1.一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層，其特征在于，包括復合涂層由高熵合金擴散障層和高溫防護涂層構成；
2.根據(jù)權利要求1所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層，其特征在于，a+b+c+d+e＝1，a、b、c、d和e的范圍為0.05～0.35。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層，其特征在于，所述高熵合金擴散障層為非晶相結構，厚度為3.8～4.2μm。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層，其特征在于，所述高溫防護涂層的厚度為7.4～7.8μm。
5.一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
6.根據(jù)權利要求5所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的制備方法，其特征在于，步驟s3中，在沉積高熵合金擴散障之前對fe-cr基體進行研磨和拋光，拋光后的fe-cr基體分別置于無水乙醇和去離子水中超聲清洗，將清洗好fe-cr基體在室溫環(huán)境下干燥，之后將干燥的fe-cr高溫合金基體安裝在磁控濺射設備的樣品臺上，將步驟s1得到的alcrtatizr高熵合金靶材放置在射頻靶上，得到沉積在fe-cr基體表面的alcrtatizr高熵合金擴散障層。
7.根據(jù)權利要求5所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的制備方法，其特征在于，步驟s4中，將步驟s3得到的alcrtatizr高熵合金薄膜樣品安裝在磁控濺射設備的樣品臺上，將步驟s2得到的nialy合金靶材放置在射頻靶上，得到alcrtatizr/nialy復合涂層。
8.根據(jù)權利要求5所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的制備方法，其特征在于，在步驟s3中，磁控濺射參數(shù)為：真空度9×10-3～1×10-4pa，fe-cr高溫合金基體的溫度100～200℃，alcrtatizr高熵合金靶材的功率250w，氣壓0.59～0.61pa。
9.根據(jù)權利要求5所述的一種具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的制備方法，其特征在于，在步驟s4中，磁控濺射參數(shù)為：真空度9×10-3～1×10-4pa，alcrtatizr高熵合金薄膜樣品的溫度100～200℃，nialy合金靶材的功率300w，氣壓0.69～0.71pa。
10.一種表面覆有如權利要求1-4任一所述的具有良好阻擴散及抗氧化性能的復合涂層的基體。