本實用新型涉及發(fā)光顯示器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及oled顯示器蒸鍍用高PPI 金屬掩模板材料。

背景技術(shù)：

作為新一代顯示器，有機發(fā)光顯示器(OLED)有著相比LCD等顯示器更好的特點，如自發(fā)光而不需要背光，也可以實現(xiàn)柔性顯示等，在對比度及響應(yīng)時間等方面也有優(yōu)勢。實現(xiàn)OLED器件的方法有若干種，其中比較基本的一種方法是紅綠藍(RGB)像素并置法，這種方法制作的器件顯示色彩純正，發(fā)光效率高；RGB并置法需要用到金屬掩模法，對于工具為精細金屬掩模板(fine metal mask,FMM)。目前常用FMM材料厚度為30～50um，由于錐角(taper)角度存在，厚度30～50um材料只能制作分辨率約350PPI 以下的FMM；如果分辨率需要提升，需要使用更薄的掩模板材料,例如 10～25um。但是更薄的掩模板材料在實施張網(wǎng)的過程中會產(chǎn)生很多困難點無法克服，如褶皺(wrinkle)變大、焊接強度不足、或強度弱易損壞等等。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，提供一種oled顯示器蒸鍍用高PPI金屬掩模板，同時還提供其加工方法，該方法在原來的材料厚度基礎(chǔ)(30～50um)上做加工，得到的材料可以用于制作更高分辨率的精細金屬掩模板，同時克服褶皺(wrinkle)變大、焊接強度不足、強度弱易損壞等等問題。

為了解決上述問題，本實用新型的技術(shù)方案具體包括：

一種oled顯示器蒸鍍用高PPI金屬掩模板，包括一母板，所述母板設(shè)置有半刻區(qū)，所述母板厚度為30～50um，所述半刻區(qū)厚度為10～25um。

其中半刻區(qū)為多格結(jié)構(gòu)或為一格結(jié)構(gòu)。

所述母板包括有效顯示區(qū)域和圍繞所述有效顯示區(qū)域四周的非有效顯示區(qū)域,所述有效顯示區(qū)域具有第一厚度,所述非有效顯示區(qū)域具有大于所述第一厚度的第二厚度。

所述第一厚度為10～25um,所述第二厚度為30～50um。

刻蝕工藝路線：光刻膠涂敷—需刻蝕區(qū)域進行曝光處理—顯影—刻蝕—光刻膠剝離

半刻區(qū)為多格結(jié)構(gòu)時，需要保留半刻區(qū)四周及半刻區(qū)格與格之間的肉厚材料。

半刻區(qū)為一格結(jié)構(gòu)時，需要保留半刻區(qū)四周的肉厚材料。

有益效果，本實用新型所述的方案，可有效制作高分辨率產(chǎn)品所需精細金屬掩模板(FMM)原料，同時解決張網(wǎng)褶皺(wrinkle)大和焊接強度弱等問題。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實施方式來詳細說明本實用新型；

圖1是本實用新型實施例1示意圖。

圖1a為圖1的B-B方向截面圖。

圖2是本實用新型實施例2示意圖。

圖2a為圖1的C-C方向截面圖

具體實施方式

為了使本實用新型實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體圖示，進一步闡述本實用新型。

選取30-50um的金屬掩模板材料，在有效顯示區(qū)域位置蒸鍍側(cè)先采用刻蝕的方式(例如藥液刻蝕掉)移除一部分，形成一半刻區(qū),留下我們需要厚度的材料，同時保留非有效顯示區(qū)的厚度；在這個材料的基礎(chǔ)上可以進一步制作高分辨率的金屬掩模板。

實施例1，參看圖1及圖1a，在有效顯示區(qū)域?qū)?yīng)位置蒸鍍側(cè)刻蝕掉部分材料，保留需要的厚度(一般10～25um)；

同時保留圍繞在有效顯示區(qū)域四周的非有效顯示區(qū)全部材料厚度；

上述的刻蝕工藝路線舉例如下：光刻膠涂敷—需刻蝕區(qū)域進行曝光處理—顯影—刻蝕—光刻膠剝離。

實施例2，參看圖2及圖2a，在有效顯示區(qū)域及有效顯示區(qū)域之間對應(yīng)位置蒸鍍側(cè)刻蝕掉部分材料，保留需要的厚度(一般10～25um)；同時保留四周非有效顯示區(qū)全部材料厚度；

上述的刻蝕工藝路線舉例如下：光刻膠涂敷——需刻蝕區(qū)域進行曝光處理——顯影——刻蝕——光刻膠剝離。

通過本實用新型的金屬掩模板,得以克服僅有單一厚度薄的掩模板材料在實施張網(wǎng)的過程中產(chǎn)生的很多困難點，例如褶皺大、焊接強度不足、或強度弱易損壞等得以被有效解決。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型專利要求保護的范圍由所附的權(quán)利要求書及其等同物界定。