1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括坩堝本體及坩堝蓋，所述坩堝本體用于盛放蒸發(fā)材料，所述坩堝蓋設(shè)于所述坩堝本體上，并與所述坩堝本體相間隔，所述坩堝蓋內(nèi)設(shè)有多個相間隔設(shè)置的擋板，所述擋板一端固定于所述坩堝蓋，另一端朝向所述坩堝本體延伸，所述擋板及所述坩堝蓋用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發(fā)的所述蒸發(fā)材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述坩堝蓋包括蓋面，所述蓋面朝向所述坩堝本體，所述擋板包括安裝部與承載部，所述安裝部可拆卸地固定于所述蓋面，以便于拆卸所述擋板，所述承載部朝向所述坩堝本體方向延伸，用于沉積所述蒸發(fā)材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蓋面為圓弧形，包括中心區(qū)域和圍繞所述中心區(qū)域的周邊區(qū)域，多個所述擋板設(shè)于所述周邊區(qū)域，且設(shè)于所述中心區(qū)域的相對兩側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述擋板在垂直方向的投影落入所述坩堝本體內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，多個所述擋板沿著所述蓋面的徑向相對設(shè)置，且所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸方向與所述蓋面的軸向相交；沿著所述蓋面的所述中心區(qū)域至所述周邊區(qū)域的方向，所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸方向與所述蓋面軸向的夾角值逐漸增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，沿著所述蓋面的中心區(qū)域至周邊區(qū)域的方向，所述擋板的所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸長度逐漸增加。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述擋板為弧形板，且所述擋板的承載部沿著所述蓋面的周向延伸，所述擋板與沿徑向相鄰的所述擋板及夾設(shè)于兩者之間的所述蓋面形成溝道，所述溝道沿著所述蓋面的周向延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述擋板的承載部沿著所述蓋面的徑向延伸，所述擋板與相鄰的所述擋板及夾設(shè)于兩者之間的所述蓋面形成溝道，所述溝道沿著所述蓋面的徑向延伸。
9.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項所述的蒸鍍坩堝。