本發(fā)明涉及一種鍍膜機(jī)，特別是涉及一種磁力傳動(dòng)的大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

大面積樣件鍍膜通常采用真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)，傳統(tǒng)的用于大面積樣件的真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)采用磁流體、齒輪傳動(dòng)裝置，其中的齒輪咬合位置難以調(diào)整，并且真空腔室的密封性差，真空腔室內(nèi)外傳動(dòng)傳統(tǒng)容易出現(xiàn)漏氣、卡頓、傳動(dòng)不暢等問題，設(shè)備設(shè)備穩(wěn)定性差、維護(hù)成本高，大面積樣件鍍膜不均勻。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，其設(shè)備穩(wěn)定性大大提高，維護(hù)成本降低，并且大面積樣件鍍膜更均勻。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下方案：本發(fā)明一種磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，包括真空腔室，真空腔室內(nèi)設(shè)置蒸發(fā)源，所述真空腔室側(cè)壁上設(shè)有磁力傳動(dòng)裝置，所述磁力傳動(dòng)裝置包括傳動(dòng)滑塊、外滑動(dòng)導(dǎo)軌、外磁鐵、內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌、內(nèi)磁鐵、基片臺(tái)，所述外磁鐵、內(nèi)磁鐵磁性相反，所述傳動(dòng)滑塊、外滑動(dòng)導(dǎo)軌、外磁鐵均位于所述真空腔室外，所述外磁鐵固定于所述傳動(dòng)滑塊上，所述傳動(dòng)滑塊可在推動(dòng)裝置作用下沿所述外滑動(dòng)導(dǎo)軌滑動(dòng)，所述內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌、內(nèi)磁鐵、基片臺(tái)均位于所述真空腔室內(nèi)，所述基片臺(tái)固定于所述內(nèi)磁鐵上，所述內(nèi)磁鐵可在所述外磁鐵的作用下在所述內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌上滑動(dòng)。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，所述推動(dòng)裝置包括傳動(dòng)絲杠、旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述真空腔室側(cè)壁上設(shè)置有安裝支架，所述傳動(dòng)絲杠一端通過軸承設(shè)置于所述安裝支架上，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)安裝于所述真空腔室側(cè)壁上帶動(dòng)傳動(dòng)絲杠旋轉(zhuǎn)，所述傳動(dòng)滑塊螺紋連接于所述傳動(dòng)絲杠上。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，還包括抽真空系統(tǒng)，所述抽真空系統(tǒng)位于所述真空腔室外并且和所述真空腔室內(nèi)腔連通。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，還包括充氣裝置，所述充氣裝置位于所述真空腔室外并且和所述真空腔室內(nèi)腔聯(lián)通。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，還包括膜厚檢測(cè)裝置，所述膜厚檢測(cè)裝置設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，所述真空腔室側(cè)壁上開有觀察窗。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，其中，所述真空腔室側(cè)壁上設(shè)有照明裝置。

本發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)取得了以下技術(shù)效果：由于本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)的真空腔室上設(shè)有磁力傳動(dòng)裝置，磁力傳動(dòng)裝置包括傳動(dòng)滑塊、外滑動(dòng)導(dǎo)軌、外磁鐵、內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌、內(nèi)磁鐵、基片臺(tái)，外磁鐵、內(nèi)磁鐵磁性相反，傳動(dòng)滑塊、外滑動(dòng)導(dǎo)軌、外磁鐵位于真空腔室外，內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌、內(nèi)磁鐵、基片臺(tái)均位于真空腔室內(nèi)，基片臺(tái)固定于內(nèi)磁鐵上，內(nèi)磁鐵可在外磁鐵的作用下在滑動(dòng)導(dǎo)軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)真空腔室外的直線傳動(dòng)到真空腔室內(nèi)的直線傳動(dòng)，達(dá)到真空腔室無需開孔密封的目的，不易發(fā)生漏氣、卡頓、傳動(dòng)不暢等問題，減少設(shè)備維護(hù)成本，增加設(shè)備穩(wěn)定性，并且在蒸發(fā)源較小的情況下使大面積樣件鍍膜更均勻。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)的總體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)中磁力傳動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

如圖1所示，本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)，包括真空腔室11，真空腔室11內(nèi)設(shè)置蒸發(fā)源19，真空腔室11外設(shè)置抽真空系統(tǒng)14，抽真空系統(tǒng)14和真空腔室11內(nèi)腔連通，真空腔室11側(cè)壁上設(shè)有磁力傳動(dòng)裝置12，磁力傳動(dòng)裝置12包括傳動(dòng)滑塊123、外滑動(dòng)導(dǎo)軌124、外磁鐵125、內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌120、內(nèi)磁鐵126、基片臺(tái)127，外磁鐵125、內(nèi)磁鐵126磁性相反，傳動(dòng)滑塊123、外滑動(dòng)導(dǎo)軌124、外磁鐵125均位于真空腔室11外，外磁鐵125通過碳鋼背板固定于傳動(dòng)滑塊123上，傳動(dòng)滑塊123可在推動(dòng)裝置作用下沿外滑動(dòng)導(dǎo)軌124左右滑動(dòng)，內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌120、內(nèi)磁鐵126、基片臺(tái)127均位于真空腔室11內(nèi)，內(nèi)磁鐵126上端通過碳鋼背板設(shè)置于內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌120、下端連接基片臺(tái)127，基片臺(tái)127用于放置大面積樣件，當(dāng)傳動(dòng)滑塊123在推動(dòng)裝置作用下沿外滑動(dòng)導(dǎo)軌124左右移動(dòng)時(shí)，由于磁鐵異性相吸原理，在外磁鐵125的磁力作用下內(nèi)磁鐵126在內(nèi)滑動(dòng)導(dǎo)軌120上左右移動(dòng)，從而使基片臺(tái)127上的大面積樣件在蒸發(fā)源附近左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)，使大面積樣件鍍膜更均勻。

如圖1、2所示，推動(dòng)裝置包括傳動(dòng)絲杠121、旋轉(zhuǎn)電機(jī)122，真空腔室11側(cè)壁上設(shè)置有安裝支架13，傳動(dòng)絲杠121一端通過軸承設(shè)置于安裝支架13上，旋轉(zhuǎn)電機(jī)122安裝于真空腔室11側(cè)壁上，傳動(dòng)滑塊123螺紋連接于傳動(dòng)絲杠121上，旋轉(zhuǎn)電機(jī)122啟動(dòng)時(shí)帶動(dòng)傳動(dòng)絲杠121旋轉(zhuǎn)，使傳動(dòng)滑塊123在傳動(dòng)絲杠121上左右移動(dòng)；同時(shí)推動(dòng)裝置還可采用除傳動(dòng)絲杠外的其他結(jié)構(gòu)形式。

如圖1所示，本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)還包括充氣裝置15、膜厚檢測(cè)裝置16、照明裝置18、手套箱20，充氣裝置15、照明裝置18、手套箱20均設(shè)置于真空腔室11外，膜厚檢測(cè)裝置16位于真空腔室11內(nèi)，充氣裝置15和真空腔室11內(nèi)壁聯(lián)通，真空腔室11側(cè)壁上開有觀察窗17。

本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)工作時(shí)，將大面積樣件固定于基片臺(tái)上，通過真空系統(tǒng)給真空腔室抽至高真空，基片臺(tái)通過磁力傳動(dòng)裝置圍繞蒸發(fā)源的電極反復(fù)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，在此過程中可通過觀察窗和照明裝置觀測(cè)樣件和蒸發(fā)源狀況，通過膜厚監(jiān)測(cè)裝置檢測(cè)膜厚，從而實(shí)現(xiàn)大面積樣件蒸發(fā)鍍膜。由于本設(shè)備配備手套箱20和充氣系統(tǒng)15可實(shí)現(xiàn)樣件的氣體氛圍保護(hù)。

采用本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)的型號(hào)zhd450的大面積蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，組裝后試用半年，反復(fù)鍍膜100-200次，期間磁力傳動(dòng)裝置運(yùn)行順暢，無卡頓、無漏氣，比傳統(tǒng)磁流體密封傳動(dòng)裝置性能更穩(wěn)定，減少了維護(hù)成本。

采用本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)的設(shè)備型號(hào)zhd450大面積蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，配備2組100*10mm鎢蒸發(fā)源，蒸發(fā)源面積在50*10mm，經(jīng)實(shí)驗(yàn)測(cè)試，可實(shí)現(xiàn)400*200mm大面積樣片均勻鍍膜，膜厚均勻性在5％以內(nèi)，同工藝反復(fù)測(cè)試5次，均勻性均良好。

采用本發(fā)明磁力傳動(dòng)大面積蒸發(fā)鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)的設(shè)備型號(hào)zhd450大面積蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，可增加蒸發(fā)源數(shù)量和和腔室長(zhǎng)度，從而實(shí)現(xiàn)更大面積樣件的均勻鍍膜。

本發(fā)明中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處。綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。