一種拋光機的上拋光盤的制作方法
【專利說明】一種拋光機的上拋光盤
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及研磨機或拋光機的結(jié)構(gòu)，具體涉及一種拋光機的上拋光盤。
【背景技術(shù)】
[0003]用于藍寶石襯底材料拋光機的下拋光盤，由于在拋光過程中會產(chǎn)生大量的熱，溫度的變化必然會導致拋光盤發(fā)生形變，進而影響加工質(zhì)量，因此必須嚴格控制拋光盤的溫度。近年來藍寶石襯底晶片的尺寸趨向大直徑化，對藍寶石晶片的質(zhì)量要求也越來越嚴，對于用來進行藍寶石晶片拋光加工的拋光設(shè)備，必須嚴格控制拋盤的形變。
[0004]此前生產(chǎn)的單面拋光機的拋盤采用整體式結(jié)構(gòu)，沒有進行專門溫度控制的裝置，拋光加工過程中所產(chǎn)生的熱量主要靠拋光液帶走，屬于被動式冷卻，拋盤溫度的變化不可控。而藍寶石襯底材料的應(yīng)用行業(yè)對藍寶石片的品質(zhì)要求比較高，對上下拋光盤進行精密溫度控制是必需的，因此必須采用新的下盤結(jié)構(gòu)，以便對拋盤進行冷卻，達到溫度精確控制的目的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問題，提供一種拋光機的上拋光盤。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，達到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種拋光機的上拋光盤，包括上盤工作盤，所述上盤工作盤的上方設(shè)有上盤冷水盤，在所述上盤工作盤的和所述上盤冷水盤之間設(shè)有分水盤，所述分水盤將所述上盤工作盤和所述上盤冷水盤分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔，在所述上盤冷水盤上設(shè)有進水口和出水口，分別與所述整體式圓面空腔連通。
[0007]進一步的，所述整體式圓面空腔的下層為進水區(qū)，上層為出水區(qū)，所述進水口和所述出水口均為螺紋孔，所述整體式圓面空腔的中間位置為密封圈槽。
[0008]進一步的，所述分水盤上設(shè)有通水孔，與所述進水口相通用于向下層空腔進水。
[0009]進一步的，所述上盤工作盤與上盤冷水盤之間外圈設(shè)有外圈密封圈，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈。
[0010]優(yōu)選的，所述上盤冷水盤與上盤工作盤上均設(shè)有破真空的進氣口。
[0011]進一步的，所述上盤冷水盤與分水盤由第一連接螺釘連接。
[0012]進一步的，所述上盤冷水盤與上盤工作盤由第二連接螺釘連接。
[0013]本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明通過特殊的而又簡單的分水盤結(jié)構(gòu)將上盤工作盤和冷水盤分割成兩層聯(lián)通的冷卻空腔，且空腔為整體式的圓面使得冷卻水與工作盤接觸面積最大化，水路設(shè)計由低位向上升漲，進而保證了冷卻水充分的充滿腔體后從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產(chǎn)生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統(tǒng)的被動式冷卻更可靠。結(jié)合精密的測溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng)，實現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制。同時分水盤此結(jié)構(gòu)加工工藝性較好，制造成本低。
[0014]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。本發(fā)明的【具體實施方式】由以下實施例及其附圖詳細給出。
【附圖說明】
[0015]此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:
圖1是本發(fā)明拋光機的上拋光盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明拋光機的上拋光盤A-A剖視圖；
圖3是本發(fā)明拋光機的上拋光盤的B-B剖視圖。
[0016]圖中標號說明:
1、上盤冷水盤，2、上盤冷水盤，3、分水盤，4、密封圈，5、進水口，6、內(nèi)圈密封圈，7、出水口，8、進氣口，9、第一連接螺釘，10、整體式圓面空腔，11、第二連接螺釘，12、密封圈槽，13、通水孔。
【具體實施方式】
[0017]下面將參考附圖并結(jié)合實施例，來詳述本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特點及技術(shù)實施過程:
如圖1-3所示，一種拋光機的上拋光盤，包括上盤冷水盤2，所述上盤工作盤2的上方設(shè)有上盤冷水盤1，在所述上盤工作盤2的和所述上盤冷水盤I之間設(shè)有分水盤3，所述分水盤3將所述上盤工作盤2和所述上盤冷水盤I分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔10，在所述上盤冷水盤I上設(shè)有進水口 5和出水口 7，分別與所述整體式圓面空腔10連通。
[0018]進一步的，所述整體式圓面空腔10的下層為進水區(qū)，上層為出水區(qū)，所述進水口 5和所述出水口 7均為螺紋孔，所述整體式圓面空腔10的中間位置為密封圈槽12。
[0019]進一步的，所述分水盤3上設(shè)有通水孔13，與所述進水口 5相通用于向下層空腔進水。
[0020]進一步的，所述上盤工作盤2與上盤冷水盤I之間外圈設(shè)有外圈密封圈4，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈6。
[0021]優(yōu)選的，所述上盤冷水盤I與上盤工作盤2上均設(shè)有破真空的進氣口 8。
[0022]進一步的，所述上盤冷水盤I與分水盤3由第一連接螺釘9連接。
[0023]進一步的，所述上盤冷水盤I與上盤工作盤2由第二連接螺釘11連接。
[0024]本發(fā)明的原理:
上拋光盤采用復合結(jié)構(gòu)，用分水盤3將分割為與工作盤2和冷水盤I形成的兩層腔體，上層為冷水盤1，下層為工作盤2，兩盤間采用螺釘連接，兩盤結(jié)合面內(nèi)外側(cè)均裝有密封圈，用于防止泄露。同時由于工作盤2和冷水盤I有破真空用的通氣孔，其中形成的上下兩層空腔為整體式的圓面使得冷卻水與工作盤2接觸面積最大化，冷卻水的入口和出口分別位于空腔體10的中心附近，由于分水盤3是圓餅狀的特性確保冷卻水從分水盤3圓周邊緣向中心流過，使得通路較長，水路設(shè)計是由低位向上升漲進而水路不走捷徑，冷卻水必須完全充滿腔體后才能從回水口流出，確保拋盤能得到充分的冷卻。
[0025]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種拋光機的上拋光盤，其特征在于，包括上盤工作盤(2)，所述上盤工作盤(2)的上方設(shè)有上盤冷水盤(I)，在所述上盤工作盤(2 )的和所述上盤冷水盤(I)之間設(shè)有分水盤(3 )，所述分水盤(3 )將所述上盤工作盤(2 )和所述上盤冷水盤(I)分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔(10)，在所述上盤冷水盤(I)上設(shè)有進水口(5)和出水口(7)，分別與所述整體式圓面空腔(10)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述整體式圓面空腔(10)的下層為進水區(qū)，上層為出水區(qū)，所述進水口(5)和所述出水口(7)均為螺紋孔，所述整體式圓面空腔(10)的中間位置為密封圈槽(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述分水盤(3)上設(shè)有通水孔(13)，與所述進水口(5)相通用于向下層空腔進水。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述上盤工作盤(2)與上盤冷水盤(I)之間外圈設(shè)有外圈密封圈(4)，內(nèi)圈設(shè)有內(nèi)圈密封圈(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述上盤冷水盤(I)與上盤工作盤(2)上均設(shè)有破真空的進氣口(8)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述上盤冷水盤(I)與分水盤(3)由第一連接螺釘(9)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光機的上拋光盤，其特征在于，所述上盤冷水盤(I)與上盤工作盤(2 )由第二連接螺釘(11)連接。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種拋光機的上拋光盤，包括上盤工作盤，所述上盤工作盤的上方設(shè)有上盤冷水盤，在所述上盤工作盤的和所述上盤冷水盤之間設(shè)有分水盤，所述分水盤將所述上盤工作盤和所述上盤冷水盤分割形成上下兩層連通的整體式圓面空腔，在所述上盤冷水盤上設(shè)有進水口和出水口，分別與所述整體式圓面空腔連通。本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特殊而又簡單,使得冷卻水與工作盤接觸面積最大化，保證了冷卻水充分的充滿腔體后從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產(chǎn)生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統(tǒng)的被動式冷卻更可靠；結(jié)合精密的測溫系統(tǒng)及冷卻水流量調(diào)節(jié)系統(tǒng)，實現(xiàn)了拋盤溫度的精密控制；加工工藝性較好，制造成本低。
【IPC分類】B24B37-16
【公開號】CN104772694
【申請?zhí)枴緾N201510137433
【發(fā)明人】金萬斌, 李方俊, 陳麗春
【申請人】蘇州赫瑞特電子專用設(shè)備科技有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年3月27日