技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種磁力傳動大面積蒸發(fā)鍍膜機，包括真空腔室，真空腔室內設置蒸發(fā)源，所述真空腔室側壁上設有磁力傳動裝置，所述磁力傳動裝置包括傳動滑塊、外滑動導軌、外磁鐵、內滑動導軌、內磁鐵、基片臺，所述外磁鐵、內磁鐵磁性相反，所述傳動滑塊、外滑動導軌、外磁鐵均位于所述真空腔室外，所述外磁鐵固定于所述傳動滑塊上，所述傳動滑塊可在推動裝置作用下沿所述外滑動導軌滑動，所述內滑動導軌、內磁鐵、基片臺均位于所述真空腔室內，所述基片臺固定于所述內磁鐵上，所述內磁鐵可在所述外磁鐵的作用下在所述內滑動導軌上滑動。本發(fā)明磁力傳動大面積蒸發(fā)鍍膜機，設備穩(wěn)定性大大提高，維護成本降低，并且大面積樣件鍍膜更均勻。

技術研發(fā)人員：施戈;田琳;彭建
受保護的技術使用者：北京泰科諾科技有限公司
技術研發(fā)日：2017.08.25
技術公布日：2017.10.27