本發(fā)明涉及一種陶瓷制作方法，特別涉及一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷及其制作方法和應(yīng)用，屬于環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

我國的經(jīng)濟發(fā)展達到了一定高度。但是，環(huán)境污染極其嚴(yán)重，人們的環(huán)保意識發(fā)生了根本性轉(zhuǎn)變，要求有良好的生存環(huán)境和生活質(zhì)量；其中生活環(huán)境的健康極其重要。

隨著人們環(huán)保意識的增強和生活水平的日益提高，以及科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，對呼吸多功能性陶瓷材料的需求會大大增加。對呼吸多功能陶瓷材料的需求和研究，也日漸增多。

自上個世紀(jì)80年代起日本就開始研發(fā)呼吸功能陶瓷材料，其中日本在該材料產(chǎn)品的研發(fā)應(yīng)用方面領(lǐng)先世界，成果應(yīng)用覆蓋文物保存、紡織、化工、建筑材料等多個領(lǐng)域。近年來西班牙、德國等西方國家也先后開展對調(diào)濕材料的研究。隨著人們對環(huán)境的要求，對這類材料的要求不單單是環(huán)境意義，而上升到環(huán)保高度。目前日本、韓國等一些國家的呼吸功能陶瓷市場已經(jīng)比較成熟，相比而言，國內(nèi)呼吸功能陶瓷無論研發(fā)還是市場都尚屬于初級階段，國內(nèi)消費者對于呼吸功能陶瓷的概念也不甚了解，不過隨著人們對節(jié)能環(huán)保的重視，未來呼吸功能陶瓷的市場極為廣闊。

目前市面上銷售的瓷磚分為:釉面磚、通體磚、拋光磚、?；u及馬賽克等,一般采用黏土、粉狀石英和長石材料制造。產(chǎn)品用來作為建筑物墻面的裝飾材料，根據(jù)不同的需要用在不同的地方,還有有些功能瓷磚,如專利申請CN103553564A公開了一種以硅藻土為主要成分制作具有吸放性功能的瓷磚的方法,生產(chǎn)的硅藻土瓷磚具有吸放功能,普通瓷磚基本上只有裝飾功能,對室內(nèi)環(huán)境的改善方面幾乎沒有作用,硅藻土瓷磚雖然有部分調(diào)節(jié)室內(nèi)濕度的作用,但由于其工藝原因使得其吸附效果大為減弱,理由如下:硅藻土含有大量的微孔,它在未燒成前就具有調(diào)節(jié)濕度的功能,硅藻土在生產(chǎn)過程中空洞易被密封，在高溫過程中硅藻的空隙易被破壞，微孔不易連接，形成閉孔，從而使得吸附性、流通性和釋放性降低。

國內(nèi)還用海泡石，沸石，麥飯石原料做的呼吸磚，因為本身有大量的微孔，具有一定的吸附作用，但是沒粘性，無法凝固，加入粘性料成型，造成微孔阻塞的，如果進行燒成因有大量的鈣，鎂，鐵，鉀，鈉，溫度的升高，失去了微孔的結(jié)構(gòu)。海泡石，沸石，麥飯石因含鐵量高，坯體顏色不好控制，燒成的磚檔次也低。天然海泡石，沸石，麥飯石原料比較稀少，不適合做呼吸磚。

因此，如何提高呼吸磚的吸附能力和分解轉(zhuǎn)化能力是新型呼吸磚的技術(shù)焦點。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷及其制作方法和應(yīng)用，提高了呼吸材料的吸放性能，從而克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足。

為實現(xiàn)前述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案包括：

發(fā)明實施例提供一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷，包括：坯體和依次覆設(shè)在坯體上的第一釉面層和第二釉面層，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層均具有多孔結(jié)構(gòu)，所述多孔結(jié)構(gòu)包括復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔，所述的復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔相互連通形成通道網(wǎng)絡(luò)。

優(yōu)選的，所述陶瓷中均勻分布有負(fù)離子發(fā)生材料。

優(yōu)選的，至少所述第二釉面層包含有光催化材料。

優(yōu)選的，所述納米孔的孔徑為1～500nm。

優(yōu)選的，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

優(yōu)選的，所述第一釉面層和第二釉面層的形狀和坯體形狀相同。

優(yōu)選的，所述坯體的厚度為5mm以上，優(yōu)選為5～20mm。

優(yōu)選的，所述第一釉面層的厚度為1～500μm。

優(yōu)選的，所述第二釉面層的厚度為1～300μm。

進一步的，所述多功能負(fù)離子陶瓷的孔隙率在20％以上，優(yōu)選為30～60％。

本發(fā)明實施例一方面提供了一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的制作方法，包括：

提供坯體原料，所述坯體原料包括：

將所述坯體原料混合粉碎，將所述坯體原料后處理形成坯粉料，再將所述坯粉料壓制形成坯體，之后將所述坯體干燥處理形成半成品；

提供第一釉面原料，所述第一釉面原料包括：

將所述第一釉面原料混合粉碎，制成第一釉料，將所述第一釉料覆設(shè)于所述半成品上，形成第一釉面層；

提供第二釉面原料，所述第二釉面原料包括：

將所述第二釉面材料混合粉碎，制成第二釉料，將所述第二釉料覆設(shè)于所述第一釉面層上，形成第二釉面層，之后進行燒制；優(yōu)選的，所述燒制溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述制作方法還可以是：

將所述第一釉面原料混合粉碎，制成第一釉料，將所述第一釉料覆設(shè)于所述半成品上，形成第一釉面層，之后進行第一次燒制；優(yōu)選的，所述第一次燒制溫度為700～1000℃，第一次燒制時間為30～150分鐘；

將所述第二釉面材料混合粉碎，制成第二釉料，將所述第二釉料覆設(shè)于所述第一釉面層上，形成第二釉面層，之后進行第二次燒制；優(yōu)選的，所述第二次燒制溫度為600℃以下，優(yōu)選為400～600℃，第二次燒制時間為20～100分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述后處理包括噴霧和/或干燥處理。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯粉料的含水率為7.0～9.0wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯粉料的粒徑分布為：20目以上0～5wt％，20～45目60～75wt％，45～60目15～20wt％，60～100目8～15wt％，100目以下0～10wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體的成型壓力為300kg/cm²～450kg/cm²。

在一些較為具體的實施方案中，所述半成品的含水率小于0.5wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述半成品的出坯溫度是20～100℃。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面層的形成方式包括噴涂、離心、印刷中的任意一種或兩種以上的組合，但不限于此。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.9g/cm³。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面材料的施釉量為50g/m²～500g/m²。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面層的形成方式包括噴涂。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.6g/cm³。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面材料施釉量為20g/m²～300g/m²。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層都具有復(fù)數(shù)個納米孔和/或微米孔，并且復(fù)數(shù)個所述納米孔和/或微米孔相互連通形成網(wǎng)狀微通道；優(yōu)選的，所述納米孔的孔徑為1～500nm，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

優(yōu)選的，所述多功能負(fù)離子陶瓷的孔隙率在20％以上，優(yōu)選為30～60％。

本發(fā)明還提供了一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料，包括坯體和依次覆設(shè)在坯體上的第一釉面層和第二釉面層，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層均具有多孔結(jié)構(gòu)，所述多孔結(jié)構(gòu)包括復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔，所述的復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔相互連通形成通道網(wǎng)絡(luò)，所述陶瓷材料中均勻分布有負(fù)離子發(fā)生材料，并且至少所述第二釉面層包含有光催化材料。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體主要由質(zhì)量比為(20～70)：(5～40)：(0～50)：(5～60)：(0～30)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～30)：(0～5)的氫氧化鋁、(火山灰、硅灰、煙道灰)、硅砂、可塑性粘土、碳塊、負(fù)離子粉、納米造孔劑、硼砂、玻璃、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

所述第一釉面層主要由質(zhì)量比為(0～100)：(0～60)：(3～100)：(5～100)：(0～60)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～10)的坯體原料、硅酸鋯、球土、無害低熔點熔塊、氫氧化鋁、納米造孔劑、負(fù)離子粉、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

所述第二釉面層主要由質(zhì)量比為(0～100)：(3～50)：(0～80)：(0～5)：(0～5)：(0～10)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～10)的硅砂、球土、無害低熔點熔塊、金紅石型二氧化鈦、銳鈦型二氧化鈦、氧化鋅、納米造孔劑、負(fù)離子粉、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

優(yōu)選的，所述燒制溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述陶瓷材料包括如下化學(xué)組分：

在一些較為具體的實施方案中，所述納米孔的孔徑為1～500nm。

在一些較為具體的實施方案中，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

本發(fā)明還提供了所述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料于建筑領(lǐng)域的應(yīng)用。

例如將所述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料作為裝飾材料。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點包括：本發(fā)明提供的能呼吸的多功能負(fù)離子新型陶瓷具有大量的納米微孔，其可以對各種分子量的有害氣體進行吸附，并且具有良好的脫附作用；而且可以釋放負(fù)離子，起到凈化空氣作用；

另外本發(fā)明提供的陶瓷可以在光的作用下對有害氣體進行催化分解，大大提高了凈化效果和使用壽命；

以及，本發(fā)明提供的陶瓷是低溫?zé)?，與內(nèi)墻瓷磚相比計算，能源使用量約減少44％，導(dǎo)致全球變暖物質(zhì)的二氧化碳也減少52％，本發(fā)明還使用各煙道產(chǎn)生的爐渣，廢玻璃，使得廢舊原料重新得到循環(huán)利用，也大大節(jié)約了生產(chǎn)成本。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一典型實施案例中能呼吸多功能負(fù)離子陶瓷的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一典型實施案例中能呼吸多功能負(fù)離子陶瓷的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖標(biāo)記說明：1-第一釉面層；2-第二釉面層；3-坯體。

具體實施方式

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本案發(fā)明人經(jīng)長期研究和大量實踐，得以提出本發(fā)明的技術(shù)方案。如下將對該技術(shù)方案、其實施過程及原理等作進一步的解釋說明。

為實現(xiàn)前述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案包括：

本發(fā)明實施例提供一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷，包括：坯體和依次覆設(shè)在坯體上的第一釉面層和第二釉面層，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層均具有多孔結(jié)構(gòu)，所述多孔結(jié)構(gòu)包括復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔，所述的復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔相互連通形成通道網(wǎng)絡(luò)。

優(yōu)選的，所述陶瓷中均勻分布有負(fù)離子發(fā)生材料。

優(yōu)選的，至少所述第二釉面層包含有光催化材料。

優(yōu)選的，所述納米孔的孔徑為1～500nm。

優(yōu)選的，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

優(yōu)選的，所述第一釉面層和第二釉面層的形狀和坯體形狀相同。

優(yōu)選的，所述坯體的厚度為5mm以上，優(yōu)選為5～20mm。

優(yōu)選的，所述第一釉面層的厚度為1～500μm。

優(yōu)選的，所述第二釉面層的厚度為1～300μm。

進一步的，所述多功能負(fù)離子陶瓷的孔隙率在20％以上，優(yōu)選為30～60％。

本發(fā)明實施例一方面提供了一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的制作方法，包括：

提供坯體原料，所述坯體原料包括：

將所述坯體原料混合粉碎，將所述坯體原料后處理形成坯粉料，再將所述坯粉料壓制形成坯體，之后將所述坯體干燥處理形成半成品；

提供第一釉面原料，所述第一釉面原料包括：

將所述第一釉面原料混合粉碎，制成第一釉料，將所述第一釉料覆設(shè)于所述半成品上，形成第一釉面層；

提供第二釉面原料，所述第二釉面原料包括：

將所述第二釉面材料混合粉碎，制成第二釉料，將所述第二釉料覆設(shè)于所述第一釉面層上，形成第二釉面層，之后進行燒制；優(yōu)選的，所述燒制溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述制作方法還可以是：

將所述第一釉面原料混合粉碎，制成第一釉料，將所述第一釉料覆設(shè)于所述半成品上，形成第一釉面層，之后進行第一次燒制；優(yōu)選的，所述第一次燒制溫度為700～1000℃，第一次燒制時間為30～150分鐘；

將所述第二釉面材料混合粉碎，制成第二釉料，將所述第二釉料覆設(shè)于所述第一釉面層上，形成第二釉面層，之后進行第二次燒制；優(yōu)選的，所述第二次燒制溫度為600℃以下，優(yōu)選為400～600℃，第二次燒制時間為20～100分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述后處理包括噴霧和/或干燥處理。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯粉料的含水率為7.0～9.0wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯粉料的粒徑分布為：20目以上0～5wt％，20～45目60～75wt％，45～60目15～20wt％，60～100目8～15wt％，100目以下0～10wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體的成型壓力為300kg/cm²～450kg/cm²。

在一些較為具體的實施方案中，所述半成品的含水率小于0.5wt％。

在一些較為具體的實施方案中，所述半成品的出坯溫度是20～100℃。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面層的形成方式包括噴涂、離心、印刷中的任意一種或兩種以上的組合，但不限于此。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.9g/cm³。

在一些較為具體的實施方案中，所述第一釉面材料的施釉量為50g/m²～500g/m²。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面層的形成方式包括噴涂。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.6g/cm³。

在一些較為具體的實施方案中，所述第二釉面材料施釉量為20g/m²～300g/m²。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層都具有復(fù)數(shù)個納米孔和/或微米孔，并且復(fù)數(shù)個所述納米孔和/或微米孔相互連通形成網(wǎng)狀微通道；優(yōu)選的，所述納米孔的孔徑為1～500nm，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

優(yōu)選的，所述多功能負(fù)離子陶瓷的孔隙率在20％以上，優(yōu)選為30～60％。

本發(fā)明還提供了一種能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料，包括坯體和依次覆設(shè)在坯體上的第一釉面層和第二釉面層，所述坯體、第一釉面層和第二釉面層均具有多孔結(jié)構(gòu)，所述多孔結(jié)構(gòu)包括復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔，所述的復(fù)數(shù)個微米孔和復(fù)數(shù)個納米孔相互連通形成通道網(wǎng)絡(luò)，所述陶瓷材料中均勻分布有負(fù)離子發(fā)生材料，并且至少所述第二釉面層包含有光催化材料。

在一些較為具體的實施方案中，所述坯體主要由質(zhì)量比為(20～70)：(5～40)：(0～50)：(5～60)：(0～30)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～30)：(0～5)的氫氧化鋁、(火山灰、硅灰、煙道灰)、硅砂、可塑性粘土、碳塊、負(fù)離子粉、納米造孔劑、硼砂、玻璃、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

所述第一釉面層主要由質(zhì)量比為(0～100)：(0～60)：(3～100)：(5～100)：(0～60)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～10)的坯體原料、硅酸鋯、球土、無害低熔點熔塊、氫氧化鋁、納米造孔劑、負(fù)離子粉、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

所述第二釉面層主要由質(zhì)量比為(0～100)：(3～50)：(0～80)：(0～5)：(0～5)：(0～10)：(0.5～10)：(0.5～10)：(0～10)：(0～10)的硅砂、球土、無害低熔點熔塊、金紅石型二氧化鈦、銳鈦型二氧化鈦、氧化鋅、納米造孔劑、負(fù)離子粉、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉混合燒制形成；

優(yōu)選的，所述燒制溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘。

在一些較為具體的實施方案中，所述陶瓷材料包括如下化學(xué)組分：

在一些較為具體的實施方案中，所述納米孔的孔徑為1～500nm。

在一些較為具體的實施方案中，所述微米孔的孔徑為1～10μm。

本發(fā)明還提供了所述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料于建筑領(lǐng)域的應(yīng)用。

例如將所述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料作為裝飾材料。

在一些具體的實施方案中，所述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的制作方法具體包括：

(1)按照表1所示提供坯體原料：

表1

將以上坯體原料進行混合粉碎至325目以下，將所述坯體原料后處理形成坯粉料，將所述坯粉料壓制形成坯體，之后將所述坯體干燥處理形成半成品；

其中所述粉碎后的坯粉料的比重為1.68～1.75g/cm³，其黏度為25～35Pa.s，所述坯粉料的含水率為7.0～9.0wt％，所述坯粉料的粒徑分布為：20目以上0～5wt％，20～45目60～75wt％，45～60目15～20wt％，60～100目8～15wt％，100目以下0～10wt％。

并且所述坯體的成型壓力為300kg/cm²～450kg/cm²；干燥后的半成品的含水率小于0.5％；所述半成品的出坯溫度是20～100℃。

(2)按照表2所示提供第一釉面原料：

表2

將所述第一釉面原料混合粉碎，制成325目以下的第一釉料，所述殘渣量小于0.5％，將所述第一釉料覆設(shè)于所述半成品上，形成第一釉面層；其中，所述第一釉面層的形成方式包括噴涂、離心、印刷中的任意一種或兩種以上的組合，但不限于此；所述第一釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.9g/cm³；所述第一釉面材料的施釉量為50g/m²～500g/m²。

其中，添加了硅酸鋯起到蓋住坯體的顏色，并便于調(diào)色，另外也蓋住了坯體的針孔，縮孔等；低溫熔塊和硼砂起到粘結(jié)坯和第二道釉的作用，不容易剝離。在一些實施案中，也可以把第一釉料烘干后做成印刷粉，在第一道釉上印刷形成裝飾，例如滾筒，網(wǎng)版或者噴墨，然后再形成第二道釉。

(3)按照表3所示提供第二釉面原料：

表3

將所述第二釉面原料混合粉碎，制成325目以下的第二釉料，所述殘渣量小于0.5％，將所述第二釉料形成于第一釉面上，形成第二釉面；其中，所述第二釉面的形成方式包括噴涂；所述第二釉面材料的比重為1.1g/cm³～1.6g/cm³；所述第一釉面材料的施釉量為20g/m²～100g/m²。

其中所述金紅石型二氧化鈦(10鈉米～20納米)，銳鈦型二氧化鈦(10鈉米～20納米)氧化鋅(40～60納米)可以自潔、催化分解有害氣體，并對負(fù)離子有能量傳遞的作用，其中，納米造孔劑可以連接第一道釉，使納米孔相互連通；第二道釉采取高硅低鋁的透明釉，起到裝飾作用。

(4)燒成：

燒制溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘。

或者，所述制作方法還可以是在形成第一釉面層后，進行第一次燒制，所述第一次燒制的溫度為700～1000℃，燒制時間為30～150分鐘；形成第二釉面層后進行第二次燒制，所述燒制溫度為400～600℃，燒制時間為20～100分鐘。

在一些實施方案中，在所述形成第一釉面和第二釉面之間，可以包括在第一釉面層上形成圖案的工序，例如滾筒印刷或網(wǎng)版印刷等，但不限于此。

其中所述，無害低熔點熔塊為不含鉛等有害金屬低熔點熔塊，另外，本發(fā)明所用到的原料均可以市購獲得。

其中，金紅石型二氧化鈦對氧氣的吸附能力較差，缺陷較多，晶粒尺寸較大，同時其比表面積較小，因此其光催化活性要低于銳鈦型二氧化鈦；但是當(dāng)此兩種晶型結(jié)構(gòu)的二氧化鈦混合時，產(chǎn)生混晶，二氧化鈦的催化性能會更高。另外，因金紅石型二氧化鈦、銳鈦型二氧化鈦的晶型結(jié)構(gòu)均存在不穩(wěn)定性，可以吸收空氣中的紫外光及其它能量后以光觸媒方式向外放射或吸收能量，因而對負(fù)離子材料產(chǎn)生的負(fù)離子還有能量傳遞作用，能強化其空氣凈化效果。

燒制完成后，第一釉面層具有與坯體相類似的納米孔和/或微米孔，所述納米孔的孔徑優(yōu)選為1～500nm，所述微米孔的孔徑優(yōu)選為1～10μm；納米造孔劑可以將所述納米孔和/或所述微 米孔相互連通，增強了呼吸功能；其中所述納米造孔劑是納米級別的低溫易揮發(fā)的有機物，例如納米級樹脂、納米級淀粉或者納米級的石墨粉，優(yōu)選的，造孔劑的粒徑為3～15nm。

本發(fā)明實施例還提供了由上述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的制作方法或上述能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷材料的應(yīng)用，例如陶瓷磚等裝飾材料。

其中所述能呼吸的多功能負(fù)離子新型陶瓷可以作為裝飾材料應(yīng)用于眾多場所，例如家庭室內(nèi)裝修，或者學(xué)校、商場、養(yǎng)老院等公共場所，由于所述能呼吸的多功能負(fù)離子新型陶瓷具有大量的納米微孔，其可以對各種分子量的有害氣體進行吸附，并且具有良好的脫附作用；而且本發(fā)明提供的能呼吸的多功能負(fù)離子新型陶瓷可以在任何情況下都能不斷吸附，在周圍的潮氣過多的情況下吸附，潮氣變少釋放，并還會釋放1000～2000個/cm³的負(fù)離子，能有效凈化空氣；另外本發(fā)明提供的陶瓷可以在光的作用下對有害氣體進行催化分解，大大提高了凈化效果和使用壽命；并且本發(fā)明技術(shù)方案中的負(fù)離子的放射量符合GB6566-2010規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)，不會產(chǎn)生引起放射性污染等副作用。

以及本發(fā)明提供的陶瓷是低溫?zé)?，與內(nèi)墻瓷磚相比計算，能源使用量約減少44％，導(dǎo)致全球變暖物質(zhì)的二氧化碳也減少52％，本發(fā)明還使用各煙道產(chǎn)生的爐渣，廢玻璃，使得廢舊原料重新得到循環(huán)利用，也大大節(jié)約了生產(chǎn)成本。

如下將結(jié)合具體實施例對該技術(shù)方案、其實施過程及原理等作進一步的解釋說明。

實施例1

1-1)提供坯體原料:氫氧化鋁(325目)250公斤，硅砂150公斤，球土425公斤，硼砂20公斤，負(fù)離子粉25公斤，煤發(fā)電廠爐灰100公斤，三聚磷酸鈉30公斤；向上述原料中加水450公斤，投入球磨機球磨5～8個小時，將所述原料研磨至325目以下；

1-2)將研磨好的原料通過噴霧干燥，制作成坯粉料，所述坯粉料的含水率為8.5wt％；其中所述坯粉料中各粒徑分布如表4所示：

表4

1-3)將上述的坯粉料放入油壓壓力機以350kg/cm²的壓力壓制成100mm×50mm×6mm的坯體，并將所述坯體烘干形成半成品。

1-4)釉料的制作：

1-4-1)第一道釉：

提供第一釉料：基準(zhǔn)坯土65公斤，球土6公斤，硅酸鋯15公斤，硼砂1公斤，低溫?zé)o害熔塊4.5公斤,納米造孔劑2公斤，負(fù)離子粉4公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第一釉料放入球磨機并加水60公斤進行球磨，制成第一釉彩漿料；調(diào)成比重為1.4g/cm³；

將上述第一釉彩漿料以200g/m²的用量噴涂在所述半成品的表面，形成第一釉面層。

1-4-1)第二道釉：

提供第二釉料：硅砂70公斤，球土5.5公斤，無害低熔點熔塊(熔點在400℃±100℃)15公斤，金紅石型二氧化鈦(10～20納米)0.5公斤，銳鈦型二氧化鈦(10～20納米)1.5公斤，氧化鋅(40～60納米)0.5公斤，負(fù)離子粉(工業(yè)級)3公斤，納米造孔劑1.5公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第二釉料放入球磨機并加水60公斤進行球磨，制成第二釉彩漿料，調(diào)成比重為1.2g/cm³；

將第二釉彩漿料以150g/m²的用量噴涂于第一釉面層的表面，形成第二釉面層；

然后進行燒制，其中所述最高燒成溫度為840℃，燒制時間為1小時。

實施例2

2-1)提供坯體原料:氫氧化鋁350公斤，球土325公斤，硼砂20公斤，負(fù)離子粉25公斤，煤發(fā)電廠爐灰250公斤，三聚磷酸鈉30公斤；

將以上原料加水450公斤，投入球磨機球磨5～8個小時，將所述原料研磨至325目以下；

2-2)將研磨好的原料通過噴霧干燥，制作成坯粉料，所述坯粉料的含水率為8.5wt％；其中所述坯粉料中各粒徑分布如表5所示

表5

2-3)將上述的坯粉料放入油壓壓力機以350kg/cm²的壓力壓制成100mm×50mm×6mm的坯體，并將所述坯體進行烘干形成半成品；

2-4)釉料的制作

2-4-1)第一道釉

提供第一釉料：基準(zhǔn)坯土75公斤，球土5.5公斤，硅酸鋯10公斤，低溫?zé)o害熔塊2公斤，納米造孔劑2公斤，負(fù)離子粉3公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第一釉料放入球磨機加水500公斤進行球磨，制成第一釉彩漿料，調(diào)成比重為1.45g/cm³；

將上述第一釉彩漿料以250g/m²的用量噴涂于半成品的表面，形成第一釉面層；

2-4-1)第二道釉

提供第二釉料：硅砂60公斤,球土10公斤，無害低熔點熔塊(熔點在400度±100度)20公斤，金紅石型二氧化鈦(10～20納米)1公斤，銳鈦型二氧化鈦(10～20納米)1公斤，氧化鋅(40～60納米)1.5公斤，負(fù)離子粉(工業(yè)級)3公斤，納米造孔劑1公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第二釉料放入球磨機加水60公斤進行球磨，制成第二釉彩漿料，調(diào)成比重為1.1g/cm³；

將上述第二釉彩漿料以100g/m²的量噴涂于所述半第一釉面層的表面，形成第二釉面層；

之后再燒制，所述最高燒成溫度為800℃，燒制時間為50分鐘。

實施例3

3-1)提供坯體原料:氫氧化鋁(325目)400公斤，納米氫氧化鋁50公斤，硅砂85公斤，球土250公斤，硼砂30公斤，碳塊40公斤，負(fù)離子粉25公斤，煤發(fā)電廠爐灰100公斤，三聚磷酸鈉30公斤；

將以上原料加水450公斤，投入球磨機球磨5～8個小時，將所述原料研磨至325目以下；

3-2)將研磨好的原料通過噴霧干燥，制作成坯粉料，所述坯粉料的含水率為8.5wt％；其中所述坯粉料中各粒徑分布如表6所示

表6

3-3)將上述的坯粉料放入油壓壓力機以400kg/cm²的壓力壓制成100mm×50mm×6mm的坯體，并將所述坯體進行烘干形成半成品；

3-4)釉料的制作

3-4-1)第一道釉

提供第一釉料：基準(zhǔn)坯土40公斤，球土5公斤，氫氧化鋁10公斤,硅酸鋯20公斤,低溫?zé)o害熔塊16.5公斤,納米造孔劑3公斤,負(fù)離子粉3公斤,羧甲基纖維素鈉0.5公斤,三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第一釉料放入球磨機加水60公斤進行球磨，制成第一釉彩漿料，調(diào)成比重為1.5g/cm³；

將所述第一釉彩漿料以350g/m²的量噴涂于半成品的表面，形成第一釉面層；

3-4-1)第二道釉

提供第二釉料：硅砂50公斤,球土15公斤，無害低熔點熔塊(熔點在400℃±100℃)25公斤，金紅石型二氧化鈦(10～20納米)1公斤，銳鈦型二氧化鈦(10～20納米)0.5公斤,氧 化鋅(40～60納米)1.5公斤，負(fù)離子粉(工業(yè)級)3公斤，納米造孔劑1.5公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第二釉料放入球磨機加水60公斤進行球磨，制成第二釉彩漿料，調(diào)成比重為1.25g/cm³；

將上述第二釉彩漿料以120g/m²的用量噴涂于第一釉面層的表面，形成第二釉面層；

之后進行燒制，所述最高燒成溫度為800℃，燒制時間為1.1小時。

實施例4

4-1)提供坯體原料:氫氧化鋁(325目)400公斤，納米氫氧化鋁50公斤，硅砂85公斤，球土250公斤，硼砂30公斤，碳塊40公斤，負(fù)離子粉25公斤，煤發(fā)電廠爐灰100公斤，三聚磷酸鈉30公斤；

將以上原料加水450公斤，投入球磨機球磨5～8個小時，將所述原料研磨至325目以下；

4-2)將研磨好的原料通過噴霧干燥，制作成坯粉料，所述坯粉料的含水率為8.5wt％；其中所述坯粉料中各粒徑分布如表7所示

表7

4-3)將上述的坯粉料放入油壓壓力機以400kg/cm²的壓力壓制成100mm×50mm×6mm的坯體，并將所述坯體進行烘干形成半成品；

4-4)釉料的制作

4-4-1)第一道釉

提供第一釉料：基準(zhǔn)坯土40公斤，球土5公斤，氫氧化鋁10公斤,硅酸鋯20公斤,低溫?zé)o害熔塊16.5公斤,納米造孔劑3公斤,負(fù)離子粉3公斤,羧甲基纖維素鈉0.5公斤,三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第一釉料放入球磨機加水500公斤進行球磨，制成第一釉彩漿料，調(diào)成比重為1.5g/cm³；

將所述第一釉彩漿料以350g/m²的量噴涂于半成品的表面，形成第一釉面層，之后進行燒制，燒制溫度為800℃，燒制時間為1.1小時；

4-4-1)第二道釉

提供第二釉料：硅砂50公斤,球土15公斤，無害低熔點熔塊(熔點在400℃±100℃)25公斤，金紅石型二氧化鈦(10～20納米)1公斤，銳鈦型二氧化鈦(10～20納米)0.5公斤,氧化鋅(40～60納米)1.5公斤，負(fù)離子粉(工業(yè)級)3公斤，納米造孔劑1.5公斤，羧甲基纖維素鈉0.5公斤，三聚磷酸鈉2公斤；

將上述第二釉料放入球磨機加水60公斤進行球磨，制成第二釉彩漿料，調(diào)成比重為1.25g/cm³；

將上述第二釉彩漿料以120g/m²的用量噴涂于第一釉面層的表面，形成第二釉面層；

之后進行第二次燒制，所述燒成溫度為500℃，燒制時間為1小時。

由于銳鈦型二氧化鈦自身的不穩(wěn)定性，隨著溫度升高，當(dāng)溫度大于600℃以后，催化效果會降低，因此，兩次燒制，并且控制第二次燒制溫度在600℃以下，提高了催化效果。

以上實施例中的原料均可以市購獲得。

實施例1-4獲得的能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的測試結(jié)果如表8所示：

表8

此外，通過測試發(fā)現(xiàn)，實施例1-4所獲能呼吸的多功能負(fù)離子陶瓷的放射量也符合GB-66562010的A級標(biāo)準(zhǔn)要求。

應(yīng)當(dāng)理解，上述實施例僅為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。