獨(dú)立可整體行走立式多層ito柔性基材自控卷繞系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及信息及信息應(yīng)用領(lǐng)域，具體涉及一種獨(dú)立可整體行走立式多層ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]ITO透明導(dǎo)電薄膜是一類既透明又導(dǎo)電的特殊功能性薄膜，具有禁帶寬、可見光譜區(qū)內(nèi)光的透射率高和電阻率低等共同的光學(xué)和電性能，目前廣泛用于顯示器、各種光電電子器件、觸摸屏、防輻射、建筑的節(jié)能保溫、交通工具上的防霧除霜和太陽能等眾多領(lǐng)域。ITO透明導(dǎo)電薄膜的工業(yè)化生產(chǎn)通常采用物理氣相沉積法。目前物理氣相沉積法制備ITO透明導(dǎo)電薄膜多在真空條件下，加溫到200°c — 350°C左右。使得ITO透明導(dǎo)電薄膜目前多只能沉積在玻璃等可以耐一定溫度的基體上，而不能沉積在不耐高溫的透明塑料薄膜。過多的加熱不僅消耗大量的能源，增加成本，對生產(chǎn)設(shè)備也提出許多的苛刻的要求。同時(shí)，由于在薄膜制備時(shí)始終處于高溫的狀況下，也就極大的限制了 ITO透明導(dǎo)電薄膜沉積所用基體材料的選用范圍，使得很多價(jià)格合理的高透明材料不能作為ITO透明導(dǎo)電薄膜的基體應(yīng)用，也就相應(yīng)的提高了 ITO透明導(dǎo)電薄膜產(chǎn)品的成本和價(jià)格，而且更加限制了 ITO透明導(dǎo)電薄膜產(chǎn)品的應(yīng)用范圍。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種工作穩(wěn)定性好的獨(dú)立可整體行走立式多層復(fù)合ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案為:本發(fā)明提供了一種獨(dú)立可整體行走立式多層復(fù)合ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)，所述獨(dú)立可整體行走立式多層復(fù)合ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)包括卷繞機(jī)底座，所述卷繞機(jī)底座上設(shè)置有多層分開的放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)和收料機(jī)構(gòu)；
[0005]所述放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、收料機(jī)構(gòu)均與自動(dòng)控制機(jī)構(gòu)相連接；
[0006]所述放料機(jī)構(gòu)為放料輥和放料及分開系統(tǒng)，所述收料機(jī)構(gòu)為收料復(fù)合機(jī)構(gòu)和收料輥；
[0007]所述放料及分開系統(tǒng)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、收料復(fù)合機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有各自獨(dú)立的同步驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。
[0008]所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有表面處理機(jī)構(gòu)。
[0009]所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有對分開后各層ITO柔性基材的卷繞進(jìn)程有實(shí)時(shí)同步的自動(dòng)糾偏機(jī)構(gòu)。
[0010]所述立式單鼓內(nèi)還設(shè)置有薄膜沉積時(shí)的鼓表面的溫度控制機(jī)構(gòu)。
[0011]有益效果:本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，設(shè)計(jì)合理，工作穩(wěn)定性好，在常溫下可以工作。薄膜真空沉積系統(tǒng)和自控卷繞系統(tǒng)不固定連接，完全分離，極大地減少了真空腔體的開孔和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，使得卷繞機(jī)構(gòu)約束少；各個(gè)組成部分協(xié)調(diào)一致，同步運(yùn)行，工作穩(wěn)定性好，能夠做到獨(dú)立張緊系統(tǒng)和獨(dú)立糾偏系統(tǒng)同步控制。實(shí)現(xiàn)了多層復(fù)合ITO柔性基材安裝和拆卸的自動(dòng)化，減少了對膜層的損傷，提高了生產(chǎn)效率。
[0012]相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0013](I)非平衡陰極布置形式和自隔氣的整體式封閉屏蔽罩和各自獨(dú)立的供氣機(jī)構(gòu)，主要是通過低氣壓等離子體的非均勻放電性形式，是在電磁場與等離子體之間通過歐姆加熱、隨機(jī)加熱和二次電子發(fā)射加熱等諸多電子加熱的機(jī)制，間接的微小范圍內(nèi)局部暫時(shí)提高基體表面的瞬時(shí)溫度，來達(dá)到不對基體進(jìn)行劇烈加熱而保證形成導(dǎo)電薄膜的材料可以最大可能的按要求沉積在基體的表面。
[0014](2)等離子體能在不對基體加熱的條件下，通過改善物理氣相沉積的工藝參數(shù)和采用更加合理的設(shè)備結(jié)構(gòu)以及經(jīng)過優(yōu)化的磁場布置形式等多種技術(shù)和理論的綜合，促使形成導(dǎo)電薄膜的材料可以最大可能的按要求沉積在基體的表面。為薄膜在基體表面的生長提供必要而且足夠的活化能。實(shí)現(xiàn)了溫超大面積多層復(fù)合卷繞ITO柔性基材全電阻值系列復(fù)合卷繞ITO柔性基材全電阻值系列ITO膜的工業(yè)化生產(chǎn)。
[0015](3)采用物理氣相沉積技術(shù)將透明導(dǎo)電氧化物導(dǎo)電玻璃薄膜在室溫的條件下沉積在PET、PEN、PC等多層復(fù)合的柔性透明塑料基體上，并作為柔性光電子基礎(chǔ)材料而廣泛用于柔性顯示器、各種柔性光電電子器件、柔性共形觸摸屏等領(lǐng)域。
【附圖說明】
[0016]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]I放料輥；2自控張緊系統(tǒng)；3表面處理機(jī)構(gòu)；4立式單鼓機(jī)構(gòu)及溫控系統(tǒng)；5自動(dòng)糾偏機(jī)構(gòu)；6收料復(fù)合機(jī)構(gòu)；7收料棍；8卷繞機(jī)底座；9卷繞機(jī)隔板；10放料及分開系統(tǒng)。
【具體實(shí)施方式】
[0018]以下通過實(shí)施例進(jìn)一步說明本發(fā)明。應(yīng)該理解的是，這些實(shí)施例是本發(fā)明的闡釋和舉例，并不以任何形式限制本發(fā)明的范圍。
[0019]實(shí)施例1
[0020]本發(fā)明提供了一種獨(dú)立可整體行走立式多層ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)，所述獨(dú)立可整體行走立式多層ITO柔性基材自控卷繞系統(tǒng)包括卷繞機(jī)底座，所述卷繞機(jī)底座上設(shè)置有多層分開的放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)和收料機(jī)構(gòu)；
[0021 ] 所述放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、收料機(jī)構(gòu)均與自動(dòng)控制機(jī)構(gòu)相連接；
[0022]所述放料機(jī)構(gòu)為放料輥和放料及分開系統(tǒng)，所述收料機(jī)構(gòu)為收料復(fù)合機(jī)構(gòu)和收料輥；
[0023]所述放料及分開系統(tǒng)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、收料復(fù)合機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有各自獨(dú)立的同步驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。
[0024]所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有對需沉積復(fù)合卷繞ITO柔性基材全電阻值系列ITO膜的ITO柔性基材前后表面進(jìn)行等離子處理的表面處理機(jī)構(gòu)。
[0025]所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有對分開后各層ITO柔性基材的卷繞進(jìn)程有實(shí)時(shí)同步的自動(dòng)糾偏機(jī)構(gòu)。
[0026]所述立式單鼓內(nèi)還設(shè)置有薄膜沉積時(shí)的鼓表面的溫度控制機(jī)構(gòu)。
[0027]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，設(shè)計(jì)合理，在常溫下可以工作。薄膜真空沉積系統(tǒng)和自控卷繞系統(tǒng)不固定連接，完全