專利名稱：無定形二氧化硅的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種無定形二氧化硅，特別涉及一種適合于在牙用組合物中使用的無定形二氧化硅。
多年來使用無定形二氧化硅作為牙用組合物中有效、適用的磨料。理想的是二氧化硅應(yīng)該有效地從牙齒上清潔表膜，但是優(yōu)選為應(yīng)該對牙齒造成的損害最小。最近，已經(jīng)開發(fā)了許多提供良好清潔和相對小磨耗(正如通過被稱為放射性牙質(zhì)磨耗(Radioactive DentineAbrasion，RDA)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)所測量)的二氧化硅。例如，在WO 97/02211和WO 96/09809中描述了這樣的二氧化硅。通常，盡管與它們的磨耗性能相比，這些二氧化硅具有良好的清潔性能，但它們擁有低的RDA值。因此，為了獲得具有良好清潔性能的潔齒劑，必須在潔齒劑中包含相對大量的(例如25-35重量％)二氧化硅。在潔齒劑中使用相對大量的二氧化硅通常是不經(jīng)濟(jì)的，并且由于多孔顆粒的空間填充效應(yīng)會對牙膏的流變性造成問題。因此，理想的是獲得這樣一種二氧化硅，其在潔齒劑中以相對低的填充量(例如20％或更少)就具有良好清潔性能。
根據(jù)本發(fā)明，適合于在牙用組合物中使用的無定形二氧化硅具有3-15μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，對二氧化硅粉末含水漿料確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中加入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值(PAV)。
根據(jù)本發(fā)明的二氧化硅擁有明顯不同于適用于牙用組合物的已知二氧化硅的綜合性能。它們具有特別有效的清潔能力，這是通過在含相對少量二氧化硅的潔齒劑中，在常規(guī)RDA值下顯示相對高的PCR值而證明的。盡管PCR與RDA的比小于1，但是RDA值高于具有更高PCR/RDA比的已知二氧化硅的值，并且與這些產(chǎn)品相比，用相同量的二氧化硅可獲得更高的PCR。此外，以前公布的RDA與PAV之間的關(guān)系不適用于這些產(chǎn)品。例如，EP 0 535 943公開了RDA與PAV之間的關(guān)系，其中RDA值117相當(dāng)于PAV值16，RDA值195等效于PAV值26。此模型預(yù)計(jì)，如本文要求保護(hù)的11-19的PAV必定意味著約80-140的RDA。根據(jù)本發(fā)明的二氧化硅也可通過它們優(yōu)越的清潔性能而與EP 0535 943中公開的二氧化硅和EP 0 666 832中公開的相似二氧化硅相區(qū)別。當(dāng)在牙用組合物中以10重量％進(jìn)行試驗(yàn)時(shí)，已經(jīng)證明根據(jù)EP 0535 943或EP 0 666 832的教導(dǎo)制備的二氧化硅產(chǎn)生小于85的PCR。
塑料磨耗值是由二氧化硅在表面上產(chǎn)生的刮痕量的量度，因此是對牙齒可能損害的指示。根據(jù)本發(fā)明的二氧化硅擁有中等的PAV但高的PCR，這表明良好的清潔而不產(chǎn)生過度的損害。相反，根據(jù)EP 0 236070制造的二氧化硅具有23-35的PAV(RDA值為150-300)，但清潔性能與本發(fā)明二氧化硅的相似。然而，EP 0 236 070的高得多的PAV值是牙齒表面顯著嚴(yán)重得多刮痕的指示。
根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅優(yōu)選具有70-150cm3/100g的吸油量(使用亞麻子油)，更優(yōu)選為具有75-130cm3/100g的吸油量。
并且，該無定形二氧化硅優(yōu)選具有10-450m2g-1的BET表面積，更優(yōu)選為BET表面積為50-300m2g-1。
使用Malvern Mastersizer確定本發(fā)明二氧化硅的重均粒度，優(yōu)選的材料具有5-10μm的重均粒度?？梢杂孟嗤姆椒ù_定粒度分布和由此粒度小于任何特定值的顆粒的比例。對于本發(fā)明的無定形二氧化硅，優(yōu)選為至少90重量％的顆粒具有小于17μm的粒度。
在本發(fā)明一個(gè)特定的實(shí)施方案中，二氧化硅的重均粒度為3-7μm，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有低于16μm，優(yōu)選為低于12μm的粒度?？梢杂行У厥褂眠@種二氧化硅作為牙用組合物中的清潔加強(qiáng)劑。
本發(fā)明二氧化硅的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)值為100-220。更一般地，RDA的值為120-200，經(jīng)常，RDA大于140。通常，PAV高于15的本發(fā)明二氧化硅將具有高于120的RDA，PAV高于17的本發(fā)明二氧化硅具有高于140的RDA。
根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅的PCR(牙用組合物中10重量％的情況下測量)大于85，優(yōu)選為大于90，更優(yōu)選為大于95。PCR∶RDA比優(yōu)選為0.5∶1-0.9∶1。
基于5重量％的懸浮體測量，根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅的pH值優(yōu)選為5-8，更優(yōu)選為6-7.5。
當(dāng)通過1000℃下的灼燒損失測量時(shí)，適合于在牙用組合物中使用的無定形二氧化硅上存在的水量通常為最多25重量％，優(yōu)選為最多15重量％。通常，1000℃下的灼燒損失大于4重量％。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選無定形二氧化硅具有3.8-5.8重量％的結(jié)合水含量。通過在105℃下測量的水分損失與在1000℃下的灼燒損失之間的差異確定結(jié)合水；其是二氧化硅基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)(underlying structure)的表征。優(yōu)選地，結(jié)合水含量為4.0-5.5重量％，其更優(yōu)選為4.0-5.0重量％。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選二氧化硅的松堆積密度為200-400g/dm3。
本發(fā)明的優(yōu)選二氧化硅還具有小于1.0cm3/g的顆粒內(nèi)孔隙體積，這是通過水銀注入法確定的。通常，顆粒內(nèi)孔隙體積大于0.1cm3/g。
此外，優(yōu)選的是平均孔隙直徑為5-45nm，平均孔隙直徑是一個(gè)基于圓柱形孔隙的假設(shè)并由以下方程獲得的計(jì)算參數(shù)平均孔隙直徑(單位nm)＝4000×孔隙體積(單位cm3g-1)/表面積(單位m2g-1)更優(yōu)選的本發(fā)明二氧化硅具有10-30nm的平均孔隙直徑，特別優(yōu)選的二氧化硅具有12-25nm的平均孔隙直徑。
本發(fā)明的第二方面包括一種牙用組合物，該組合物包含一種無定形二氧化硅和口腔用可接受的載體，所述無定形二氧化硅具有3-15μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，在二氧化硅粉末含水漿料的基礎(chǔ)上確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中加入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值(PAV)。
該牙用組合物可以為適于作為牙用組合物的任何形狀如膏狀、凝膠、乳油或液體。
通常，存在于該牙用組合物中的無定形二氧化硅量為0.1-25重量％，但是存在量在一定程度上取決于二氧化硅的具體功能。當(dāng)以常規(guī)方式，作為主要磨料使用時(shí)，存在的量優(yōu)選為0.5-25重量％，更優(yōu)選為1-20重量％，當(dāng)在牙用組合物中使用1-15重量％時(shí)，本發(fā)明無定形二氧化硅是特別有用的，因?yàn)檫@種牙用組合物提供良好的清潔效果并具有可接受的磨耗性能。如上所述，當(dāng)使用本發(fā)明的二氧化硅作為具有相對小粒度的清潔輔助劑時(shí)，優(yōu)選的是其存在的量為0.1-6重量％。
根據(jù)本發(fā)明的特別優(yōu)選的牙用組合物包含第一無定形二氧化硅、第二無定形二氧化硅和口腔用可接受的載體的混合物，所述第一無定形二氧化硅是根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅，所述第二無定形二氧化硅具有低于所述第一無定形二氧化硅的RDA值。第二無定形二氧化硅的RDA優(yōu)選為40-130，該第二二氧化硅的RDA最優(yōu)選為70-110。合適的第二二氧化硅的一個(gè)例子是INEOS Silicas Limited，Warrington，UK以商品名Sorbosil AC35銷售的產(chǎn)品，其是RDA為105的典型二氧化硅。意想不到地發(fā)現(xiàn)這種組合物比只含第一二氧化硅的組合物產(chǎn)生更好的清潔效果，但是該組合物的RDA與只含第一二氧化硅的組合物的RDA相似。
當(dāng)牙用組合物含這種二氧化硅的混合物時(shí)，第一無定形二氧化硅存在的量優(yōu)選為該組合物的1-15重量％，第二二氧化硅存在的量優(yōu)選為所述組合物的4-20重量％。更優(yōu)選地，第二二氧化硅存在的量為所述組合物的5-15重量％。
根據(jù)本發(fā)明的另一種牙用組合物含第一二氧化硅(輔助二氧化硅)和第二二氧化硅(主要二氧化硅)，所述第一二氧化硅是根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅，具有3-7μm的平均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有小于16μm的粒度。在此組合物中，主要二氧化硅可以是平均粒度大于輔助二氧化硅平均粒度的本發(fā)明二氧化硅?；蛘?，輔助二氧化硅可以與在牙用組合物中有用的任何常規(guī)二氧化硅一起使用。通常，在這種組合物中，輔助二氧化硅存在的量為牙用組合物的0.1-6重量％，優(yōu)選為該組合物的0.5-4重量％，主要二氧化硅存在的量為該牙用組合物的4-25重量％。優(yōu)選地，主要二氧化硅存在的量為該牙用組合物的7-19重量％。
作為本發(fā)明牙用組合物中的一種組分，通常存在水，水存在的量通常為約1-約90重量％，優(yōu)選為約10-約60％，更優(yōu)選為約15-約50重量％。對于透明膏體，水含量優(yōu)選為約1-約20重量％，更優(yōu)選為5-15重量％。
對于制備透明的膏體，根據(jù)本發(fā)明的合適二氧化硅在1.435-1.445的折射率下顯示光透射至少為70％的最大透明性。
當(dāng)該牙用組合物是牙膏或乳油時(shí)，其含至少一種潤濕劑，例如多元醇如甘油、山梨糖醇糖漿、聚乙二醇、乳糖醇、木糖醇或氫化玉米糖漿。潤濕劑的總量優(yōu)選為該組合物的約10-約85重量％。
本發(fā)明的牙用組合物可以包含一種或多種表面活性劑，優(yōu)選為選自陰離子、非離子、兩性和兩性離子表面活性劑及它們的混合物，所有這些都適用于口腔應(yīng)用。典型地，存在于本發(fā)明組合物中的表面活性劑的量為約0.1-約3重量％(基于100％活性)。
合適的陰離子表面活性劑包括皂、烷基硫酸鹽、烷基醚硫酸鹽、烷芳基磺酸鹽、烷?；u乙基磺酸鹽、烷?；；撬猁}、烷基琥珀酸鹽、烷基磺基琥珀酸鹽、N-烷酰基肌氨酸鹽、烷基磷酸鹽、烷基醚磷酸鹽、烷基醚羧酸鹽和α-烯烴磺酸鹽，特別是它們的鈉、鎂、銨以及單、二和三乙醇胺鹽。烷基和酰基通常含8-18個(gè)碳原子，并可以是飽和的。烷基醚硫酸鹽、烷基醚磷酸鹽和烷基醚羧酸鹽可以含1-10個(gè)環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷單元/分子，優(yōu)選為含2-3個(gè)環(huán)氧乙烷單元/分子。優(yōu)選的陰離子表面活性劑的例子包括十二烷硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、月桂酰肌氨酸鈉和椰子油單酸甘油酯磺酸鈉。
適合于在本發(fā)明牙用組合物中使用的非離子型表面活性劑包括脂肪酸的脫水山梨糖醇酯和聚甘油酯以及環(huán)氧乙烷/環(huán)氧丙烷嵌段共聚物。
合適的兩性表面活性劑包括甜菜堿如cocamidopropyl甜菜堿和磺基甜菜堿。
本發(fā)明的牙用組合物優(yōu)選包含一種或多種增稠劑和/或懸浮劑以賦予組合物所需的物理性能(例如是乳油、膏狀還是液體)，并且使本發(fā)明的無定形二氧化硅保持穩(wěn)定地分散在該組合物中。
使本發(fā)明的牙用組合物增稠的特別優(yōu)選的方法是與聚合物懸浮劑或增稠劑一起包括增稠用二氧化硅?？梢詥为?dú)使用或與增稠用二氧化硅一起使用的眾所周知的合適聚合物懸浮劑或增稠劑包括聚丙烯酸、丙烯酸的共聚物和交聯(lián)聚合物、具有憎水單體的丙烯酸的共聚物、含羧酸的單體和丙烯酸酯的共聚物、丙烯酸和丙烯酸酯的交聯(lián)共聚物、乙二醇的酯或聚乙二醇的酯(例如其脂肪酸酯)、雜多糖膠如黃原酸膠和瓜耳膠，和纖維素衍生物如羧甲基纖維素鈉。特別合適的懸浮劑或增稠劑是黃原酸膠和羧甲基纖維素鈉。存在于該組合物中的這些增稠劑(可以單獨(dú)使用或以上述材料中兩種或更多種的混合物的形式使用)的總量為約0.1-約5重量％。當(dāng)與二氧化硅增稠劑一起使用時(shí)，它們存在的量優(yōu)選為0.1-5.0重量％。當(dāng)存在時(shí)，二氧化硅增稠劑，如由INEOS Silicas Limited，Warrington，UK以商品名SorbosilTC15銷售的二氧化硅，占該組合物的約0.1-約15重量％，優(yōu)選為占該組合物的約1-約10重量％。
本發(fā)明的牙用組合物常常含螯合劑如酒石酸、檸檬酸、堿金屬檸檬酸鹽，可溶的焦磷酸鹽如堿金屬焦磷酸鹽以及聚合的聚羧酸鹽。
在本牙用組合物中可以存在常于牙用組合物中發(fā)現(xiàn)的一種或多種其它組分，它們包括調(diào)味物質(zhì)如胡椒薄荷、綠薄荷；人工甜味料；香料口氣清新用物質(zhì)；珠光劑；過氧化合物如過氧化氫或過乙酸；不透明劑；顏料和著色料；防腐劑；潤濕劑；含氟化合物；抗齲齒劑和抗噬菌斑劑；抗牙垢劑；抗過敏劑；治療劑如檸檬酸鋅、三氯生(購自Ciba Geigy)；蛋白質(zhì)；酶；鹽；碳酸氫鈉和pH值調(diào)節(jié)劑。
可以通過制備這種組合物的常規(guī)方法來制造本發(fā)明的牙用組合物?？梢酝ㄟ^常規(guī)方法，例如在真空下使用高剪切混合系統(tǒng)來制備膏體和乳油。
優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅是沉淀法二氧化硅，本發(fā)明的第三個(gè)方面包括一種制備無定形二氧化硅的方法，該方法包括以下步驟(a)在水溶性電解質(zhì)存在的情況下，將一定量的SiO2∶M2O(其中M是堿金屬)摩爾比為2.0∶1-3.4∶1的堿金屬硅酸鹽的水溶液和第一加入量的無機(jī)酸引入到含水反應(yīng)混合物中，同時(shí)用管線混合機(jī)對該反應(yīng)混合物施加高剪切力，以保證該反應(yīng)混合物的pH值基本保持在約9-約11下恒定值的速度供應(yīng)堿金屬硅酸鹽溶液和無機(jī)酸，加入第一加入量的無機(jī)酸后二氧化硅的濃度為該反應(yīng)混合物的約5.5-約7.5重量％，引入堿金屬硅酸鹽和無機(jī)酸過程中該反應(yīng)混合物的溫度為約60-約80℃，且引入堿金屬硅酸鹽和無機(jī)酸的時(shí)間為40-80分鐘，其中該電解質(zhì)的存在量使電解質(zhì)與二氧化硅的重量比為約0.1∶1-0.25∶1，(b)將該反應(yīng)混合物的溫度升高至90-100℃，
(c)使該反應(yīng)混合物保持在此溫度下5-30分鐘，(d)在5-20分鐘的時(shí)間內(nèi)向該反應(yīng)混合物中加入第二加入量的無機(jī)酸，所述第二加入量足以將該反應(yīng)混合物的pH值調(diào)整為3-5，(e)過濾由該反應(yīng)混合物這樣產(chǎn)生的二氧化硅，洗滌并急驟干燥該二氧化硅，和(f)將該干燥的二氧化硅粉碎至所需的粒度分布。
任選地，可以在加入第二加入量無機(jī)酸[步驟(d)]的過程中引入陳化步驟，其中在pH值為5-6時(shí)暫停加入酸，并使該反應(yīng)混合物在5-6的pH值、90-100℃的溫度下保持5-30分鐘，此后繼續(xù)該第二加入無機(jī)酸的步驟。
在根據(jù)本發(fā)明的方法中，堿金屬硅酸鹽可以是任何堿金屬硅酸鹽，但容易得到的硅酸鈉通常是優(yōu)選的。硅酸鈉優(yōu)選具有3.2∶1-3.4∶1的SiO2∶Na2O重量比，以SiO2表示的濃度為14-20重量％。在本發(fā)明方法中使用的優(yōu)選無機(jī)酸是濃度為15-20重量％的硫酸。
重要的是在引入硅酸鹽和酸的過程中該反應(yīng)混合物受到高剪切力。一種施加此剪切力的合適方法是使該混合物在整個(gè)反應(yīng)期間內(nèi)通過Silverson管線混合機(jī)，正如廠商所定義的，該Silverson管線混合機(jī)內(nèi)部配有方孔高剪切篩網(wǎng)或粉碎頭。
許多化合物都適合于作為水溶性電解質(zhì)。通常，電解質(zhì)是堿金屬的鹽如氯化物或硫酸鹽，優(yōu)選的電解質(zhì)是氯化鈉和硫酸鈉，氯化鈉是最優(yōu)選的。
將在本發(fā)明的方法中形成的二氧化硅與反應(yīng)混合物分離后，洗滌該二氧化硅從而除去鹽。典型地，洗滌其直至任何殘留的鹽，以干燥二氧化硅計(jì)，低于2重量％。
將干燥的二氧化硅粉碎至合適的粒度分布?？梢允褂媚C(jī)如具有風(fēng)力分級器的旋轉(zhuǎn)沖擊式磨機(jī)進(jìn)行粉碎。優(yōu)選地，當(dāng)需要小的平均粒度時(shí)，如上述作為輔助二氧化硅的二氧化硅所要求的，使用具有整體風(fēng)力分級器的流能磨或超微粉碎機(jī)進(jìn)行粉碎。
還發(fā)現(xiàn)具有上述性能或根據(jù)如上所述方法制造的二氧化硅可以用作聚合物膜中的防粘連劑。將該二氧化硅引入聚合物膜中，它的存在有助于促進(jìn)膜彼此分離。這被稱為“防粘連”效應(yīng)。
因此，本發(fā)明的第四個(gè)方面包括無定形二氧化硅作為聚合物組合物中防粘連劑的用途，該無定形二氧化硅具有3-15μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，在二氧化硅粉末含水漿料的基礎(chǔ)上確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中加入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值(PAV)。
表征本發(fā)明二氧化硅的參數(shù)通常與適合于在牙用組合物中使用的二氧化硅的表征情況有關(guān)。然而，據(jù)信這些參數(shù)描述了二氧化硅的特征結(jié)構(gòu)，并且意想不到地發(fā)現(xiàn)，由這些參數(shù)表征的二氧化硅還極其有用作為聚合物膜中的防粘連劑。
在本發(fā)明的第四個(gè)方面中使用的二氧化硅優(yōu)選具有3.8-5.8重量％的結(jié)合水含量。優(yōu)選地，它們也具有200-400g/dm3的松堆積密度。此外，優(yōu)選的是它們具有5-45nm的平均孔隙直徑。
本發(fā)明的方法提供一種制造無定形二氧化硅的方法，該無定形二氧化硅可以用以下參數(shù)表征重均粒度為3-15μm，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有小于20μm的粒度，結(jié)合水含量為3.8-5.8重量％，松堆積密度為200-400g/dm3，平均孔隙直徑為5-45nm，并且此二氧化硅可用作為塑料薄膜中的防粘連劑。因此，本發(fā)明的第五個(gè)方面包括無定形二氧化硅作為聚合物組合物中的防粘連劑的用途，該無定形二氧化硅的重均粒度為3-15μm，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有低于20μm的粒度，結(jié)合水含量為3.8-5.8重量％，松堆積密度為200-400g/dm3，平均孔隙直徑為5-45nm。
如上所述二氧化硅的制備方法是“沉淀”法，因此，這樣制造的二氧化硅擁有與這種二氧化硅有關(guān)的良好光學(xué)性質(zhì)。這些性能通常優(yōu)于常常用作防粘連劑的二氧化硅凝膠的性能。該二氧化硅的防粘性能也極好。以與通常用作防粘連劑的二氧化硅凝膠相等的填充量將該二氧化硅摻入到聚烯烴薄膜中產(chǎn)生相似的性能(降低薄膜粘連力)。此外，本發(fā)明二氧化硅的結(jié)構(gòu)最大限度減小滑爽劑吸附作用，使得更有效地使用這種添加劑。
根據(jù)本發(fā)明的二氧化硅特別可用作為烯烴聚合物如聚乙烯，特別是聚丙烯中的防粘連劑。
摻入聚合物中的量通常為聚合物的0.05-0.5重量％，優(yōu)選為聚合物的0.10-0.40重量％。
用作防粘連劑的本發(fā)明二氧化硅優(yōu)選具有3-10μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有小于17μm的粒度。更優(yōu)選地，這種二氧化硅具有3-7μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒具有小于16μm，優(yōu)選為小于12μm的粒度。
在根據(jù)本發(fā)明使用二氧化硅作為防粘連劑時(shí)，優(yōu)選的是該二氧化硅具有4.0-5.5重量％，更優(yōu)選的是具有4.0-5.0重量％的結(jié)合水。用作防粘連劑的本發(fā)明二氧化硅具有10-30nm的平均孔隙直徑也是優(yōu)選的，更優(yōu)選的是它們具有12-25nm的平均孔隙直徑。通常，根據(jù)本發(fā)明用作防粘連劑的二氧化硅具有0.1-1.0cm3g-1的顆粒內(nèi)孔隙體積，這是用水銀注入法確定的。
作為防粘連劑，通常具有相對低水分損失的二氧化硅是優(yōu)選的，優(yōu)選的是，根據(jù)本發(fā)明的用作防粘連劑的二氧化硅在105℃下具有最多5.0重量％的水分損失。在105℃下的水分損失最多為3.0重量％的二氧化硅是更優(yōu)選的。
本發(fā)明的二氧化硅可以與滑爽劑結(jié)合，并且使用該組合作為聚合物的添加劑從而提供組合的防粘連和滑爽劑。在這種組合中使用的滑爽劑可以是任何常規(guī)的滑爽劑如不飽和酸酰胺，特別是C18-C22不飽和脂肪酸的酰胺，特別是油酸酰胺和芥酸酰胺。優(yōu)選的組合防粘連和滑爽劑包含20-80重量％的一種或多種C18-C22不飽和脂肪酸酰胺和20-80重量％的本發(fā)明二氧化硅。
當(dāng)用作防粘連劑時(shí)，使用制備這種混合物的任何合適方法將本發(fā)明的二氧化硅與聚合物混合。例如，在單或雙螺桿擠出機(jī)或密閉式(“Banbury”型)混合機(jī)中混合二氧化硅、聚合物和最終組合物中的任何其它組分如滑爽劑、顏料、穩(wěn)定劑和抗氧化劑直至產(chǎn)生均勻的組合物?？梢詮拇私M合物通過標(biāo)準(zhǔn)流延或吹塑薄膜擠出技術(shù)制備薄膜?；蛘?，可以制備含相對高濃度的本發(fā)明二氧化硅和，任選地，其它成分如滑爽劑的母料。隨后，將該母料與新鮮的聚合物混合來制造本發(fā)明的二氧化硅均勻分布的最終組合物。母料通常含1-50重量％的二氧化硅或上述的組合防粘連和滑爽劑。
通過以下試驗(yàn)表征根據(jù)本發(fā)明的無定形二氧化硅。
吸油量通過ASTM刮刀混合法(美國材料試驗(yàn)學(xué)會標(biāo)準(zhǔn)D 281)確定吸油量。此試驗(yàn)基于以下原理通過用刮刀在光滑表面上摩擦而將亞麻子油與二氧化硅混合直至形成濃稠的膩?zhàn)铀频母嗪?dāng)用刮刀切割時(shí)，其不會破裂或分離。然后，通過以下方程，根據(jù)用于獲得此條件的油體積V(cm3)和二氧化硅的重量W(單位克)計(jì)算吸油量吸油量＝(V×100)/W，即用cm3油/100g二氧化硅來表示。
BET表面積用美國的Micromeritics供應(yīng)的ASAP 2400裝置，使用多點(diǎn)法采用標(biāo)準(zhǔn)Brunauer、Emmett和Teller(BET)的氮吸附法測量二氧化硅的表面積。該方法與S.Brunauer，P.H.Emmett和E.Teller，J.Am.Chem.Soc.，60，309(1938)的論文一致。在約-196℃下測量以前，在270℃、真空下使樣品脫氣1小時(shí)。
通過Malvern Mastersizer確定重均粒度和粒度分布用Malvern Mastersizer模式S，使用300 RF透鏡和MS17送樣裝置確定二氧化硅的重均粒度。由Malvern Instruments，Malvern，Worcestershire制造的此儀器應(yīng)用Fraunhofer衍射原理，它采用小功率He/Ne激光器。在測量以前，在水中超聲分散樣品5分鐘從而形成水懸浮體。Malvern Mastersizer測量二氧化硅的重量粒度分布。根據(jù)該儀器產(chǎn)生的數(shù)據(jù)容易獲得重均粒度(d50)或50百分位數(shù)/和低于任何規(guī)定尺寸(對于此發(fā)明，特別是20μm、17μm、16μm、12μm或10μm)的物質(zhì)的百分?jǐn)?shù)。
放射性牙質(zhì)磨耗試驗(yàn)(RDA)該方法遵循由美國牙齒協(xié)會(Journal of Dental Research 55(4)563，1976)推薦的評定潔齒劑磨耗度的方法。在此方法中，用一定的中子通量輻照拔出的人類牙齒，并使其經(jīng)受標(biāo)準(zhǔn)刷洗規(guī)程。使用從根部牙質(zhì)中取出的放射性磷32作為所測試潔齒劑的磨耗指數(shù)。也測量在50cm3的0.5％羧甲基纖維素鈉水溶液中含10g焦磷酸鈣的參比漿料，任意地將此混合物的RDA取作100。將待測試的沉淀法二氧化硅制備成于50cm3的0.5％羧甲基纖維素鈉水溶液中6.25g的懸浮體，并經(jīng)受相同的刷洗規(guī)程。
塑料磨耗值(PAV)此試驗(yàn)基于牙刷頭刷洗與二氧化硅在山梨糖醇/甘油混合物中的懸浮體接觸的Perspex板。Perspex具有與牙質(zhì)相似的硬度。因此，在Perspex上產(chǎn)生刮痕的物質(zhì)很可能在牙質(zhì)上產(chǎn)生相似量的刮痕。通常，漿料濃度如下二氧化硅 2.5g甘油 10.0g山梨糖醇糖漿*23.0g*糖漿含70％山梨糖醇/30％水稱量所有組分，放到燒杯中，使用簡單的攪拌器，以1500rpm的速度分散2分鐘。將INEOS Acrylics Limited制造的、等級000的標(biāo)準(zhǔn)PERSPEX透明流延丙烯酸型片材的110mm×55mm×3mm片板用于該試驗(yàn)。
使用由Sheen Instruments制造的改變型濕擦洗磨耗試驗(yàn)機(jī)進(jìn)行此試驗(yàn)。改變之處是改變了夾持器以便可以在漆刷的位置上使用牙刷。此外，將400g的砝碼結(jié)合于重量為145克的刷組合件上以將刷子壓到PERSPEX片材上。牙刷具有有著圓端單絲和中等質(zhì)地的多植毛的修平尼龍頭，例如由Unilever PLC制造的、以商品名Gibbs銷售的Professional Mentadent P gum health design。
使用45度Plaspec光澤頭檢測器和標(biāo)準(zhǔn)(光澤度50％)反射板校準(zhǔn)檢流計(jì)。在這些條件下，將檢流計(jì)讀數(shù)的值調(diào)節(jié)至50。然后使用相同的反射度設(shè)置獲得新鮮PERSPEX板的讀數(shù)。
然后，將一片新的PERSPEX板安裝到夾持器中。將足以充分潤滑刷洗行程的2cm3分散二氧化硅放到該板上，并使刷頭下降到該板上。開啟機(jī)器，該板經(jīng)受該負(fù)重的刷頭300個(gè)行程。從夾持器上取下該板，并洗掉所有的懸浮體。然后干燥它，并再次確定其光澤度值。磨耗值是未磨耗時(shí)的光澤度值與磨耗后的光澤度值間的差值。當(dāng)應(yīng)用于已知的磨料時(shí)，此試驗(yàn)方法產(chǎn)生以下典型值。
PAV碳酸鈣(15μm)32根據(jù)GB 1 262 292制備的二氧化硅干凝膠(10μm) 25
三水合氧化鋁(Gibbsite)(15μm) 16焦磷酸鈣(10μm) 14二水合磷酸二鈣(15μm) 7表膜清除比(PCR)使用G.T.Stookey等人在Journal of Dental Research，1982年11月，第1236-1239頁中描述的試驗(yàn)測量PCR。全部細(xì)節(jié)可于此論文中獲得。切割牛的恒中門齒以獲得約10mm2的樣品，將其嵌入甲基丙烯酸酯樹脂中。在寶石雕輪上平滑并拋光釉質(zhì)表面，并通過浸漬在0.12N(1％)鹽酸中60秒，隨后浸漬在過飽和碳酸鈉中30秒而進(jìn)行輕度浸蝕并最終用1％植酸浸蝕60秒，此后，用去離子水洗掉它們。然后，在37℃下，將樣品以2rpm的速度在染色培養(yǎng)液中旋轉(zhuǎn)4天，所述染色培養(yǎng)液是將2.7g磨細(xì)的速溶咖啡、2.7g磨細(xì)的速溶茶和2.0g磨細(xì)的胃粘蛋白溶解在800cm3消毒的胰胨豆胨培養(yǎng)液中制備的。還將26cm3的24小時(shí)八疊球菌lutea turtox培養(yǎng)物加入到染色培養(yǎng)液中，同時(shí)每天更換培養(yǎng)液兩次。樣品在培養(yǎng)液和空氣中旋轉(zhuǎn)。然后，從設(shè)備上取下樣品，仔細(xì)清洗，使其風(fēng)干，并在冷凍下儲存直至使用。通過在25×下在雙筒顯微鏡下檢查而根據(jù)任意標(biāo)度對染色量進(jìn)行評級。利用這樣獲得的基線評分，將樣品分成多組，每組8個(gè)樣品具有相等的平均基線評分，并安裝在裝備有軟絲尼龍牙刷的V-8機(jī)械交叉刷洗機(jī)上，其對釉質(zhì)表面的張力調(diào)節(jié)至150g。以由25g潔齒劑與40cm3去離子水混合而組成的漿料的形式測試含填充量為10重量％的測試二氧化硅的潔齒劑，刷洗這些樣品800個(gè)往返行程。刷洗后，清洗樣品，沾吸干并再評級。將試驗(yàn)之前與之后評分間的差值視為表示試驗(yàn)潔齒劑除去污斑的能力。以漿料的形式評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)批次的焦磷酸鈣，并規(guī)定其任意的清潔值為100。
試驗(yàn)材料的清潔評分表示為下面的比率試驗(yàn)材料的平均減量×100/參比材料的平均減量＝表膜清潔比pH值基于在沸騰的軟化水(無CO2)中5重量％二氧化硅的懸浮體進(jìn)行此測量。
1000℃下的灼燒損失通過二氧化硅在1000℃的爐中灼燒至恒重時(shí)的重量損失確定灼燒損失。
105℃下的水分損失通過二氧化硅在105℃的烘箱中加熱至恒量時(shí)的重量損失確定水分損失。
松堆積密度通過以下步驟確定松堆積密度稱量大約180cm3二氧化硅，放入干燥的250cm3量筒中，顛倒量筒十次以除去殘有空氣并讀出沉降的終體積。
松堆積密度(單位g/dm3)＝重量(克)/體積(dm3)輕擊堆積密度除了量筒在機(jī)械輕擊裝置中受到200下輕擊之外，采用與確定松堆積密度所用相同的方法，所述機(jī)械輕擊裝置是QuantachromeCorporation(Dual Autotap model No.DA-2)制造的，落高為4mm。讀數(shù)取最終的沉降體積，并使用與用于計(jì)算松堆積密度相同的方程計(jì)算輕擊堆積密度。
硫酸鹽和氯化物含量通過熱水提取二氧化硅，隨后以硫酸鋇沉淀出而用重量分析法確定硫酸鹽。通過熱水提取二氧化硅，隨后使用鉻酸鉀作為指示劑通過標(biāo)準(zhǔn)硝酸銀溶液滴定確定氯化物(Mohr法)。
鐵含量根據(jù)首先利用氫氟酸，以四氟化硅的形式除去二氧化硅，并將任何剩余的殘余物溶解在硝酸中而從溶液來確定鐵含量。然后，使用根據(jù)設(shè)備制造商指導(dǎo)的標(biāo)準(zhǔn)鐵溶液，通過電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法確定二氧化硅中的總鐵。
水銀孔隙體積使用Micromeritics Autopore 9220水銀孔度計(jì)，通過標(biāo)準(zhǔn)水銀注入法確定水銀孔隙體積。使用485mN/m的水銀表面張力值和140度的接觸角，根據(jù)Washburn方程計(jì)算孔隙半徑。
在測量之前，在室溫下使樣品脫氣至壓力為6.7Pa。
水銀孔隙體積可以分成兩個(gè)部分顆粒內(nèi)孔隙率和顆粒間孔隙率。顆粒間孔隙率是聚集結(jié)構(gòu)的堆積情況的量度，其受粒度的影響。用于表征本發(fā)明二氧化硅的顆粒內(nèi)孔隙率是基本顆粒孔隙率的量度，其由濕法加工條件確定。
記錄的水銀孔隙體積是在0.05-1.0μm的計(jì)算孔隙直徑范圍內(nèi)出現(xiàn)的體積值，以根據(jù)水銀注入曲線表示二氧化硅的真實(shí)顆粒內(nèi)孔隙率，即顆粒內(nèi)空隙的孔隙率。
光透射二氧化硅樣品以4重量％的濃度分散在一系列山梨糖醇糖漿(70％山梨糖醇)/水混合物中。脫氣通常1小時(shí)后，使用分光光度計(jì)于589nm確定該分散體的透射；使用水作為空白。還使用阿貝折射計(jì)測量各分散體的折射率。
透射率-折射率的曲線圖使得透射超過70％的折射率范圍得以確定。還可以根據(jù)此圖估計(jì)樣品的最大透射和獲得此透射時(shí)的二氧化硅表觀折射率。
通過以下非限制的實(shí)施例說明本發(fā)明。
實(shí)施例將配置有外部剪切設(shè)備的加熱、隔板式、攪拌反應(yīng)容器用于硅酸鹽/酸反應(yīng)。
在硅酸鹽和硫酸的反應(yīng)中，混合是重要的特征。列在ChemineerInc.Chem Eng.26，1976年4月，第102-110頁中由此而固定的規(guī)格用于設(shè)計(jì)該隔板式、加熱、攪拌反應(yīng)容器。雖然對于混合幾何形狀而言，渦輪設(shè)計(jì)是任選的，但選擇帶6葉片的30度傾斜的帶葉片裝置作為例子以用最小的剪切力確保最大的混合效率。通過用含方孔高剪切篩網(wǎng)的外部高剪切混合器(Silverson)循環(huán)反應(yīng)容器中的內(nèi)容物來將剪切力提供給反應(yīng)混合物，在同時(shí)加入硅酸鹽和酸的整個(gè)過程中，按照廠家規(guī)定要求，能量輸入與再循環(huán)的體積流量和數(shù)組相稱，以提供至少0.36MJ/kg SiO2的能量輸入。
在該過程中使用的溶液如下a)硅酸鈉溶液的比重為1.2，SiO2∶Na2O重量比為3.24∶1-3.29∶1，二氧化硅濃度為16.5重量％。
b)比重為1.12的硫酸溶液(17.5重量％溶液)。
采用以下方法制備沉淀法二氧化硅。表1中給出了反應(yīng)物濃度、體積、溫度和陳化步驟的值。
將(A)dm3的水放入裝有(B)dm3硅酸鈉溶液和(C)dm3的25重量％氯化鈉水溶液的容器中。然后攪拌此混合物，并加熱至(D)℃。然后，在(D)℃下，在60分鐘內(nèi)同時(shí)加入(E)dm3的硅酸鈉和(F)dm3的硫酸。在整個(gè)加入期間內(nèi)硅酸鹽和酸溶液的流量是均勻不變的以使容器中保持恒定的pH值。
在(H)℃下陳化生成的漿料(G)分鐘。
然后，在(I)分鐘的期間內(nèi)加入進(jìn)一步量的硫酸溶液直至將pH值降低至5。然后，將漿料調(diào)節(jié)至批料終點(diǎn)pH值(J)。
然后，過濾最終的漿料，并用水洗滌至將存在的過量鹽減少至低于2重量％，基于干燥二氧化硅。洗滌后，各實(shí)施例中的濾餅急驟干燥從而從二氧化硅中迅速除去水以便保持該結(jié)構(gòu)，然后將該干燥二氧化硅粉碎至所需的粒度范圍。
獲得的沉淀法二氧化硅具有表2中所列的性能，以干重基準(zhǔn)表示。
表1
表2
用于測量表膜清潔比的潔齒劑的配方A和B如下面的表3所示。
表3
Sorbosil TC 15是可以從INEOS Silicas Limited，Warrington，UK購得的一種增稠用二氧化硅。
實(shí)施例3按以下步驟制備母料在熔融溫度220-240℃下，使用配備有5毫米線材模頭和制粒機(jī)的APV MP2030-25XLT雙螺桿配混擠出機(jī)將2.0重量份上面實(shí)施例1制備的二氧化硅與98.0重量份聚丙烯[PTPolytama Propindo，雅加達(dá)，印度尼西亞制造的Masplene MAS5402(ASTM熔體流動指數(shù)，230℃，2.16kg＝12g/10分鐘)]混合。得到的母料與新鮮的聚合物干混以制造含0.35重量份二氧化硅的組合物，使用Kween B(臺灣)PP45/500 Blown PP Film Unit將得到的混合物吹制成公稱單層厚度為25±5μm的薄膜。按如下方法測量制造的薄膜的性能。
誘導(dǎo)粘連力根據(jù)BS2782部分8方法825A1996和ISO115021995的“方法B”測量制備的薄膜樣品的誘導(dǎo)粘連力。根據(jù)該方法5.42章中的規(guī)定調(diào)整用于誘導(dǎo)由薄膜樣品制備的樣品中粘連的粘連條件，以考慮到使用的薄膜制造方法的類型和制備薄膜的可靠使用。因此，將質(zhì)量為5.7kg的重量放在各組合件(方法規(guī)定2.3kg)上，在60±2℃的烘箱中加熱這些組合件24小時(shí)(方法規(guī)定在50±2℃下3小時(shí))。使用配備有5kgf(50N)稱重傳感器的Testometric Micro 350萬用材料試驗(yàn)儀測量在這些條件下制備的樣品的誘導(dǎo)粘連力。對于各個(gè)樣品試樣，記錄分離薄膜層所必需的最大力，每個(gè)樣品組的結(jié)果(每種試樣5個(gè))平均，以給出該特定薄膜樣品的誘導(dǎo)粘連力(N)。
靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)使用Ray-Ran Polytest Advanced靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)測量儀，根據(jù)BS2782部分8方法824A1996和ISO 82951995測量制備的薄膜樣品的靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)。該方法在均勻接觸的壓力下使表面(在這種情況下，兩層吹塑薄膜樣品)彼此面內(nèi)接觸。記錄表面彼此相對位移所需的力，該力可以被解析為靜和動分量，給出靜摩擦系數(shù)和動摩擦系數(shù)的測量值。
濁度和透光率使用BYK Gardner Haze-Gard Plus儀器，根據(jù)ASTM D1003-92測量制備的薄膜樣品的濁度和透光率水平。
結(jié)果示于下面的表4中。
表4
*參比材料是Grace-Davison以商品名SYLOBLOC 45銷售的防粘連二氧化硅并可從Grace GmbH，Worms，Germany購得。
所示的降低或升高數(shù)據(jù)是相對于由新鮮聚合物(沒加入防粘連劑)制備的聚合物膜。
權(quán)利要求
1.一種適合于在牙用組合物中使用的無定形二氧化硅，其具有3-15μm的重均粒度，至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，針對二氧化硅粉末含水漿料確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中引入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的無定形二氧化硅，其特征在于使用亞麻子油測定時(shí)，具有70-150cm3/100g的吸油量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的無定形二氧化硅，其特征在于BET表面積為10-450m2g-1。
4.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于具有這樣的粒度分布，其使至少90重量％的顆粒具有低于17μm的粒度。
5.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于具有重均粒度為3-7μm和這樣的粒度分布，其使至少90重量％的顆粒具有低于16μm的粒度。
6.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于pH值，針對5重量％的懸浮體測量，為5-8。
7.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于含水量，通過在1000℃下灼燒確定，最多為25重量％。
8.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于結(jié)合水含量為3.8-5.8重量％。
9.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于松堆積密度為200-400g/dm3。
10.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于孔隙體積為0.1-1.0cm3g-1。
11.根據(jù)在前權(quán)利要求中任何一項(xiàng)的無定形二氧化硅，其特征在于平均孔隙直徑為5-45nm。
12.一種牙用組合物，該組合物包含無定形二氧化硅和口腔用可接受的載體，所述無定形二氧化硅具有3-15μm的重均粒度，至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，針對二氧化硅粉末含水漿料確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中引入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值(PAV)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的牙用組合物，其特征在于含0.1-25重量％的無定形二氧化硅。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13的牙用組合物，其特征在于含0.1-6重量％的權(quán)利要求5的無定形二氧化硅。
15.根據(jù)權(quán)利要求12或13的牙用組合物，其特征在于還含RDA值低于權(quán)利要求1的無定形二氧化硅的第二無定形二氧化硅。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的牙用組合物，其特征在于含1-15重量％的根據(jù)權(quán)利要求1的二氧化硅和4-20重量％的第二二氧化硅。
17.根據(jù)權(quán)利要求14的牙用組合物，其特征在于還含4-25重量％的主要二氧化硅。
18.根據(jù)權(quán)利要求12-17中任何一項(xiàng)的牙用組合物，其特征在于組合物是透明組合物，并且含根據(jù)權(quán)利要求1-11中任何一項(xiàng)的二氧化硅，其在1.435-1.445的折射率下具有光透射至少為70％的最大透明性。
19.一種制備無定形二氧化硅的方法，該方法包括以下步驟(a)在存在有水溶性電解質(zhì)的情況下，將一定量的SiO2∶M2O(其中M是堿金屬)摩爾比為2.0∶1-3.4∶1的堿金屬硅酸鹽的水溶液和第一加入量的無機(jī)酸引入到含水反應(yīng)混合物中，同時(shí)用管線混合機(jī)對該反應(yīng)混合物施加高剪切力，以保證該反應(yīng)混合物的pH值基本保持恒定在約9-約11的值的速度供應(yīng)堿金屬硅酸鹽溶液和無機(jī)酸，加入第一加入量的無機(jī)酸后二氧化硅的濃度為該反應(yīng)混合物的約5.5-約7.5重量％，引入堿金屬硅酸鹽和無機(jī)酸過程中該反應(yīng)混合物的溫度為約60-約80℃，并且引入堿金屬硅酸鹽和無機(jī)酸的持續(xù)時(shí)間為40-80分鐘，其中該電解質(zhì)的存在量使電解質(zhì)與二氧化硅的重量比為約0.1∶1-0.25∶1，(b)將該反應(yīng)混合物的溫度升高至90-100℃，(c)使該反應(yīng)混合物保持在此溫度下5-30分鐘，(d)在5-20分鐘的時(shí)間內(nèi)向該反應(yīng)混合物中加入第二加入量的無機(jī)酸，所述第二加入量足以將該反應(yīng)混合物的pH值調(diào)整為3-5，(e)過濾由該反應(yīng)混合物這樣產(chǎn)生的二氧化硅，洗滌并急驟干燥該二氧化硅，和(f)將該干燥的二氧化硅粉碎至所需的粒度分布。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的方法，其特征在于在pH值為5-6時(shí)，暫停在步驟(d)中加入第二加入量的無機(jī)酸，使該反應(yīng)混合物維持在5-6的pH值、90-100℃的溫度下5-30分鐘，此后繼續(xù)進(jìn)行該第二加酸操作。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20的方法，其特征在于堿金屬硅酸鹽是SiO2∶Na2O重量比為3.2∶1-3.4∶1的硅酸鈉，其濃度，用SiO2表示，為14-20重量％。
22.根據(jù)權(quán)利要求19-22中任何一項(xiàng)的方法，其特征在于無機(jī)酸是濃度為15-20重量％的硫酸。
23.根據(jù)權(quán)利要求19-22中任何一項(xiàng)的方法，其特征在于水溶性電解質(zhì)是氯化鈉。
24.無定形二氧化硅作為聚合物組合物中防粘連劑的用途，該無定形二氧化硅具有3-15μm的重均粒度，至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，針對二氧化硅粉末含水漿料確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100-220，當(dāng)向牙用組合物中加入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶1-小于1∶1，并且具有11-19的塑料磨耗值(PAV)。
25.根據(jù)權(quán)利要求24的用途，其特征在于二氧化硅的結(jié)合水含量為3.8-5.8重量％。
26.根據(jù)權(quán)利要求24或25的用途，其特征在于二氧化硅的松堆積密度為200-400g/dm3。
27.根據(jù)權(quán)利要求24-26中任何一項(xiàng)的用途，其特征在于二氧化硅的平均孔隙直徑為5-45nm。
28.無定形二氧化硅作為聚合物組合物的防粘連劑的用途，該無定形二氧化硅的重均粒度為3-15μm，至少90重量％的顆粒具有低于20μm的粒度，結(jié)合水含量為3.8-5.8重量％，松堆積密度為200-400g/dm3，平均孔隙直徑為5-45nm。
29.根據(jù)權(quán)利要求24-28中任何一項(xiàng)的用途，其特征在于二氧化硅的孔隙體積為0.1-1.0cm3/g。
30.根據(jù)權(quán)利要求24-29中任何一項(xiàng)的用途，其特征在于二氧化硅在105℃下的水分損失小于5.0重量％。
31.根據(jù)權(quán)利要求24-30中任何一項(xiàng)的用途，其特征在于聚合物組合物含0.05-0.5重量％的無定形二氧化硅。
32.根據(jù)權(quán)利要求中24或31中任何一項(xiàng)的用途，其特征在于無定形二氧化硅的重均粒度為3-10μm，至少90重量％的顆粒具有低于17μm的粒度。
全文摘要
一種適合于在牙用組合物中使用的無定形二氧化硅，其具有3－15μm的重均粒度，同時(shí)至少90重量％的顆粒的粒度小于20μm，針對二氧化硅粉末含水漿料確定的放射性牙質(zhì)磨耗(RDA)為100－220，當(dāng)向牙用組合物中加入10重量％時(shí)，表膜清潔比(PCR)大于85，PCR與RDA的比為0.4∶I－小于1∶1，并且具有11－19的塑料磨耗值(PAV)。通過沉淀法制備具有上述性能的二氧化硅。通過本發(fā)明制造的二氧化硅還用作塑料中的防粘連劑。
文檔編號C01B33/193GK1606532SQ02825742
公開日2005年4月13日 申請日期2002年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月22日
發(fā)明者P·W·斯塔尼爾, S·R·斯特冰 申請人:伊尼奧斯硅石有限公司