專利名稱：蒸鍍裝置以及蒸鍍機臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制作工藝設(shè)備，且特別是涉及一種適用于蒸鍍制作工藝的鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
鍍膜技術(shù)大致可分為物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)以及化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)。前者主要是通過物理現(xiàn)象進行薄膜沉積,而后者主要是以化學(xué)反應(yīng)的方式進行薄膜沉積。其中，物理氣相沉積更以蒸鍍(evaporation) 及濺鍍(sputtering)為目前的主流。此兩種技術(shù)的共同點就是以物理現(xiàn)象的方式來進行薄膜沉積。就蒸鍍而言，其原理大抵是借著對被蒸鍍物體進行加熱，并利用被蒸鍍物在高溫 (接近其熔點)時所具備的飽和蒸氣壓，來進行薄膜的沉積。
蒸鍍技術(shù)的應(yīng)用廣泛，如作為顯示元件主流之一的有機電激發(fā)光元件便可采用蒸鍍技術(shù)來制作有機化合物層。然而，現(xiàn)行蒸鍍技術(shù)仍然存在難以制作大面積元件、材料容易因高溫劣化、蒸鍍膜厚不均、材料利用率低等問題。
圖1所示即為現(xiàn)有的一種蒸鍍機臺，其中坩鍋102盛裝鍍膜材料，坩鍋102下方有加熱器114對鍍膜材料加熱。被蒸發(fā)的鍍膜材料會經(jīng)由傳輸通道104而由噴嘴106噴出， 而被鍍制于待鍍物上。然而，現(xiàn)有此種蒸鍍機臺需全程對鍍膜材料進行加熱，使得鍍膜材料在坩鍋102中維持高溫狀態(tài)，以持續(xù)在待鍍物上沉積薄膜。因此，鍍膜材料容易因為長時間處在高溫狀態(tài)下而劣化，且鍍膜材料的組成成分可能改變而影響制作工藝良率。此外，鍍膜材料由噴嘴106噴出時具有擴散角，容易導(dǎo)致鍍膜不均的問題，也相對降低材料利用率。 再者，鍍膜材料盛放在坩鍋102中，當(dāng)鍍膜材料耗盡時，需中斷制作工藝后再行添加鍍膜材料，不僅較為不便，且限制了生產(chǎn)效率的提升。發(fā)明內(nèi)容·
為解決上述問題，本發(fā)明提出一種蒸鍍裝置，適于對一待鍍物進行蒸鍍。所述蒸鍍裝置包括一載帶載具以及一遮罩。載帶載具具有一加熱區(qū)。待鍍物位于加熱區(qū)上方并且適于依一進給方向移動。載帶載具適于承載一鍍膜材料通過加熱區(qū)，并且在加熱區(qū)內(nèi)加熱鍍膜材料，使鍍膜材料蒸發(fā)。遮罩設(shè)置于加熱區(qū)外圍，且遮罩具有一開口位于加熱區(qū)與待鍍物之間。被蒸發(fā)的鍍膜材料適于通過開口而被鍍制于待鍍物上。
在一實施例中，所述載帶載具包括一加熱軸桿以及一載帶(carrier tape)。加熱軸桿適于依一軸向轉(zhuǎn)動。待鍍物位于加熱軸桿的一側(cè)。載帶承靠加熱軸桿的該側(cè)，且載帶適于依加熱軸桿繞行。此外，載帶具有相對遠離加熱軸桿的一承載面，用于承載鍍膜材料通過加熱區(qū)，以通過加熱軸桿來加熱鍍膜材料。
在一實施例中，所述蒸鍍裝置還可包括一輔助軸桿。加熱軸桿與輔助軸桿實質(zhì)上相互平行并且分別承靠載帶。載帶為一封閉式載帶，繞行于加熱軸桿與輔助軸桿之間。
在一實施例中，所述蒸鍍裝置還可包括一材料槽，用以盛裝液態(tài)的鍍膜材料。承靠于輔助軸桿的部分載帶適于浸入液態(tài)的鍍膜材料中，以將液態(tài)的鍍膜材料沾附于載帶的承載面上。
在一實施例中，所述載帶為一連續(xù)的可撓帶狀物。此外，所述加熱軸桿具有垂直于軸向的一截面，且截面例如是一圓形。
在一實施例中，所述載帶為由多個片狀物相互樞接而成的一履帶，且相鄰兩片狀物之間的一樞軸實質(zhì)上平行于軸向。此外，所述加熱軸桿具有垂直于軸向的一截面，且截面例如是一正多邊形。此正多邊形的邊長實質(zhì)上等于各片狀物的寬度。
在一實施例中，所述載帶載具包括一加熱軸桿，適于依一軸向轉(zhuǎn)動，且加熱軸桿具有一表面，用于承載鍍膜材料通過加熱區(qū)，以加熱鍍膜材料。
在一實施例中，所述蒸鍍裝置還可包括一材料槽，用以盛裝液態(tài)的鍍膜材料。部分加熱軸桿適于浸入液態(tài)的鍍膜材料中，以使液態(tài)的鍍膜材料沾附于加熱軸桿的表面上。
在一實施例中，所述開口例如是一開槽。此開槽依著軸向由載帶載具的一端延伸至載帶載具的另一端。
在一實施例中,所述遮罩包括兩板件，對稱設(shè)置于加熱區(qū)的相對兩側(cè)，且所述兩板件在加熱區(qū)上方保持一間隔，以形成開口。此外，各板件垂直于軸向的一截面例如是C形或 L形。
在一實施例中，所述遮罩包括一冷卻單元。此冷卻單元例如是貫穿遮罩的多個孔道。該些孔道可實質(zhì)上平行于軸向。此外，孔道內(nèi)可通入冷卻介質(zhì)，如空氣、水或冷媒等，以提升冷卻效果。
在一實施例中，待鍍物的移動方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于軸向。
本發(fā)明更提出一種蒸鍍機臺，包括多個前述的蒸鍍裝置。所述多個蒸鍍裝置并排設(shè)置，用以對一待鍍物進行蒸鍍，而在待鍍物上形成相互堆疊的多個鍍層。
基于上述，本發(fā)明提出的蒸鍍裝置以及應(yīng)用此蒸鍍裝置的蒸鍍機臺可通過載帶載具來實現(xiàn)連續(xù)式的生產(chǎn)流程，具有高生產(chǎn)效率。此外，本發(fā)明的蒸鍍裝置以及蒸鍍機臺在加熱區(qū)對鍍膜材料進行局部加熱，可避免鍍膜材料因長時間處在高溫狀態(tài)下而劣化或組成成分改變的問題。再者，本發(fā)明的蒸鍍裝置以及蒸鍍機臺可以通過遮罩有效控制鍍膜材料蒸發(fā)的角度，以提升鍍膜的均勻性。
為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附附圖作詳細說明如下。


圖1為現(xiàn)有的一種蒸鍍機臺；
圖2為本發(fā)明的一實施例的一種蒸鍍裝置；
圖:T圖5分別為本發(fā)明幾種采用不同形狀的板件來構(gòu)成遮罩的蒸鍍裝置；
圖6 圖8分別為以圖3 圖5的蒸鍍裝置為基礎(chǔ)作變更設(shè)計的幾種蒸鍍裝置；
圖 Γ圖11分別為以圖3 圖5的蒸鍍裝置為基礎(chǔ)作變更設(shè)計的另外幾種蒸鍍裝置；
圖12為應(yīng)用圖2的蒸鍍裝置來對一待鍍物進行蒸鍍的蒸鍍機臺；
圖13為應(yīng)用圖12的蒸鍍機臺所形成的具有堆疊膜層的基板；
圖14 圖16分別為本發(fā)明采用不同的載帶載具設(shè)計的蒸鍍裝置。
主要元件符號說明
102 : 甘鍋
104 :傳輸通道
106 :噴嘴
114:加熱器
200、300、301、302、400、401、402、500、501、502、610 640、800、900 :蒸鍍裝置
210,810,910 :載帶載具
220、310、320、330、410、420、430、510、520、530、612 642、820、920、1020 :遮罩
210a、314a、414a、514a、610a 640a、810a、910a、IOlOa :加熱區(qū)
212、812、912、1012 :加熱軸桿
214、814、814、914 :載帶
214a、814a、914c :載帶的承載面
220a、612a 642a、820a、920a、1020a :開口
222、224、312、314、412、414、512、514 :板件
229 :孔道
280 :被蒸發(fā)的鍍膜材料
290 :熱阻絲
370,380,470,480,570,580 :冷卻管
600 :蒸鍍機臺
690 :待鍍物
682 688 :鍍膜材料
702 :基板
710 740 :有機化合物層
816、916 :輔助軸桿
860、960、1060 :材料槽
880,980,1080 :液態(tài)的鍍膜材料
882、982 :蒸氣態(tài)的鍍膜材料
914a :片狀物
914b :樞軸
1012a :加熱軸桿的表面
L :正多邊形的邊長
P :板件的間隔
S :進給方向
W :片狀物的寬度
父、父1 父4、￥1、丫2、21、21、0:軸向
Θ1、Θ 2 :板件的彎折角度具體實施方式
圖2繪示依照本發(fā)明的一實施例的一種蒸鍍裝置。如圖2所示，蒸鍍裝置200主要包括載帶載具210以及遮罩220。載帶載具210的作用主要在提供一加熱區(qū)210a，并且承載鍍膜材料通過加熱區(qū)210a，以在加熱區(qū)210a內(nèi)加熱鍍膜材料，使鍍膜材料蒸發(fā)。在本實施例中，載帶載具210是以加熱軸桿212結(jié)合載帶214的方式來實現(xiàn)。加熱軸桿212適于依一軸向X轉(zhuǎn)動，且加熱軸桿212會發(fā)熱，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)例如包括熱阻絲290或是采用紅外線加熱等方式。載帶214承靠加熱軸桿212的一側(cè)，并且依加熱軸桿212繞行。此外，載帶 214具有相對遠離加熱軸桿212的一承載面214a，用于承載鍍膜材料。在此，加熱軸桿212 與載帶214接觸的區(qū)域可被視為前述的加熱區(qū)210a。當(dāng)載帶214承載鍍膜材料通過加熱區(qū) 210a時，加熱軸桿212會隔著載帶214來加熱鍍膜材料至蒸氣態(tài)。
遮罩220設(shè)置于加熱區(qū)210a外圍，且遮罩220具有一開口 220a位于加熱區(qū)210a 上方，被蒸發(fā)的鍍膜材料280適于通過開口 220a而被鍍制于待鍍物上。本實施例的開口 220a例如是條狀開槽，其依著軸向X由·載帶載具210的一端延伸至載帶載具210的另一端。 更具體而言，本實施例的遮罩220由兩板件222與224構(gòu)成。該兩板件222與224對稱設(shè)置于加熱區(qū)210a的相對兩側(cè)，且兩板件222與224在加熱區(qū)210a上方保持一間隔P，以形成開槽形態(tài)的開口 220a。
本實施例并不限定遮罩220的形狀。依據(jù)實際狀況與設(shè)計需求，構(gòu)成遮罩220的板件222與224可能為任何形狀。圖:T圖5分別繪示幾種采用不同形狀的板件來構(gòu)成遮罩的蒸鍍裝置。其中，圖3的蒸鍍裝置300所采用的遮罩310由兩板件312與314構(gòu)成， 且板件312與314垂直于軸向X的截面為C形。此外，圖4的蒸鍍裝置400所采用的遮罩 410由兩板件412與414構(gòu)成，且板件412與414垂直于軸向X的截面為L形，且板件412 與414的彎折角度Θ I接近直角。另外，圖5的蒸鍍裝置500所采用的遮罩510由兩板件 512與514構(gòu)成，板件512與514垂直于軸向X的截面為L形，且板件512與514的彎折角度Θ 2為鈍角。
請再參考5，本實施例的遮罩220還可包含冷卻單元，例如貫穿遮罩220的多個孔道229，且孔道229實質(zhì)上平行于軸向X?？椎?29內(nèi)可填充冷卻介質(zhì)，例如空氣、水或冷媒。
當(dāng)然，本發(fā)明并不限制冷卻單元的型態(tài)。舉例而言，本發(fā)明不限于如前述實施例在遮罩220內(nèi)埋設(shè)孔道229，以提供冷卻效果。在其他實施例中，還可以選擇將冷卻的管路移至遮罩220外部，例如遮罩220的表面。以圖:T圖5所繪示的各種具有不同遮罩的蒸鍍裝置為例，本發(fā)明可以如圖6-圖8所示，在遮罩320用以面向加熱區(qū)314a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管370 ;在遮罩420用以面向加熱區(qū)414a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管470 ;或者，在遮罩520 用以面向加熱區(qū)514a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管570。圖6-圖8所繪示的蒸鍍裝置301、401、 501分別與圖3-圖5所繪示的蒸鍍裝置300、400、500類似。對于相同或類似的元件此處不再贅述。
另外，同樣以圖T圖5所繪示的各種具有不同遮罩的蒸鍍裝置為例，本發(fā)明還可以如圖9-圖11所示，在遮罩330用以背對加熱區(qū)314a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管380 ;在遮罩430用以背對加熱區(qū)414a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管480 ;或者，在遮罩530用以背對加熱區(qū)514a的一側(cè)設(shè)置多個冷卻管580。圖9-圖11所繪示的蒸鍍裝置301、401、501分別與圖 3-圖5所繪示的蒸鍍裝置300、400、500類似。對于相同或類似的元件此處不再贅述。
在前述實施例中，冷卻管370、380、470、480、570、580實質(zhì)上平行于軸向X，且冷卻管370、380、470、480、570、580內(nèi)同樣可填充冷卻介質(zhì)，例如空氣、水或冷媒。
圖12繪示應(yīng)用圖2的蒸鍍裝置來對一待鍍物進行蒸鍍的蒸鍍機臺。如圖12所示， 蒸鍍機臺600具有多個如前述的蒸鍍裝置61(Γ640，用以對待鍍物690進行蒸鍍，以在待鍍物690上形成相互堆疊的多個鍍層。待鍍物690設(shè)置于加熱區(qū)610a飛40a上方，并且適于依一進給方向S移動。蒸鍍裝置61(Γ640并排設(shè)置，且各蒸鍍裝置61(Γ640的軸向Xl Χ4 實質(zhì)上相互平行。一般而言，蒸鍍制作工藝會在低壓或真空環(huán)境中進行，而此低壓或真空環(huán)境主要由一蒸鍍腔室(evaporation chamber)及一用以提供蒸鍍所需的真空度的蒸空系統(tǒng) (vacuum system)所構(gòu)成。所述蒸鍍裝置610 640以及待鍍物690則被放置于蒸鍍腔室內(nèi)。
在本實施例中，待鍍物690的進給方向S實質(zhì)上與各蒸鍍裝置61(Γ640的軸向 Xl Χ4垂直。各蒸鍍裝置610 640的遮罩612 642的開口 612a 642a位于加熱區(qū)610a 640a 與待鍍物690之間，使得各蒸鍍裝置61(Γ640中被蒸發(fā)的鍍膜材料通過各自對應(yīng)的開口 612a 642a而被鍍制于待鍍物690上。
本實施例的蒸鍍機臺600可進行大面積與連續(xù)性的蒸鍍制作工藝，例如，可應(yīng)用于有機電激發(fā)光元件的制作，以在作為待鍍物690的基板上依序形成空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層以及電子注入層等有機化合物層。
圖13繪示應(yīng)用此蒸鍍機臺600所形成的具有堆疊膜層的基板。請同時參考圖12 與圖13，更具體而言，本實施例的多個蒸鍍裝置61(Γ640的載帶載具614飛44可分別承載并加熱不同的鍍膜材料682飛88，例如前述多個有機化合物層的材料。當(dāng)蒸鍍裝置61(Γ640 依照 圖3所示的位置并排，且基板702 (待鍍物690)依進給方向S通過各蒸鍍裝置61(Γ640 上方時，各有機化合物材料會逐層地被形成在基板702上。例如，蒸鍍裝置610會將其鍍膜材料682鍍制于基板702上，而形成有機化合物層710 ;蒸鍍裝置620的鍍膜材料684會被鍍制于有機化合物層710上，而形成有機化合物層720 ;蒸鍍裝置630的鍍膜材料686被鍍制于有機化合物層720上，而形成有機化合物層730 ；以及，蒸鍍裝置640的鍍膜材料688會被鍍制于有機化合物層730上，而形成有機化合物層740。
前述實施例的載帶載具210的載帶214例如是連續(xù)的可撓帶狀物，其由加熱軸桿 212帶動，可不斷提供鍍膜材料至加熱區(qū)210a，以在不中斷制作工藝的情況下持續(xù)進行蒸鍍制作工藝。另一方面，本發(fā)明還可對載帶載具進行設(shè)計，以實現(xiàn)不間斷地連續(xù)供料。下文提出多種可達到相同或類似的效果的設(shè)計作為范例說明。
依照本發(fā)明的其他實施例，圖14 圖16分別繪示采用不同的載帶載具設(shè)計的蒸鍍裝置。在此僅就圖14 圖16的蒸鍍裝置與前述實施例的差異進行說明，相關(guān)類似或相同的部分可參酌前文的揭露，此處不再贅述。
圖14的載帶載具810所使用的載帶814為封閉式載帶，且載帶載具810包括一加熱軸桿812以及一輔助軸桿816。加熱軸桿812以及輔助軸桿816實質(zhì)上相互平行并且分別依著相互平行的兩軸向Yl與Y2(垂直圖面)轉(zhuǎn)動。加熱軸桿812以及輔助軸桿816皆為圓桿，即加熱軸桿812垂直于軸向Yl的截面以及輔助軸桿816垂直于軸向Υ2的截面皆為圓形。載帶814承靠并繞行于加熱軸桿812與輔助軸桿816之間。此外，圖14的蒸鍍裝置800還包括一材料槽860，用以盛裝液態(tài)的鍍膜材料880。承靠于輔助軸桿816的部分載帶814適于浸入液態(tài)的鍍膜材料880中，以將液態(tài)的鍍膜材料880沾附于載帶814的承載面814a上。隨著加熱軸桿812與輔助軸桿816的帶動，液態(tài)的鍍膜材料880的溶劑可能會揮發(fā)而成為固態(tài)，且固態(tài)的鍍膜材料880在通過加熱區(qū)810a之后，會被蒸發(fā)為蒸氣態(tài)的鍍膜材料882，并且由遮罩820的開口 820a噴出。
圖15的載帶載具910所使用的載帶914為一履帶，由多個片狀物914a相互樞接而成，且相鄰兩片狀物914a通過一樞軸914b相連。載帶載具910還包括一加熱軸桿912 以及一輔助軸桿916，且加熱軸桿912以及輔助軸桿916實質(zhì)上相互平行并且分別依著相互平行的兩軸向Zl與Z2(垂直圖面)轉(zhuǎn)動。此外，樞軸914b的轉(zhuǎn)軸方向?qū)嵸|(zhì)上平行于軸向Zl與Z2。加熱軸桿912以及輔助軸桿916皆為正多邊形的桿件，即加熱軸桿912垂直于軸向Zl的截面以及輔助軸桿916垂直于軸向Z2的截面皆為正多邊形，且正多邊形的邊長 L實質(zhì)上等于各片狀物914a的寬度W。如此，可通過加熱軸桿912以及輔助軸桿916來帶動載帶914。蒸鍍裝置900還包括一材料槽960，用以盛裝液態(tài)的鍍膜材料980。承靠于輔助軸桿916的部分載帶914適于浸入液態(tài)的鍍膜材料980中，以將液態(tài)的鍍膜材料981沾附于載帶914的承載面914c上。隨著加熱軸桿912與輔助軸桿916的帶動，液態(tài)的鍍膜材料980的溶劑可能會揮發(fā)而成為固態(tài)，且固態(tài)的鍍膜材料980在通過加熱區(qū)910a之后，會被蒸發(fā)為蒸氣態(tài)的鍍膜材料982，并且由遮罩920的開口 920a噴出。
圖16的載帶載具省略了載帶，直接使用加熱軸桿1012來承載并加熱鍍膜材料。更具體而言，加熱軸桿1012適于依一軸向O轉(zhuǎn)動。材料槽1060盛裝液態(tài)的鍍膜材料1080，而部分的加熱軸桿10 12適于浸入液態(tài)的鍍膜材料1080中，以使液態(tài)的鍍膜材料1080沾附于加熱軸桿1012的表面1012a上。此時，加熱區(qū)IOlOa即位于加熱軸桿1012的表面1012a 上。隨著加熱軸桿1012的帶動，液態(tài)的鍍膜材料1080的溶劑可能會揮發(fā)而成為固態(tài)，且固態(tài)的鍍膜材料1080在被帶至加熱區(qū)IOlOa之后會吸收足夠的熱量而被蒸發(fā)為氣態(tài)的鍍膜材料1082，并且由遮罩1020的開口 1020a噴出。
綜上所述，本發(fā)明的蒸鍍裝置以及應(yīng)用此蒸鍍裝置的蒸鍍機臺可通過載帶載具來實現(xiàn)大面積以及連續(xù)式的蒸鍍制作工藝，有助于提高生產(chǎn)效率。此外，由于載帶載具只在加熱區(qū)對鍍膜材料進行局部加熱，因此可避免鍍膜材料因長時間處在高溫狀態(tài)下而劣化或組成成分改變的問題，可以降低制作工藝成本。另一方面，本實施例通過在加熱區(qū)與待鍍物之間設(shè)置遮罩，來限制蒸發(fā)的鍍膜材料通過開口的角度，以有效控制鍍膜區(qū)域，提升鍍膜的均勻性。另外，遮罩也可以避免相鄰蒸鍍裝置間的鍍膜材料的相互污染，提升制作工藝良率。
雖然結(jié)合以上實施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動與潤飾，故本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍裝置，適于對一待鍍物進行蒸鍍，該蒸鍍裝置包括載帶載具，具有加熱區(qū)，該待鍍物位于該加熱區(qū)上方并且適于依一進給方向移動，該載帶載具包括加熱軸桿，具有一表面，該加熱軸桿適于依一軸向轉(zhuǎn)動，該待鍍物位于該加熱軸桿的一側(cè)；以及載帶，承靠該加熱軸桿的該側(cè)，該載帶適于依該加熱軸桿繞行，且該載帶具有相對遠離該加熱軸桿的一承載面，用于承載一鍍膜材料通過該加熱區(qū)，以在該加熱區(qū)內(nèi)通過該加熱軸桿來加熱該鍍膜材料，使該鍍膜材料蒸發(fā)；以及遮罩，設(shè)置于該加熱區(qū)外圍，且該遮罩具有開口，位于該加熱區(qū)與該待鍍物之間，被蒸發(fā)的該鍍膜材料適于通過該開口而被鍍制于該待鍍物上。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，還包括輔助軸桿，該加熱軸桿與該輔助軸桿實質(zhì)上相互平行并且分別承靠該載帶，該載帶為一封閉式載帶，繞行于該加熱軸桿與該輔助軸桿之間。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該載帶為一連續(xù)的可撓帶狀物。
4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其中該加熱軸桿具有垂直于該軸向的一截面，且該截面為圓形。
5.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該載帶為由多個片狀物相互樞接而成的一履帶，且相鄰兩片狀物之間的一樞軸實質(zhì)上平行于該軸向。
6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置，其中該加熱軸桿具有垂直于該軸向的一截面，且該截面為一正多邊形，該正多邊形的邊長實質(zhì)上等于各該片狀物的寬度。
7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該開口包括一開槽，該開槽依著該軸向由該載帶載具的一端延伸至該載帶載具的另一端。
8.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該遮罩包括兩板件，該兩板件對稱設(shè)置于該加熱區(qū)的相對兩側(cè)，且該兩板件在該加熱區(qū)上方保持一間隔，以形成該開口。
9.如權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置，其中各該板件垂直于該軸向的一截面為C形或L形。
10.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該遮罩包括冷卻單元。
11.如權(quán)利要求10所述的蒸鍍裝置，其中該冷卻單元包括貫穿該遮罩的多個孔道。
12.如權(quán)利要求11所述的蒸鍍裝置，其中該些孔道實質(zhì)上平行于該軸向。
13.如權(quán)利要求11所述的蒸鍍裝置，還包括冷卻介質(zhì)，位于該些孔道內(nèi)。
14.如權(quán)利要求10所述的蒸鍍裝置，其中該冷卻單元包括位于該遮罩表面的多個冷卻管。一側(cè)一側(cè)
15.如權(quán)利要求14所述的蒸鍍裝置，其中該些冷卻管位于該遮罩用以面向該加熱區(qū)的O
16.如權(quán)利要求14所述的蒸鍍裝置，其中該些冷卻管位于該遮罩用以背對該加熱區(qū)的
17.如權(quán)利要求14所述的蒸鍍裝置，其中該些冷卻管實質(zhì)上平行于該軸向。
18.如權(quán)利要求14所述的蒸鍍裝置，還包括冷卻介質(zhì)，位于該些冷卻管內(nèi)。
19.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該待鍍物的該移動方向?qū)嵸|(zhì)上垂直于該軸向。
20.一種蒸鍍機臺，包括多個如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其中該些蒸鍍裝置并排設(shè)置，用以對一待鍍 物進行蒸鍍，而在該待鍍物上形成相互堆疊的多個鍍層。
全文摘要
本發(fā)明公開一種蒸鍍裝置及應(yīng)用此蒸鍍裝置的蒸鍍機臺，適于對一待鍍物進行蒸鍍。所述蒸鍍裝置包括一載帶載具以及一遮罩。載帶載具具有一加熱區(qū)。待鍍物位于加熱區(qū)上方并且適于依一進給方向移動。載帶載具適于承載一鍍膜材料通過加熱區(qū)，并且在加熱區(qū)內(nèi)加熱鍍膜材料，使鍍膜材料蒸發(fā)。遮罩設(shè)置于加熱區(qū)外圍，且遮罩具有一開口位于加熱區(qū)與待鍍物之間。被蒸發(fā)的鍍膜材料適于通過開口而被鍍制于待鍍物上。
文檔編號C23C14/56GK103014630SQ201210143468
公開日2013年4月3日 申請日期2012年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月20日
發(fā)明者王慶鈞, 黃智勇, 陳建志, 陳思豪, 董福慶, 小田敦 申請人:財團法人工業(yè)技術(shù)研究院