例的通氣管的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖4為一實施例的支架的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0026]如圖1所示，一實施例的鼓泡裝置包括多孔板110和通氣管(未示出)。該鼓泡裝置用于設(shè)置在硅片制絨系統(tǒng)的工作槽中，尤其是金剛線切割方式加工的硅片的制絨系統(tǒng)中。該工作槽中盛有工作液。
[0027]具體地，多孔板110設(shè)置在工作槽中。在本實施例中，多孔板110的厚度為0.8厘米-1.3厘米。通氣管用于設(shè)置在多孔板110的靠近工作槽的底部的一側(cè)，通氣管內(nèi)開設(shè)有通氣通道。
[0028]在本實施例中，多孔板110和工作槽的內(nèi)壁接觸連接。再參考圖2，多孔板110上開設(shè)有多個第一孔111。多孔板110的開孔率為0.5-0.9。其中，第一孔111的數(shù)量和分布根據(jù)可以根據(jù)硅片的大小和工作液的多少等進行確定。
[0029]在本實施例中，如圖1所示，第一孔111為錐形孔，且第一孔111的靠近通氣管的開口 1111的面積大于第一孔111的遠離通氣管的開口 1112的面積，也就是說，第一孔111的橫截面在從工作槽的底部到工作槽的開口的方向上逐漸增大。通過將第一孔設(shè)置為錐形孔，從而使得氣體經(jīng)過第一孔的時候，氣體的上升速率得到控制，且使得氣體擴散的時候更加均勻，進而進一步提高工作槽中工作液的流動均勻性，使得硅片制絨結(jié)構(gòu)更均勻。
[0030]此外，第一孔111的開口 1111的形狀為圓形，第一孔111的開口 1112的形狀也為圓形，且第一孔111的開口 1111的孔徑為1.5厘米-2.5厘米，第一孔111的開口 1112的孔徑為3毫米-6毫米，從而保證通氣管中流出的氣體能全部通過第一孔111，同時，還能均勻鼓動工作液。
[0031]再參考圖3，通氣管120上開設(shè)有第二孔121，且通氣管120呈連續(xù)S狀設(shè)置。需要說明的是，通氣管120可以直接與多孔板110連接或通氣管120也可以與工作槽的內(nèi)壁連接等。通氣管120由耐酸堿的材質(zhì)制成。在本實施例中，通氣管120為耐酸堿的軟管。
[0032]當(dāng)通氣管120呈連續(xù)S狀設(shè)置時，使得從第二孔121上出來的氣體對更多反應(yīng)液起到鼓動作用，不會導(dǎo)致氣體集中在某一個區(qū)域，進而導(dǎo)致氣體對反應(yīng)液的鼓動部均勻。
[0033]因此，在本實施例中，如圖4所示，鼓泡裝置還包括支架130，支架130設(shè)置在多孔板110的靠近工作槽的底部的一側(cè)。支架130包括兩個基板131和連接兩個基板131的連接部132。兩個基板131分別與多孔板110連接，且兩個基板131呈對稱設(shè)置，優(yōu)選地，兩個基板131還跟工作槽的內(nèi)壁接觸連接。
[0034]再參考圖4，連接部132的數(shù)量為兩個，兩個連接部132呈平行設(shè)置。需要說明的是，連接部132的數(shù)量可以為一個，也可以為兩個以上。
[0035]通過支架130的設(shè)置，從而固定通氣管120，通氣管120設(shè)置在多孔板110和支架130之間。通氣管120穿過多孔板110和支架130的連接部132之間的空隙，且通氣管120呈連續(xù)S型。
[0036]此外，在本實施例中，多個第二孔121開設(shè)在通氣管120的遠離多孔板110的一側(cè)的內(nèi)壁上。從而氣體通過第二孔121后垂直地向工作槽的底部流動，氣體再從工作槽的底部慢慢往上流動，從而使得工作液被更加均勻鼓動，進一步提高工作槽中工作液的流動均勻性。
[0037]第二孔121的孔徑小于I毫米，且從多孔板110的邊緣到多孔板110的中心位置的方向，多個第二孔121的分布密度逐步增大，也就是說，通氣管120越靠近工作槽的內(nèi)壁的部分的內(nèi)壁上開設(shè)的第二孔121的數(shù)量越少。從而使得較多的氣體由反應(yīng)槽中間區(qū)域擴散出來，氣體再向反應(yīng)槽的四周擴散，使得氣體擴散更加均勻，進而使得反應(yīng)液的鼓動更加均勻。
[0038]在本實施例中，工作槽為反應(yīng)槽或清洗槽。由于采用金剛線切割方式加工而成的硅片的表面不均勻，從而將該硅片放置在在反應(yīng)槽中通過反應(yīng)液進行制絨時，反應(yīng)液在反應(yīng)槽中不均勻，在反應(yīng)時間內(nèi)制絨液與硅片表面接觸時間與局部濃度也不一致，從而會導(dǎo)致硅片表面結(jié)構(gòu)不均勻。根據(jù)實際需要，通過調(diào)節(jié)氣體流量調(diào)節(jié)氣泡大小，提高反應(yīng)槽中的反應(yīng)液的流動性，使得反應(yīng)槽內(nèi)反應(yīng)液均勻分布，且使得整個硅片表面與反應(yīng)液充分接觸，從而金剛線硅片制絨時硅片表面結(jié)構(gòu)均勻，進而提高電池的轉(zhuǎn)化效率。
[0039]此外，當(dāng)工作槽為清洗槽時，金剛線切割中由于使用水基冷卻液，更易促使硅粉與水反應(yīng)，而此種無定型態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物會造成后期清洗困難，造成清洗槽內(nèi)清洗液的流動性差，會造成硅片表面臟污殘留，經(jīng)常出現(xiàn)臟污硅片，必須進行返工清洗、增加清洗劑、延長清洗時間等操作，使工作效率降低、加工成本增加。而通過在清洗槽中設(shè)置鼓泡裝置，通過氣體的鼓動作用，提高清洗槽中的清洗液的流動性，使得清洗槽內(nèi)工作液均勻分布，且使得整個硅片表面與清洗液充分接觸，進而清洗時，硅片表面的臟污能被充分洗凈。
[0040]上述鼓泡裝置，通過將其設(shè)置在裝有工作液的工作槽中，鼓泡裝置包括多孔板110和通氣管120，多孔板110上開設(shè)有多個第一孔111，通氣管120設(shè)置在多孔板110靠近工作槽的底部的一側(cè)，且通氣管120的內(nèi)壁上開設(shè)有多個第二孔121，從而當(dāng)氣體進入通氣管120后，氣體會從第二孔121中流出，氣體再經(jīng)過開設(shè)在多孔板110上的第一孔111，從而氣體將工作槽中的工作液均勻鼓動，進而改善工作槽中的工作液的流動均勻性。
[0041]—實施例的硅片制絨系統(tǒng)，包括上述鼓泡裝置和工作槽。鼓泡裝置設(shè)置在工作槽中。
[0042]上述硅片制絨系統(tǒng)，通過鼓泡裝置，使得工作槽中的工作液被均勻鼓動，提高工作液的流動均勻性。
[0043]以上所述實施例的各技術(shù)特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術(shù)特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。
[0044]以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【主權(quán)項】
1.一種鼓泡裝置，用于設(shè)置在硅片制絨系統(tǒng)的工作槽中，其特征在于，包括: 多孔板，所述多孔板用于設(shè)置在所述工作槽中，所述多孔板上開設(shè)有多個第一孔；以及 通氣管，所述通氣管用于設(shè)置在所述多孔板的靠近所述工作槽的底部的一側(cè)，所述通氣管內(nèi)開設(shè)有通氣通道，所述通氣管的內(nèi)壁上開設(shè)有多個第二孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述第一孔為錐形孔，且所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的面積大于所述第一孔的遠離所述通氣管的開口的面積。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的形狀為圓形，且所述第一孔的靠近所述通氣管的開口的孔徑為1.5厘米-2.5厘米，所述第一孔的遠離所述通氣管的開口的孔徑為3毫米-6毫米。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述多孔板的開孔率為0.5-0.9。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述通氣管呈連續(xù)S狀設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述多個第二孔開設(shè)在所述通氣管的遠離所述多孔板的一側(cè)的內(nèi)壁上。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，所述多個第二孔的孔徑小于I毫米。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，從所述多孔板的邊緣到所述多孔板的中心的方向，所述多個第二孔的分布密度逐步增大。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鼓泡裝置，其特征在于，還包括支架，所述支架用于設(shè)置在所述多孔板靠近所述工作槽的底部的一側(cè)，所述支架包括兩個基板和連接所述兩個基板的連接部，所述兩個基板分別與所述多孔板連接，且所述兩個基板呈對稱設(shè)置，所述通氣管設(shè)置在所述多孔板與所述支架之間。10.—種硅片制絨系統(tǒng)，其特征在于，包括工作槽和權(quán)利要求1-9中任一項所述的鼓泡裝置，所述鼓泡裝置設(shè)置在所述工作槽中。
【文檔編號】H01L31/18GK205501451SQ201620278836
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年4月6日
【發(fā)明人】阮文娟, 陳鵬鯤, 吉鑫, 宮龍飛
【申請人】蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司