21和傳送座22 (圖中未顯示)，傳送座22安裝在傳送架21內(nèi)，基片架10通過傳送座22傳送，識別器40設(shè)置在傳送架21上。
[0029]識別器40進一步包括一紅外線發(fā)射單元41、一紅外線接收單元42和一轉(zhuǎn)換單元43，轉(zhuǎn)換單元43與紅外線接收單元42連接，紅外線發(fā)射單元41與識別孔30的高度一致。紅外線發(fā)射單元41和紅外線接收單元42整合安裝在一起，紅外線發(fā)射單元41發(fā)射紅外線,紅外線接收單元42接收紅外線。
[0030]紅外線發(fā)射單元41和紅外線接收單元42設(shè)置在傳送機構(gòu)的兩側(cè)，紅外線發(fā)射單元41和紅外線接收單元42對應(yīng)；紅外線發(fā)射單元41進一步包括至少一個紅外線發(fā)射元件411，紅外線接收單元42進一步包括一紅外線接收元件421，紅外線發(fā)射元件411和紅外線接收元件412對應(yīng)，紅外線發(fā)射元件411和紅外線接收元件412組合在一起與識別孔30對應(yīng)。
[0031]識別孔30進一步分為開放識別孔31和封閉識別孔32，封閉識別孔32與開放識別孔31的直徑一致，封閉識別孔32通過將開放識別孔31封閉形成。封閉識別孔32是人工自動封閉，換句話說，在加工識別孔30時，都是統(tǒng)一加工成開放識別孔31，然后人為封閉開放識別孔31，這樣開放識別孔31和封閉識別孔32的數(shù)量和位置關(guān)系依據(jù)生產(chǎn)線中基片架數(shù)量和類型確定調(diào)整，更加靈活調(diào)節(jié)開放識別孔31與封閉識別孔32的位置和數(shù)量，這樣使識別孔30的種類增多，更加方便跟蹤不同類型的基片。
[0032]紅外線發(fā)射元件41和紅外線接收元件42對應(yīng)一開放識別孔31或一封閉識別孔32，當(dāng)紅外線發(fā)射元，41對應(yīng)開放識別孔31時，紅外線發(fā)射元件31發(fā)射的紅外線穿過開放識別孔31，并通過紅外線接收元42接收紅外線，紅外線接收元件42傳遞一種信號給轉(zhuǎn)換單元43 ;當(dāng)紅外線發(fā)射元件41對應(yīng)封閉識別孔32時，紅外線發(fā)射元件41發(fā)射的紅外線不能通過封閉識別孔32，紅外線接收元42接收不到紅外線發(fā)射元件41發(fā)射的紅外線，紅外線接收元件42傳遞另一種類型信號給轉(zhuǎn)換單元43。
[0033]轉(zhuǎn)換單元43將紅外線接收元件42接收到紅外線發(fā)射元件41發(fā)出的紅外線發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“1”，轉(zhuǎn)換單元43將紅外線接收元件42未接收到紅外線發(fā)射元件41發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“0”，這樣對應(yīng)與二進制，便于編程。
[0034]基片識別裝置的識別基片的類型依據(jù)識別孔30的數(shù)量確定，識別孔30多，識別孔30中開放識別孔31和封閉識別孔32之間的數(shù)量和位置關(guān)系多種多樣，將識別孔數(shù)量記為2"個，則基片識別裝置識別基片類型的數(shù)量為2n，n> I。優(yōu)選，識別裝置識別基片類型的數(shù)量為2η，5彡η彡1，η表示識別孔的數(shù)量，這樣基片識別裝置識別基片類型至少有2種，至多有32種。
[0035]基片識別裝置進一步包括一控制器50，控制器50與識別器40的轉(zhuǎn)換單元43無線連接，控制器40接收轉(zhuǎn)換單元43的信號并匯總。
[0036]基片識別裝置進一步包括一顯示器60和一輸入鍵盤70，顯示器60與控制器50連接，輸入鍵盤70與控制器50連接，通過輸入鍵盤70將各種基片型號輸入控制器50內(nèi)，對應(yīng)于轉(zhuǎn)換單元43轉(zhuǎn)換的二進制編碼，這樣通過顯示器60更加清楚顯示各基片型號。
[0037]圖3Α為基片架10上安裝第一種類型基片時，基片架10上識別孔30排布示意圖。
[0038]圖3Β為基片架10上安裝第二種類型基片時，基片架10上識別孔30排布示意圖。
[0039]圖3C為基片架10上安裝第三種基片類型時，基片架10上識別孔30排布示意圖
[0040]最后有必要在此說明的是:以上實施例只用于對本發(fā)明的技術(shù)方案作進一步詳細地說明，不能理解為對本發(fā)明保護范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的上述內(nèi)容作出的一些非本質(zhì)的改進和調(diào)整均屬于本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，安裝在基片架和傳送機構(gòu)上，其特征在于，所述真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置包括至少2n個識別孔和一識別器，所述識別孔設(shè)置在所述基片架上，所述識別器安裝在傳送機構(gòu)上，所述識別器進一步包括一紅外線發(fā)射單元、一紅外線接收單元和一轉(zhuǎn)換單元，所述轉(zhuǎn)換單元與所述紅外線接收單元連接，所述紅外線發(fā)射單元與所述識別孔的高度一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述識別孔進一步分為開放識別孔和封閉識別孔，所述封閉識別孔與所述開放識別孔的直徑一致，所述封閉識別孔通過將所述開放識別孔封閉形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述封閉識別孔是人工自動封閉。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述開放識別孔和所述封閉識別孔的數(shù)量和位置關(guān)系依據(jù)生產(chǎn)線中基片架數(shù)量和類型確定調(diào)整。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述紅外線發(fā)射單元和所述紅外線接收單元整合安裝。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述紅外線發(fā)射單元和所述紅外線接收單元設(shè)置在傳送機構(gòu)的兩側(cè)，所述紅外線發(fā)射單元和所述紅外線接收單元對應(yīng)；所述紅外線發(fā)射單元進一步包括至少一個紅外線發(fā)射元件，所述紅外線接收單元進一步包括一紅外線接收元件，所述紅外線發(fā)射元件和所述紅外線接收元件對應(yīng)，所述紅外線發(fā)射元件和所述紅外線接收元件組合在一起與識別孔對應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)換單元將紅外線接收元件接收到紅外線發(fā)射元件發(fā)出的紅外線時發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“ 1”，所述轉(zhuǎn)換單元將紅外線接收元件未接收到紅外線發(fā)射元件發(fā)出的紅外線時發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“O”，對應(yīng)二進制。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述基片識別裝置的識別基片類型的數(shù)量依據(jù)所述識別孔的數(shù)量確定。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述基片識別裝置進一步包括一控制器，所述控制器與所述識別器的轉(zhuǎn)換單元無線連接，所述控制器接收轉(zhuǎn)換單元的信號匯總。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其特征在于:所述基片識別裝置進一步包括一顯示器和一輸入鍵盤，所述顯示器與所述控制器連接，所述輸入鍵盤與所述控制器連接，通過輸入鍵盤將各種基片型號輸入控制器內(nèi)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，安裝在基片架和傳送機構(gòu)上，包括：至少2n個識別孔和一識別器，識別孔設(shè)置在基片架上，識別器安裝在傳送機構(gòu)上，識別器進一步包括一紅外線發(fā)射單元、一紅外線接收單元和一轉(zhuǎn)換單元，轉(zhuǎn)換單元與紅外線接收單元連接，紅外線發(fā)射單元與識別孔的高度一致。與現(xiàn)有技術(shù)相比，該基片識別裝置的識別孔和識別器分別安裝在基片架和傳送機構(gòu)上，識別器上的紅外線發(fā)射單元發(fā)射紅外線穿過識別孔，通過紅外線接收單元接收紅外線量確定識別孔中開放識別孔和封閉識別孔的數(shù)量和位置關(guān)系，從而確定基片型號；該基片識別裝置結(jié)構(gòu)簡單，不受電磁影響，連續(xù)快速識別基片，不影響鍍膜生產(chǎn)工藝，因此其應(yīng)用前景十分廣闊。
【IPC分類】C23C14-54
【公開號】CN104711536
【申請?zhí)枴緾N201310688491
【發(fā)明人】黃國興, 孫桂紅, 祝海生, 黃樂, 梁紅, 吳永光
【申請人】湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
【公開日】2015年6月17日
【申請日】2013年12月16日