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研磨盤清潔裝置的制造方法

文檔序號:9677317閱讀:215來源:國知局
研磨盤清潔裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及玻璃研磨技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種研磨盤清潔裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]玻璃是顯示技術(shù)領(lǐng)域的重要材料,其廣泛應(yīng)用于各類移動電子設(shè)備的觸控屏。隨科技發(fā)展,人們對手機、平板電腦等移動電子設(shè)備的尺寸要求趨于大而薄。相應(yīng)的,移動電子設(shè)備的觸控屏也具有同樣的趨勢,因此在觸控屏的制造過程中,通常會對作為其蓋板的玻璃進行打磨?,F(xiàn)有技術(shù)中通過研磨盤對玻璃進行打磨,研磨盤上設(shè)有研磨皮,在反復(fù)研磨玻璃的過程中,研磨皮上會出現(xiàn)研磨粉、玻璃碎屑等雜質(zhì),需要定期進行清理。而現(xiàn)有的沖洗方式是將研磨皮自研磨盤上拆卸下來,手工進行沖洗。此種沖洗方式效率較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]提供一種具有較佳的清潔效率的研磨盤清潔裝置。
[0004]一種研磨盤清潔裝置,包括上研磨盤、下研磨盤、游星片,所述上研磨盤表面貼附有上研磨皮,所述下研磨盤表面貼附有下研磨皮,所述游星片設(shè)置于所述上研磨皮與下研磨皮之間,所述游星片包括兩個相背設(shè)置的端面及設(shè)置于兩個端面之間的外周面。所述游星片的兩個端面均設(shè)有用于清潔所述上研磨皮或下研磨皮的刷毛。
[0005]進一步的,所述上研磨皮表面開設(shè)有經(jīng)線槽與緯線槽,所述經(jīng)線槽與緯線槽交叉設(shè)置。
[0006]進一步的,所述下研磨皮表面開設(shè)有經(jīng)線槽與緯線槽,所述經(jīng)線槽與緯線槽交叉設(shè)置。
[0007]進一步的,所述游星片采用藍鋼制成。
[0008]進一步的,所述刷毛采用聚酯樹脂制成。
[0009]進一步的,所述上研磨皮與下研磨皮采用聚氨基甲酸酯或軟質(zhì)羊絨屑制成。
[0010]進一步的,所述研磨盤清潔裝置的游星片的設(shè)置數(shù)量為至少一個,且所述游星片的直徑小于所述上研磨盤及下研磨盤的半徑。
[0011]進一步的,所述下研磨盤開設(shè)有圓形的研磨槽,所述下研磨皮設(shè)置于所述研磨槽中,所述游星片放置于所述下研磨盤的研磨槽中,且所述游星片置于所述下研磨皮之上。
[0012]進一步的,所述游星片的外周面設(shè)有游星片外齒,所述研磨槽內(nèi)壁設(shè)有研磨盤內(nèi)齒,所述游星片的游星片外齒用于與所述研磨盤內(nèi)齒相互嚙合。
[0013]本發(fā)明的研磨盤清潔裝置通過設(shè)置于游星片的毛刷對上研磨皮與下研磨皮進行清潔,可有效去除所述經(jīng)線槽與緯線槽內(nèi)的雜質(zhì),清潔效率高。
【附圖說明】
[0014]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0015]圖1是第一較佳實施方式提供的一種研磨盤清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2是第一較佳實施方式提供的研磨盤清潔裝置的上研磨皮的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖3是第二較佳實施方式提供的一種研磨盤清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]圖4是第二較佳實施方式提供的研磨盤清潔裝置的游星片的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0019]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0020]請參閱圖1至圖3,本發(fā)明第一較佳實施方式提供一種研磨盤清潔裝置10,包括上研磨盤11、下研磨盤12、游星片13。本發(fā)明的研磨盤清潔裝置10用于對研磨過程中產(chǎn)生的雜質(zhì)進行清除。
[0021]上研磨盤11為圓形盤狀,所述上研磨盤11表面貼附有上研磨皮14。下研磨盤12為圓形盤狀,所述下研磨盤12表面貼附有下研磨皮15??梢岳斫獾氖?,所述上研磨盤11、下研磨盤12的形狀也可根據(jù)使用需要選取其他的形狀或結(jié)構(gòu)。
[0022]所述上研磨皮14與下研磨皮15用于對玻璃進行研磨。在本實施例中,所述上研磨皮14與下研磨皮15為圓形片狀,并采用聚氨基甲酸酯或軟質(zhì)羊絨屑制成。
[0023]如圖2所示,所述上研磨皮14設(shè)有經(jīng)線槽100與緯線槽110。所述經(jīng)線槽100與緯線槽110開設(shè)于所述上研磨皮14表面,且所述經(jīng)線槽100與緯線槽110交叉設(shè)置。同樣的,所述下研磨皮15也開設(shè)有經(jīng)線槽與緯線槽。
[0024]游星片13為圓形片狀,所述游星片13包括兩個相背設(shè)置的端面131及設(shè)置于兩個端面131之間的外周面133。所述游星片13的兩個端面131均設(shè)有用于清潔所述上研磨皮14或下研磨皮15的刷毛(圖未示)。所述游星片13設(shè)置于所述上研磨皮14與所述下研磨皮15之間。
[0025]在實施例中,所述游星片13可采用具有良好耐磨性能的藍鋼制成。所述游星片13的設(shè)置數(shù)量可以是一個,也可以是多個。所述游星片13的設(shè)置數(shù)量可根據(jù)所述上研磨盤11、下研磨盤12、游星片13的相對尺寸自行進行選用??梢岳斫獾氖?,當(dāng)所述研磨盤清潔裝置10設(shè)置多個游星片13時,多個游星片13可采用相同或不同的尺寸。
[0026]進一步的,所述游星片13的直徑可小于所述上研磨盤11及下研磨盤12的半徑,從而便于所述研磨盤清潔裝置10在上研磨盤11與所述下研磨盤12之間設(shè)置多個游星片13,并減少多個游星片13之間的碰撞。
[0027]在本實施例中,所述刷毛形成于所述游星片13的兩側(cè),所述刷毛可采用任何適用于對所述上研磨皮14與下研磨皮15進行清潔、擦拭的柔性材質(zhì)制成,如所述刷毛可采用由聚酯樹脂制成的單絲。所述刷毛的橫截面可為圓形或其他形狀??梢岳斫獾氖?,所述刷毛的設(shè)置根數(shù)可根據(jù)實際需要自行設(shè)置,通常情況下所述游星片13的兩面可設(shè)置復(fù)數(shù)根的刷毛,且所述復(fù)數(shù)根的刷毛可均勻分布、或分為多組分布于所述游星片13的表面。
[0028]進一步的,所述刷毛可采用聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate)、甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate)、聚對苯二甲酸亞甲基酯(polymethyleneterephthalate)、聚對苯二甲酸四亞甲基酯(polytetrame thylene terephthalate)、聚對苯二甲酸亞丙基酯(polypropylene terephthalate)、聚萘二甲酸亞甲基酯(polymethylene naphthalate)、聚萘二甲酸四亞甲基酯(polytetramethylenenaphthalate)、聚萘二甲酸亞丙基酯(polypropylene naphthalate)、或者包括這些聚酯樹脂中的任意一個作為主要成份的的共聚聚酯。
[0029]使用本發(fā)明的研磨盤清潔裝置10時,所述上研磨盤11與下研磨盤12同軸且相對轉(zhuǎn)動,所述上研磨皮14與下研磨皮15相對設(shè)置,所述游星片13設(shè)置于所述上研磨皮14與下研磨皮15之間。游星片13與所述上研磨皮14與下研磨皮15之間相對于所述上研磨皮14與下研磨皮15轉(zhuǎn)動,并通過毛刷對上研磨皮14與下研磨皮15的經(jīng)線槽100與緯線槽110進行清潔,從而去除所述經(jīng)線槽100與緯線槽110內(nèi)的雜質(zhì)。
[0030]請參閱圖4,本發(fā)明的第二較佳實施例與第一較佳實施例大致相同,所述研磨盤清潔裝置20包括上研磨盤21、下研磨盤22、游星片23。所述上研磨盤21表面貼附有上研磨皮24。所述上研磨盤21表面貼附有下研磨皮25。所述游星片23包括兩個端面231及設(shè)置于兩個端面231之間的外周面233。所述游星片23的兩個端面231均設(shè)有用于清潔所述上研磨皮24或下研磨皮25的刷毛(圖未示)。
[0031]不同之處在于,在本實施例中,所述游星片23的外周面233設(shè)有游星片外齒233。所述下研磨盤22開設(shè)有圓形的研磨槽220,所述下研磨皮25設(shè)置于所述研磨槽220中,所述研磨槽220內(nèi)壁設(shè)有研磨盤內(nèi)齒(圖未示)。在本實施例中,所述研磨槽220為圓形。
[0032]所述游星片23放置于所述下研磨盤22的研磨槽220中,且所述游星片23置于所述下研磨皮25之上,并相對于所述上研磨盤21及下研磨盤22在所述游星片23所在的平面內(nèi)自由轉(zhuǎn)動。
[0033]在本實施例中,所述游星片23于所述上研磨盤21的研磨槽220中自由轉(zhuǎn)動的過程中,所述游星片23的外齒與所述上研磨槽220的研磨盤內(nèi)齒可相互嚙合,從而可使所述游星片23與所述上研磨盤21之間的嚙合處出現(xiàn)相對固定,進而便于所述下研磨盤22驅(qū)動所述游星片23以所述嚙合處為中心轉(zhuǎn)動,從而保證設(shè)置于所述游星片23上的毛刷的清潔效果。
[0034]以上所揭露的僅為本發(fā)明一種較佳實施例而已,當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實現(xiàn)上述實施例的全部或部分流程,并依本發(fā)明權(quán)利要求所作的等同變化,仍屬于發(fā)明所涵蓋的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種研磨盤清潔裝置,其特征在于,包括上研磨盤、下研磨盤、游星片,所述上研磨盤表面貼附有上研磨皮,所述下研磨盤表面貼附有下研磨皮,所述游星片設(shè)置于所述上研磨皮與下研磨皮之間,所述游星片包括兩個相背設(shè)置的端面及設(shè)置于兩個端面之間的外周面。所述游星片的兩個端面均設(shè)有用于清潔所述上研磨皮或下研磨皮的刷毛。2.如權(quán)利要求1所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述上研磨皮表面開設(shè)有經(jīng)線槽與緯線槽,所述經(jīng)線槽與緯線槽交叉設(shè)置。3.如權(quán)利要求1所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述下研磨皮表面開設(shè)有經(jīng)線槽與緯線槽,所述經(jīng)線槽與緯線槽交叉設(shè)置。4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述游星片采用藍鋼制成。5.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述刷毛采用聚酯樹脂制成。6.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述上研磨皮與下研磨皮采用聚氨基甲酸酯或軟質(zhì)羊絨屑制成。7.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述研磨盤清潔裝置的游星片的設(shè)置數(shù)量為至少一個,且所述游星片的直徑小于所述上研磨盤及下研磨盤的半徑。8.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述下研磨盤開設(shè)有圓形的研磨槽,所述下研磨皮設(shè)置于所述研磨槽中,所述游星片放置于所述下研磨盤的研磨槽中,且所述游星片置于所述下研磨皮之上。9.如權(quán)利要求8所述的研磨盤清潔裝置,其特征在于,所述游星片的外周面設(shè)有游星片外齒,所述研磨槽內(nèi)壁設(shè)有研磨盤內(nèi)齒,所述游星片的游星片外齒用于與所述研磨盤內(nèi)齒相互嚙合。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種研磨盤清潔裝置,包括上研磨盤、下研磨盤、游星片,所述上研磨盤表面貼附有上研磨皮,所述下研磨盤表面貼附有下研磨皮,所述游星片設(shè)置于所述上研磨皮與下研磨皮之間,所述游星片包括兩個相背設(shè)置的端面及設(shè)置于兩個端面之間的外周面。所述游星片的兩個端面均設(shè)有用于清潔所述上研磨皮或下研磨皮的刷毛。本發(fā)明的研磨盤清潔裝置通過設(shè)置于游星片的毛刷對上研磨皮與下研磨皮進行清潔,可有效去除所述經(jīng)線槽與緯線槽內(nèi)的雜質(zhì),清潔效率高。
【IPC分類】B24B53/017
【公開號】CN105437078
【申請?zhí)枴緾N201410465414
【發(fā)明人】唐彬, 帥俊平
【申請人】南昌歐菲光學(xué)技術(shù)有限公司, 南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2014年9月12日
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