本實(shí)用新型涉及蒸發(fā)源技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)及其蒸鍍設(shè)備。

背景技術(shù)：

在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管中)生產(chǎn)中，需要通過蒸鍍設(shè)備進(jìn)行蒸鍍加工?，F(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備主要分為線源蒸鍍和點(diǎn)源蒸鍍。由于線性源的材料利用率高，大尺寸基板的OLED蒸鍍設(shè)備基本采用線源蒸鍍的方式。

目前蒸鍍設(shè)備監(jiān)測膜厚的方法是采用石英晶體振蕩監(jiān)測法和光學(xué)膜厚監(jiān)測法結(jié)合方法來監(jiān)測薄膜生產(chǎn)的準(zhǔn)確性和重復(fù)性，但固定位置的單點(diǎn)石英晶體振蕩監(jiān)測法很難及時(shí)發(fā)現(xiàn)線性源在生產(chǎn)過程中存在的異常問題。在高真空環(huán)境中，根據(jù)平均分子自由程的理論得出，越靠近石英晶體的線性源噴嘴，其吐出的蒸汽分子蒸鍍到石英晶振片上的概率更大，因此對速率監(jiān)測結(jié)果的影響越大，而實(shí)際生產(chǎn)過程距離石英晶體越遠(yuǎn)的噴嘴其吐出速率的波動(dòng)越難監(jiān)測到位，特別是在生產(chǎn)實(shí)際過程中，線性源個(gè)別噴嘴出現(xiàn)堵塞情況時(shí)，固定位置的速率監(jiān)測裝置不能及時(shí)發(fā)現(xiàn)，從而導(dǎo)致大批量產(chǎn)品報(bào)廢，嚴(yán)重影響生產(chǎn)良率，增加生產(chǎn)成本。

公布號為CN103160798A公開了一種偵測蒸發(fā)源的裝置及方法，其將偵測器可移動(dòng)設(shè)置在蒸鍍裝置的導(dǎo)軌裝置上，以偵測整個(gè)線性蒸發(fā)源的蒸鍍速率，及時(shí)發(fā)現(xiàn)蒸鍍源的異常，進(jìn)而提高產(chǎn)品的良率和品質(zhì)。但該專利申請文件公開的技術(shù)方案，在導(dǎo)軌裝置上并不存在能夠避免導(dǎo)軌裝置移動(dòng)過程中產(chǎn)生的微粒子對蒸鍍速率穩(wěn)定性造成影響的結(jié)構(gòu)，致使導(dǎo)軌裝置對蒸鍍速率穩(wěn)定性造成影響，影響蒸鍍的精確性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于提供一種可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)及其蒸鍍設(shè)備，采用本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案能夠在對整個(gè)蒸鍍設(shè)備的蒸鍍速率進(jìn)行及時(shí)有效的檢測的同時(shí)，還能減小檢測系統(tǒng)移動(dòng)過程中對蒸鍍速率的影響。

為了達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型一方面提供一種可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)，包括移動(dòng)裝置、蒸鍍速率監(jiān)測裝置和蒸鍍材料阻擋裝置；所述移動(dòng)裝置為與蒸發(fā)源噴嘴并排形成的直線平行的滑軌；所述監(jiān)測裝置滑動(dòng)設(shè)置于所述滑軌上，且其監(jiān)測頭朝向所述蒸發(fā)源噴嘴；所述阻擋裝置包括兩個(gè)滾軸、驅(qū)動(dòng)所述滾軸的驅(qū)動(dòng)裝置、以及質(zhì)軟的、且繞在兩個(gè)所述滾軸上形成環(huán)狀的擋板；所述擋板位于所述滑軌與噴嘴之間，且所述滑軌朝向所述噴嘴投向所述擋板的投影完全落入所述擋板上；所述監(jiān)測裝置固定于所述擋板上，且在所述擋板上開設(shè)有供所述監(jiān)測裝置的監(jiān)測頭伸出的通孔。

優(yōu)選的，所述擋板位于所述噴嘴的噴射軌跡以外。

優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件。

優(yōu)選的，所述監(jiān)測裝置為石英晶體振蕩器組件。

本實(shí)用新型另一方面還提供一種蒸鍍設(shè)備，包括上述任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)。

由上可見，應(yīng)用本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，有如下有益效果：

本實(shí)用新型通過移動(dòng)裝置移動(dòng)蒸鍍速率監(jiān)測裝置，增加線性源蒸鍍時(shí)蒸鍍速率監(jiān)測的靈活性，通過移動(dòng)裝置移動(dòng)監(jiān)測裝置的位置，來監(jiān)測整個(gè)線性源的蒸鍍速率，從而快速有效發(fā)現(xiàn)線性源蒸鍍速率異常地方，降低生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)，提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)成本，同時(shí)阻擋裝置能夠防止蒸鍍材料粘附到滑軌上，導(dǎo)致監(jiān)測裝置移動(dòng)過程中產(chǎn)生的微粒子對蒸鍍速率穩(wěn)定性造成影響，通過阻擋裝置來降低風(fēng)險(xiǎn)，同時(shí)速率監(jiān)測儀器固定在擋板上，通過擋板移動(dòng)帶動(dòng)速率監(jiān)測儀器來監(jiān)測線性源的不同位置的速率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例阻擋裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚地描述。

隨著蒸鍍面板的大型化，線性源的長度也隨著增加，固定式的速率監(jiān)測裝置不能有效監(jiān)測線性源各段的速率，一旦線性源的吐出機(jī)構(gòu)，即蒸發(fā)源噴嘴出現(xiàn)堵塞，速率監(jiān)測裝置不能及時(shí)發(fā)現(xiàn)，從而導(dǎo)致大批量產(chǎn)品報(bào)廢。

請參見圖1，為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)施例公開了一種可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)，該線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)包括移動(dòng)裝置10和蒸鍍速率監(jiān)測裝置20。

移動(dòng)裝置10為與蒸發(fā)源噴嘴40并排形成的直線平行的滑軌10。監(jiān)測裝置20采用現(xiàn)有的石英晶體振蕩器組件來監(jiān)測蒸鍍速率，監(jiān)測裝置20滑動(dòng)設(shè)置于滑軌10上，能夠在滑軌10上來回滑動(dòng)，且其監(jiān)測頭21朝向蒸發(fā)源噴嘴40。監(jiān)測裝置20的移動(dòng)方向與線性蒸發(fā)源的運(yùn)動(dòng)方向不一致。

由于線性蒸發(fā)源噴嘴40分布密度不均勻，監(jiān)測線性蒸發(fā)源不同位置時(shí)存在速率不一致現(xiàn)象，可通過實(shí)際監(jiān)測速率與設(shè)置速率對比，來判斷線性源各位置吐出速率是否存在異常。本實(shí)施例提供的可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)，其蒸鍍速率監(jiān)測裝置20沿滑軌10進(jìn)行勻速往返運(yùn)動(dòng)，在勻速運(yùn)動(dòng)過程中，可任意選擇監(jiān)測地段來確定該位置上噴嘴40的吐出速率，采用石英晶體振蕩器組件來監(jiān)測該位置上的蒸鍍速率與設(shè)置速率的對比，從而快速有效發(fā)現(xiàn)線性源蒸鍍速率異常地方。通過將監(jiān)測裝置20滑動(dòng)設(shè)置在滑軌10上來監(jiān)測整個(gè)線性源的蒸鍍速率，增加線性源蒸鍍時(shí)蒸鍍速率監(jiān)測的靈活性，降低生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)，提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)成本。

在工作過程中，蒸鍍材料會(huì)粘附到滑軌10上，導(dǎo)致監(jiān)測裝置20移動(dòng)過程中產(chǎn)生的微粒子對蒸鍍速率穩(wěn)定性造成影響，本實(shí)施例提供的可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)還包括蒸鍍材料阻擋裝置30。

請參見圖2，該阻擋裝置30包括兩個(gè)滾軸31、驅(qū)動(dòng)滾軸31的驅(qū)動(dòng)裝置32、以及質(zhì)軟的、且繞在兩個(gè)滾軸31上形成環(huán)狀的擋板33。其中擋板33位于滑軌10與噴嘴40之間，且滑軌10朝向噴嘴40投向擋板33的投影完全落入擋板33上；驅(qū)動(dòng)裝置32為電機(jī)驅(qū)動(dòng)組件。請參見圖3，監(jiān)測裝置20固定于擋板33上，且在擋板33上開設(shè)有供監(jiān)測裝置20的監(jiān)測頭21伸出的通孔34。

通過驅(qū)動(dòng)裝置32驅(qū)動(dòng)滾軸31做定向運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)擋板33向左右移動(dòng)，同時(shí)速率監(jiān)測裝置20固定在擋板33上，擋板33的移動(dòng)帶動(dòng)速率監(jiān)測裝置20來監(jiān)測線性源的不同位置的速率。擋板33能夠防止蒸鍍材料粘附到滑軌10上，進(jìn)而避免監(jiān)測裝置20移動(dòng)過程中產(chǎn)生的微粒子對蒸鍍速率穩(wěn)定性造成影響。

同時(shí)為了防止擋板33對噴嘴40的正常工作造成影響，擋板33需位于噴嘴40的噴射軌跡以外。

基于上述可移動(dòng)的線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)，本實(shí)施例還提供一種蒸鍍設(shè)備，該蒸鍍設(shè)備包括上述線性蒸發(fā)源速率監(jiān)測系統(tǒng)。

以上所述的實(shí)施方式，并不構(gòu)成對該技術(shù)方案保護(hù)范圍的限定。任何在上述實(shí)施方式的精神和原則之內(nèi)所作的修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在該技術(shù)方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。