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蒸發(fā)源裝置及蒸鍍機(jī)的制作方法

文檔序號(hào):12300663閱讀:639來源:國知局
蒸發(fā)源裝置及蒸鍍機(jī)的制作方法

本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示器制作技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸發(fā)源裝置及蒸鍍機(jī)。



背景技術(shù):

oled(organiclight-emittingdiode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示技術(shù)較之當(dāng)前主流的液晶顯示技術(shù),具有對(duì)比度高、色域廣、柔性、輕薄、節(jié)能等突出的優(yōu)點(diǎn)。近年來,oled顯示技術(shù)逐漸在智能手機(jī)和平板電腦等移動(dòng)設(shè)備、智能手表等柔性可穿戴設(shè)備、大尺寸曲面電視、白光照明等領(lǐng)域普及,發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁。

oled技術(shù)主要包括以真空蒸鍍技術(shù)為基礎(chǔ)的小分子oled技術(shù)和以溶液制程為基礎(chǔ)的高分子oled技術(shù)。蒸鍍機(jī)是當(dāng)前已量產(chǎn)的小分子oled器件生產(chǎn)的主要設(shè)備,其設(shè)備核心部分為蒸發(fā)源裝置。

常用的蒸發(fā)源裝置中,為控制蒸鍍角,避免蒸發(fā)氣體朝蒸發(fā)源上方的非基板區(qū)域沉積,在蒸發(fā)源腔室的噴嘴周圍安裝有限制板,然而,有機(jī)蒸氣從噴嘴噴出呈橢球狀,較大比例的材料沉積于限制板上,造成有機(jī)蒸鍍材料利用率低,并且,隨著限制板內(nèi)壁堆積的有機(jī)材料量增多而累積到一定厚度后,存在材料脫落的風(fēng)險(xiǎn),最終堵塞噴嘴而影響蒸鍍機(jī)連續(xù)運(yùn)營時(shí)間,帶來巨大的經(jīng)濟(jì)損失。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種蒸發(fā)源裝置及蒸鍍機(jī),可以提高蒸鍍材料利用率的同時(shí),避免噴嘴堵塞情況的發(fā)生。

為了實(shí)現(xiàn)上述的目的,本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案:

一種蒸發(fā)源裝置,包括第一容器、設(shè)于所述第一容器內(nèi)用于容納并加熱有機(jī)材料的第二容器以及設(shè)于所述第一容器外的阻擋塊,所述第一容器頂部、所述第二容器頂部分別設(shè)有噴嘴和蒸氣孔,所述阻擋塊設(shè)于所述噴嘴的噴孔周圍,且所述噴孔截面為倒置梯形。

作為其中一種實(shí)施方式,所述噴孔外圍還設(shè)有對(duì)所述噴孔內(nèi)壁加熱的環(huán)形的輔助加熱源。

作為其中另一種實(shí)施方式,所述噴孔為圓臺(tái)形或棱臺(tái)形。

作為其中一種實(shí)施方式,所述阻擋塊包括相對(duì)設(shè)置的條狀的第一阻擋塊和第二阻擋塊,所述第一阻擋塊和所述第二阻擋塊分別設(shè)于所述噴嘴的兩側(cè)。

作為其中一種實(shí)施方式,所述噴嘴為條形,所述噴孔為多個(gè),所有的所述噴孔開設(shè)在所述噴嘴上。

作為其中一種實(shí)施方式,所述噴孔為多個(gè),線性分布在所述第一容器的頂部;所述第一阻擋塊和所述第二阻擋塊分別位于線性分布的所述噴孔的兩側(cè)。

作為其中一種實(shí)施方式,所述噴孔為多個(gè),呈多行排列在所述第一容器的頂部;所述第一阻擋塊和所述第二阻擋塊的延伸方向平行于每行所述噴孔的排列方向,且所述第一阻擋塊和所述第二阻擋塊分別位于多行所述噴孔的兩側(cè)。

作為其中一種實(shí)施方式,所述阻擋塊包括設(shè)置在所述第一阻擋塊和所述第二阻擋塊之間的第三阻擋塊,所述第三阻擋塊設(shè)于相鄰的兩行所述噴孔之間。

作為其中一種實(shí)施方式,所述第三阻擋塊上分別朝向相鄰的兩行所述噴孔的面為斜面。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種蒸鍍機(jī),包括一種所述的蒸發(fā)源裝置。

本發(fā)明的噴孔截面為倒置梯形,并在噴孔外圍設(shè)有阻擋塊以阻止或限制無效方向的噴出的有機(jī)材料沉積,并且改善了阻擋塊的內(nèi)表面的有機(jī)材料沉積現(xiàn)象,提高蒸鍍材料利用率的同時(shí),避免了噴嘴堵塞情況的發(fā)生。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的蒸鍍機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的蒸發(fā)源裝置的長度方向的一個(gè)剖面示意圖;

圖3為本發(fā)明實(shí)施例1的蒸發(fā)源裝置的寬度方向的一個(gè)剖面示意圖;

圖4a為本發(fā)明實(shí)施例1的一種蒸發(fā)源裝置的俯視圖;

圖4b為本發(fā)明實(shí)施例1的另一種蒸發(fā)源裝置的俯視圖;

圖5為本發(fā)明實(shí)施例1的蒸發(fā)源裝置的部分結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6為本發(fā)明實(shí)施例2的一種蒸發(fā)源裝置的俯視圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。

實(shí)施例1

參閱圖1,本發(fā)明的蒸鍍機(jī)主要包括蒸發(fā)源裝置1,蒸發(fā)源裝置1可朝其上方的基板2表面噴出有機(jī)材料,借助具有圖案的擋板3,在基板2表面形成具有特定圖案的有機(jī)膜層f。

結(jié)合圖2和圖3所示,本實(shí)施例的蒸發(fā)源裝置包括第一容器10、設(shè)于第一容器10內(nèi)用于容納并加熱有機(jī)材料的第二容器20以及設(shè)于第一容器10外的阻擋塊30,第一容器10頂部、第二容器20頂部分別設(shè)有噴嘴100和蒸氣孔200,阻擋塊30設(shè)于噴嘴100的噴孔100a周圍,且噴孔100a截面為倒置梯形,第一容器10上方可以通過設(shè)置流量監(jiān)視器4實(shí)時(shí)檢測有機(jī)材料的噴射速率。

阻擋塊30包括相對(duì)設(shè)置的條狀的第一阻擋塊31和第二阻擋塊32,噴嘴100為條形,噴嘴100的頂部形成有一排線性排列的噴孔100a,第一阻擋塊31和第二阻擋塊32分別位于線性分布的噴孔100a的兩側(cè)。如圖4a所示,噴孔100a可以呈圓臺(tái)形,也可以如圖4b所示,噴孔100a呈棱臺(tái)形,這樣的噴孔內(nèi)壁呈開口狀。由于第一容器10內(nèi)真空設(shè)置,當(dāng)有機(jī)材料在第二容器20內(nèi)加熱氣化后,依次自蒸氣孔200、噴嘴100近似直線軌跡噴出,加之噴嘴100獨(dú)特形狀的限制,無效方向噴出的有機(jī)材料被阻止或限制而只能沿噴嘴100限定的方向沉積在其上方的基板2的相應(yīng)的區(qū)域,噴孔100a表面極少有有機(jī)材料沉積,從而提高了材料利用率。

這里,第一阻擋塊31、第二阻擋塊32均為條狀,二者的延伸長度均不小于噴孔100a的排列長度,實(shí)現(xiàn)對(duì)所有噴孔100a噴射方向的限制。

另外,本實(shí)施例的噴孔100a的外圍還設(shè)有對(duì)噴孔100a內(nèi)壁加熱的環(huán)形的輔助加熱源40。如圖3所示,輔助加熱源40設(shè)置在噴嘴100內(nèi),緊鄰噴孔100a的表面,在噴嘴100的外圍還可設(shè)置有冷卻裝置(圖未示)。在蒸鍍過程中,通過控制輔助加熱源40對(duì)噴嘴100加熱,可以防止有機(jī)材料沉積在噴孔100a內(nèi),從而避免堵塞,同時(shí),通過冷卻裝置可以在噴嘴100溫度過高時(shí)對(duì)其進(jìn)行降溫,保證連續(xù)蒸鍍。

如圖5所示,本實(shí)施例的蒸發(fā)源裝置1自內(nèi)至外依次包括第二容器20、隔熱層40、加熱源50、熱反射層60、pcw(plantcoolingwater/processcoolingwater,工藝?yán)鋮s水系統(tǒng))70以及溫度傳感器80,第二容器20選用坩堝,加熱源50與第二容器20之間設(shè)置有隔熱層40,加熱源50通過感應(yīng)式加熱對(duì)第二容器20內(nèi)的有機(jī)材料進(jìn)行加熱,熱反射層60設(shè)置在加熱源50外圍,以盡可能滴減少熱損失,而pcw70作為散熱系統(tǒng)對(duì)蒸發(fā)源裝置進(jìn)行降溫。通過第二容器20底部的溫度傳感器80可以實(shí)施采集第二容器20的溫度,并根據(jù)流量監(jiān)視器4檢測到的有機(jī)材料的噴射速率實(shí)時(shí)控制加熱溫度,以實(shí)現(xiàn)均勻鍍膜。

實(shí)施例2

如圖6所示,與實(shí)施例1不同,本實(shí)施例中,所有的噴孔100a呈多行排列在第一容器10的頂部,第一阻擋塊31和第二阻擋塊32的延伸方向平行于每行噴孔100a的排列方向,且第一阻擋塊31和第二阻擋塊32分別位于多行噴孔100a的兩側(cè)。

另外,阻擋塊30包括位于第一阻擋塊31和第二阻擋塊32之間的第三阻擋塊33,第三阻擋塊33設(shè)于相鄰的每兩行噴孔100a之間,在蒸發(fā)源裝置的寬度方向上對(duì)相鄰兩行噴孔100a的噴射方向進(jìn)行限制,該第三阻擋塊33上分別朝向相鄰的兩行噴孔100a的面為斜面,使得第三阻擋塊33的截面為三角形,形成楔形結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的噴孔截面為倒置梯形,并在噴孔外圍設(shè)有阻擋塊以阻止或限制無效方向的噴出的有機(jī)材料沉積,并且通過對(duì)噴孔內(nèi)壁進(jìn)行溫度控制,改善了阻擋塊的內(nèi)表面的有機(jī)材料沉積現(xiàn)象,提高蒸鍍材料利用率的同時(shí),避免了噴嘴堵塞情況的發(fā)生。

以上所述僅是本申請(qǐng)的具體實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本申請(qǐng)?jiān)淼那疤嵯?,還可以做出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。

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