一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空鍍膜生產(chǎn)線領(lǐng)域，具體說，是涉及一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾燈許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。需要鍍膜的材料被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。
[0003]在真空鍍膜生產(chǎn)線中，會有大量的基片通過基片架運送到真空鍍膜腔內(nèi)鍍膜，然后從鍍膜腔內(nèi)移出，結(jié)束鍍膜。但是在鍍膜的生產(chǎn)工藝過程中，為了使基片完整鍍膜，基片上不能有任何標(biāo)識，這樣在基片鍍膜中不能很快的識別基片，特別是有的基片大小相近，需要借助工具測量才能知道，而且基片在在鍍膜的生產(chǎn)工藝過程中進(jìn)行到哪一步也是不能確定的，因此這個工作人員，特別是在出現(xiàn)故障時，不能準(zhǔn)確檢修，而是需要將整個生產(chǎn)工藝檢查一次，這樣耗費大量的人力物力，降低生產(chǎn)效率。專利號為200610062223的申請文件，提供了一種能自動識別的基片架、識別方法及自動識別裝置，該裝置是在基片架上設(shè)有一組與基片架的編號相對應(yīng)的能使光信號穿過的條形光柵孔編碼，所述條形光柵孔編碼由寬條形光柵孔和/或窄條形光柵孔組合而成，對應(yīng)與基片架的編號的二進(jìn)制表示。該編碼采用的是寬條形光柵孔或窄條形光柵孔組合形成，這樣形狀不一的識別方式不僅導(dǎo)致基片架加工時，尤其是成條形光柵孔時的要求較高，使基片架的生產(chǎn)工藝更加復(fù)雜；此外，可識別的基片架數(shù)量受到限制，僅能通過增加更多的條形光柵孔實現(xiàn)，具體使用時較為受限。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，該識別裝置設(shè)置在基片架上，該識別裝置結(jié)構(gòu)簡單，快速識別基片，不影響鍍膜生產(chǎn)工藝。
[0005]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
[0006]一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，安裝在基片架和傳送機構(gòu)上，基片識別裝置包括:至少2n個識別孔和一識別器，識別孔設(shè)置在基片架上，識別器安裝在傳送機構(gòu)上，識別器進(jìn)一步包括一紅外線發(fā)射單元、一紅外線接收單元和一轉(zhuǎn)換單元，轉(zhuǎn)換單元與紅外線接收單元連接，紅外線發(fā)射單元與識別孔的高度一致。
[0007]優(yōu)選地，基片架通過傳送機構(gòu)在鍍膜生產(chǎn)線中傳送，基片架進(jìn)一步包括第一支撐桿、第二支撐桿、第一擋板和第二擋板，所述第一支撐桿、第一擋板、第二支撐桿和第二擋板兩兩連接形成一長方形框架，識別孔設(shè)置在第二擋板上；傳送機構(gòu)進(jìn)一步包括一傳送架和傳送座，傳送座安裝在傳送架內(nèi)，基片架通過傳送座傳送，識別器設(shè)置在傳送架上。
[0008]更優(yōu)選地，紅外線發(fā)射單元和紅外線接收單元整合安裝。
[0009]優(yōu)選地，紅外線發(fā)射單元和紅外線接收單元設(shè)置在傳送機構(gòu)的兩側(cè)，紅外線發(fā)射單元和紅外線接收單元對應(yīng)；紅外線發(fā)射單元進(jìn)一步包括至少一個紅外線發(fā)射元件，紅外線接收單元進(jìn)一步包括一紅外線接收元件，紅外線發(fā)射元件和紅外線接收元件對應(yīng)，紅外線發(fā)射元件和紅外線接收元件組合在一起與識別孔對應(yīng)。
[0010]優(yōu)選地，識別孔進(jìn)一步分為開放識別孔和封閉識別孔，封閉識別孔與開放識別孔的直徑一致，封閉識別孔是通過將開放識別孔封閉形成。
[0011]更優(yōu)選地，該封閉識別孔是人工自動封閉，換句話說，在加工該識別孔時，都是加工成開放識別孔，然后人為封閉開放識別孔，這樣更加靈活調(diào)節(jié)開放識別孔與封閉識別孔的位置，更加方便跟蹤基片。
[0012]更優(yōu)選地，開放識別孔和封閉識別孔的數(shù)量和位置關(guān)系依據(jù)生產(chǎn)線中基片架數(shù)量和類型確定調(diào)整。
[0013]更優(yōu)選地，紅外線發(fā)射元件和紅外線接收元件對應(yīng)一開放識別孔或一封閉識別孔，當(dāng)紅外線發(fā)射元件對應(yīng)開放識別孔時，紅外線發(fā)射元件發(fā)射的紅外線通過開放識別孔，并通過紅外線接收元件接收紅外線，接收元件傳遞一種信號給轉(zhuǎn)換單元；當(dāng)紅外線發(fā)射元件對應(yīng)封閉識別孔時，紅外線發(fā)射元件發(fā)射的紅外線不能通過封閉識別孔，紅外線接收不到紅外線發(fā)射元件發(fā)射的紅外線，紅外線接收元件傳遞另一種類型信號給轉(zhuǎn)換單元。
[0014]優(yōu)選地，轉(zhuǎn)換單元將紅外線接收元件接收到紅外線發(fā)射元件發(fā)出的紅外線發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“ I ”，轉(zhuǎn)換單元將紅外線接收元件未接收到紅外線發(fā)射元件發(fā)出的信號轉(zhuǎn)換為“ O ”，對應(yīng)二進(jìn)制。
[0015]優(yōu)選地，基片識別裝置的識別基片類型的數(shù)量依據(jù)識別孔的數(shù)量確定。
[0016]更優(yōu)選地，基片識別裝置識別基片類型的數(shù)量為2η，η彡I。
[0017]更優(yōu)選地，基片識別裝置識別基片類型的數(shù)量為2η，5彡η彡I。
[0018]優(yōu)選地，基片識別裝置進(jìn)一步包括一控制器，控制器與識別器的轉(zhuǎn)換單元無線連接，控制器接收轉(zhuǎn)換單元的信號匯總。
[0019]優(yōu)選地，基片識別裝置進(jìn)一步包括一顯示器和一輸入鍵盤，顯示器與控制器連接，輸入鍵盤與控制器連接，通過輸入鍵盤將各種基片型號輸入控制器內(nèi)，便于通過顯示器顯
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[0020]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置，其識別孔和識別器分別安裝在基片架和傳送機構(gòu)上，識別器上的紅外線發(fā)射單元發(fā)射紅外線穿過識別孔，通過紅外線接收單元接收的紅外線量確定識別孔中開放識別孔和封閉識別孔的數(shù)量和位置關(guān)系，從而確定安裝在基片架上基片的型號；該識別裝置結(jié)構(gòu)簡單，不受電磁影響，連續(xù)快速識別基片型號，不影響鍍膜生產(chǎn)工藝，因此其應(yīng)用前景十分廣闊。
【附圖說明】
[0021]圖1為本發(fā)明提供的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置一種優(yōu)選實施方式示意圖；
[0022]圖2為本發(fā)明提供的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置一種優(yōu)選實施方式的連接示意圖；
[0023]圖3A為本發(fā)明提供的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置一種優(yōu)選實施方式中基片架上安裝第一種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖；
[0024]圖3B為本發(fā)明提供的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置一種優(yōu)選實施方式中基片架上安裝第二種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖；
[0025]圖3C為本發(fā)明提供的真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置一種優(yōu)選實施方式中基片架上安裝第三種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖。
【具體實施方式】
[0026]下面結(jié)合實施方式及附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)、完整地說明。
[0027]圖1至圖2，為本發(fā)明一種真空鍍膜生產(chǎn)線用基片識別裝置的示意圖。如圖1至圖2所示，該基片識別裝置置安裝在基片架10和傳送機構(gòu)20上，基片識別裝置包括至少2n個識別孔30和一識別器40，識別孔30設(shè)置在基片架10上，識別器40設(shè)置在傳送機構(gòu)20上，識別器40通過識別基片架10上識別孔10的數(shù)量和位置識別基片架10上基片的型號。
[0028]基片架10通過傳送機構(gòu)20在鍍膜生產(chǎn)線中傳送，基片架10進(jìn)一步包括第一支撐桿11、第二支撐桿12、第一擋板13和第二擋板14，第一支撐桿11、第一擋板13、第二支撐桿12和第二擋板14兩兩連接形成一長方形框架，識別孔30設(shè)置在第二擋板14上；傳送機構(gòu)20進(jìn)一步包括一傳送架