1.一種碳納米管連續(xù)制備裝置，其特征在于：包括反應(yīng)腔，反應(yīng)腔上端設(shè)有進料管，反應(yīng)腔下端連接出料管，反應(yīng)腔內(nèi)水平設(shè)有基板，基板下表面設(shè)有催化劑薄膜，基板上設(shè)有若干個第一孔洞，催化劑薄膜上設(shè)有若干個第二孔洞，第一孔洞與第二孔洞貫通，反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有等離子發(fā)射器，反應(yīng)腔外側(cè)連接第一加氣腔，第一加氣腔上端設(shè)有加氣口，第一加氣腔外圍設(shè)有加熱裝置，出料管外側(cè)連接第二加氣腔，第二加氣腔與第一加氣腔貫通連接，所述反應(yīng)腔與出料管內(nèi)壁均設(shè)有若干個噴氣嘴，反應(yīng)腔內(nèi)壁上的噴氣嘴的入氣口與第一加氣腔連接，出料管內(nèi)壁上的噴氣嘴的入氣口與第二加氣腔連接。
2. 按照權(quán)利要求1所述的碳納米管連續(xù)制備裝置，其特征在于：所述第一通孔的直徑為30~120nm ；所述第二通孔的直徑為10~50nm。
3.按照權(quán)利要求1所述的碳納米管連續(xù)制備裝置，其特征在于：所述基板的材質(zhì)為陶瓷。
4.按照權(quán)利要求1所述的碳納米管連續(xù)制備裝置，其特征在于：所述反應(yīng)腔底部呈凹形。
5.按照權(quán)利要求1所述的碳納米管連續(xù)制備裝置，其特征在于：所述噴氣嘴的出氣口傾斜向下。