本實(shí)用新型涉及晶硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及帶有抽真空系統(tǒng)的平板式 PECVD工藝腔。

背景技術(shù)：

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)，是指借助微波或射頻使含有薄膜組成原子的氣體發(fā)生電離，在局部形成等離子體，借助等離子體活潑易反應(yīng)的化學(xué)特性，在基片上沉積出所期望的薄膜。該技術(shù)被廣泛應(yīng)用于晶體硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)中。

太陽(yáng)能行業(yè)所用的板式PECVD采用真空腔室作為反應(yīng)室(工藝腔)，因此在工藝過(guò)程中需要用真空泵不停地對(duì)設(shè)備腔室進(jìn)行抽真空。

影響膜性能的主要因素是鍍膜時(shí)溫度、微波功率和真空度的控制。工藝腔補(bǔ)給載片的速度直接影響到整個(gè)設(shè)備的產(chǎn)量，快速達(dá)到工藝所需真空度是補(bǔ)給速度的主要影響因素。由于PECVD在工藝過(guò)程中會(huì)有顆粒物產(chǎn)生，真空泵會(huì)將顆粒抽到泵體內(nèi)，長(zhǎng)時(shí)間在泵體內(nèi)沉積會(huì)造成真空泵的卡死，影響整個(gè)生產(chǎn)線的生產(chǎn)效率。

對(duì)于只用一條真空管連通腔體進(jìn)行抽真空方案，氣流變化劇烈，對(duì)載片沖擊大，且抽氣效率低，影響生產(chǎn)速度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是，針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種帶有抽真空系統(tǒng)的平板式PECVD工藝腔。

為解決技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的解決方案是：

提供一種帶有抽真空系統(tǒng)的平板式PECVD工藝腔，該工藝腔呈中空狀；在工藝腔的底部邊緣設(shè)有多個(gè)抽氣口，其中位于同一側(cè)的抽氣口通過(guò)管路接至同一根橫管，橫管通過(guò)管路接至三通接頭或四通接頭的水平接口；三通接頭或四通接頭還包括向下接口和向上接口，其中向下接口處裝設(shè)可拆卸堵頭，向上接口處連接一根豎管；該豎管通過(guò)真空管道連接至真空泵，在豎管與真空管道相接處設(shè)過(guò)濾網(wǎng)。

作為改進(jìn)，所述抽氣口分別設(shè)在工藝腔底部邊緣的相對(duì)兩側(cè)，或分別設(shè)在工藝腔底部邊緣的四周。

作為改進(jìn)，所述豎管有兩條或兩條以上；在豎管與真空管道相接處設(shè)有一個(gè)橫向接頭，所述過(guò)濾網(wǎng)設(shè)在橫向接頭的內(nèi)部。

作為改進(jìn)，所述真空管道上設(shè)有控制蝶閥和插板閥。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果在于：

1、本實(shí)用新型在真空管道處設(shè)置過(guò)濾網(wǎng)并抬高濾網(wǎng)前端抽氣管路，除利用過(guò)濾網(wǎng)對(duì)各種顆粒粉塵進(jìn)行攔截，還利用雜質(zhì)自身重力來(lái)限制雜質(zhì)進(jìn)入真空泵，保護(hù)真空泵，延長(zhǎng)了真空泵的使用壽命。

2、本實(shí)用新型對(duì)生產(chǎn)效率的提高和質(zhì)量的提高有積極的意義，能縮短抽真空時(shí)間提高生產(chǎn)效率；提高真空室氣流的穩(wěn)定性，使鍍膜的條件更加理想化，提高膜的質(zhì)量。

3、該裝置在結(jié)構(gòu)上的改動(dòng)不大，設(shè)計(jì)合理，使用效果良好，非常實(shí)用。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是豎管與真空管道相接處所設(shè)過(guò)濾網(wǎng)的示意圖。

圖中：1、工藝腔；2、豎管；3、橫向接頭；4、真空管道；5、真空泵；6、四通接頭；7、過(guò)濾網(wǎng)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。

本實(shí)用新型中，平板式PECVD工藝腔1呈中空狀；在工藝腔1的底部邊緣的相對(duì)兩側(cè)設(shè)有多個(gè)抽氣口，其中位于同一側(cè)的抽氣口通過(guò)管路接至同一根橫管，橫管通過(guò)管路接至四通接頭6的水平接口；四通接頭6還包括向下接口和向上接口，其中向下接口處裝設(shè)可拆卸堵頭，向上接口處連接一根豎管2；豎管2通過(guò)真空管道4連接至真空泵 5，在豎管2與真空管道4相接處設(shè)過(guò)濾網(wǎng)7，真空管4上設(shè)有控制蝶閥和插板閥。

作為本實(shí)用新型的可選方案，四通接頭6的另一個(gè)水平接口還可以與其它連通至抽氣口的橫管相接；或者可以用三通接頭替代四通接頭6；或者為提高抽氣效率在工藝腔 1底部邊緣的四周分別設(shè)置多個(gè)抽氣口。

當(dāng)抽氣口較多時(shí)可以分為多組，且各組分別通過(guò)管路及四通接頭6連接至一個(gè)豎管 2。當(dāng)豎管2有兩條或兩條以上時(shí)，在豎管2與真空管道4相接處設(shè)一個(gè)橫向接頭3，過(guò)濾網(wǎng)7設(shè)在橫向接頭3的內(nèi)部。

本實(shí)用新型的使用說(shuō)明：

在使用時(shí)，只要打開(kāi)控制蝶閥和插板閥，啟動(dòng)真空泵(5)即可對(duì)工藝腔1進(jìn)行抽真空，從而使工藝腔1維持必要的工作條件。工藝腔1中的渣粒隨氣流向真空泵5方向流動(dòng)；在四通接頭6處，稍大的顆粒雜質(zhì)因重力原因被限制阻擋在此，小一點(diǎn)的雜質(zhì)被過(guò)濾網(wǎng)7隔離住，大大減少了對(duì)真空泵5的傷害。當(dāng)設(shè)備運(yùn)行一段時(shí)間后，四通接頭6 處將沉積較多渣粒，此時(shí)可以打開(kāi)四通接頭6底部可拆卸堵頭進(jìn)行清理，也可同時(shí)拆開(kāi)橫向接頭3更換過(guò)濾網(wǎng)7，清理操作相當(dāng)便捷。

需要指出的是，以上具體實(shí)施方式只是本專利實(shí)現(xiàn)方案的具體個(gè)例，沒(méi)有也不可能覆蓋本專利的所有實(shí)現(xiàn)方式，因此不能視作對(duì)本專利保護(hù)范圍的限定；凡是與以上案例屬于相同構(gòu)思的實(shí)現(xiàn)方案，均在本專利的保護(hù)范圍之內(nèi)。