專(zhuān)利名稱：真空鍍膜中水動(dòng)旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)式濺射靶及多弧源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，是一種新型濺射靶及多弧源。
尚未見(jiàn)到在真空鍍膜設(shè)備中，采用本實(shí)用新型所述的水動(dòng)式旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)濺射靶及多弧源。
在常見(jiàn)的真空鍍膜設(shè)備中，所使用的濺射靶或多弧源均采用固定磁場(chǎng)加速濺射靶或多弧源的離化。這種方法對(duì)于濺射離化靶材雖是行之有效的，但靶材或離化源表面常被濺蝕離化成葫蘆狀、馬鞍形，嚴(yán)重影響靶源材料的使用壽命和濺射離化品質(zhì)。為改善上述缺欠，本實(shí)用新型提出用冷卻水帶動(dòng)的復(fù)合磁鐵在濺射靶或多弧源中形成旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)，達(dá)到提高濺射離化品質(zhì)，增加靶材弧源使用壽命的目的。
本實(shí)用新型的目的是給出濺射靶或多弧源的一種由冷卻水帶動(dòng)的復(fù)合磁鋼組成的旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)的實(shí)施方案，來(lái)提高濺射離化品質(zhì)使用鍍材離化表面平滑光順，既利于提高鍍材的使用率，又提高了鍍膜質(zhì)量。
目前在真空鍍膜設(shè)備中，無(wú)論是濺射靶還是多弧源多采用直接水冷法降低鍍材的表面溫度，以提高鍍膜質(zhì)量。也常采用永久磁鐵形成的固定磁場(chǎng)來(lái)加速濺射靶或多弧源的離化提高離化品質(zhì)。本實(shí)用新型采用增設(shè)固定裝上永久磁鋼組成的可旋轉(zhuǎn)的磁鋼架，通過(guò)冷卻水沖動(dòng)轉(zhuǎn)架旋轉(zhuǎn)，在鍍材表面形成一旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)，用以改善濺射靶或多弧源的離化質(zhì)量。
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1示出了濺射靶的水動(dòng)磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)示意圖，圖2示出多弧源的水動(dòng)磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)示意圖，在
圖1和圖2中，1是入水管、2是轉(zhuǎn)動(dòng)軸承、3是磁鋼架、4是葉氣組、5是磁鋼組、6是鍍材、7是出水管、8是泄水孔。另外，在
圖1中9是轉(zhuǎn)動(dòng)支撐。其工作原理如下在
圖1中，將常見(jiàn)的磁控濺射靶其砂鋼組5，固定在增設(shè)的磁鋼架3的外壁上，在磁鋼架3的內(nèi)壁上裝有葉片組4。磁鋼3是經(jīng)過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)軸承2與入水管1實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)和密封連接的。顯然，當(dāng)冷卻水從入水管1進(jìn)入后，先沖動(dòng)葉片組4經(jīng)泄水孔8，然后再通過(guò)鍍材6與磁鋼架3之間的通道至出水管7回流?？梢?jiàn)，冷卻水對(duì)葉氣組4的沖擊，由于葉片組4與磁鋼架3的安裝有一旋轉(zhuǎn)角，故能使磁鋼架3與入水管1經(jīng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸承2產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)，從而帶動(dòng)磁鋼組5與鍍材6相對(duì)旋轉(zhuǎn)，這樣可有效地避免常見(jiàn)的磁控濺射靶濺蝕后鍍材6表面呈凹凸不平狀(即糖葫蘆狀)。需說(shuō)明，濺射靶的長(zhǎng)度通常較長(zhǎng)，在
圖1的結(jié)構(gòu)示意中，為使旋轉(zhuǎn)穩(wěn)定，通常在另一端沒(méi)有轉(zhuǎn)動(dòng)支撐9，以利轉(zhuǎn)動(dòng)。在圖2中示出的多弧源的水動(dòng)磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)中，與
圖1結(jié)構(gòu)原理相同，但多弧源一般軸向長(zhǎng)度很短僅幾厘米，故可省略轉(zhuǎn)動(dòng)支撐9。另外，復(fù)合磁場(chǎng)在
圖1中，磁鋼組5可由多塊長(zhǎng)條形磁鋼排列成軸向首尾相接，徑向呈多組角向極化式。圖2中磁鋼組5可由多塊磁鋼排列成徑向復(fù)合不等場(chǎng)強(qiáng)磁場(chǎng)，有效地避免鍍材6被燒蝕成馬鞍形。
本實(shí)用新型實(shí)際上提出了一種新的可慢速轉(zhuǎn)動(dòng)的磁場(chǎng)，來(lái)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中固定永久磁場(chǎng)的改進(jìn)，經(jīng)在我公司產(chǎn)品上應(yīng)用，與現(xiàn)有技術(shù)相比，大大提高了鍍材的離化品質(zhì)，使鍍膜工藝更上一層樓，有很好的應(yīng)用前景。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜中水動(dòng)旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)式濺射靶及多弧源，其特征在于a、它的水動(dòng)旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)是由冷卻水沖動(dòng)磁鋼架[3]上的葉片組[4]來(lái)帶動(dòng)磁鋼組[5]經(jīng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸承[2]形成磁鋼組[5]與鍍材[6]旋轉(zhuǎn)的，b、它的復(fù)合磁場(chǎng)的磁鋼組[5]在濺射靶中可由多塊磁鋼排列成軸向首尾相接，徑向呈多組角向極化式；在多弧源中可由多塊磁鋼排列成徑向復(fù)合不等場(chǎng)強(qiáng)磁場(chǎng)。
專(zhuān)利摘要真空鍍膜中水動(dòng)旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)式濺射靶及多弧源屬真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，是一種具有旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)的新型濺射靶或多弧源。它利用冷卻水作動(dòng)力，成功地將角向極化式磁場(chǎng)和復(fù)合不等場(chǎng)強(qiáng)磁場(chǎng)應(yīng)用在濺射靶和多弧源上，形成水動(dòng)式旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)的濺射靶和多弧源，大大提高了鍍材的離化品質(zhì)，有很好的應(yīng)用前景。
文檔編號(hào)C23C14/34GK2206298SQ9421466
公開(kāi)日1995年8月30日 申請(qǐng)日期1994年6月20日 優(yōu)先權(quán)日1994年6月20日
發(fā)明者于書(shū)吉, 王永光, 粟達(dá)人, 張厚先 申請(qǐng)人:北京科智達(dá)技術(shù)發(fā)展公司