1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：坩堝鍋體、坩堝蓋及加熱組件，所述坩堝鍋體用于儲(chǔ)存蒸鍍材料，所述坩堝蓋蓋合于所述坩堝鍋體上，所述坩堝蓋具有若干噴孔，所述噴孔用于使汽化后的蒸鍍材料分子飛出，所述加熱組件設(shè)于所述坩堝蓋上，且所述加熱組件不覆蓋所述噴孔，所述加熱組件獨(dú)立地對(duì)所述坩堝蓋進(jìn)行加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述坩堝蓋包括：蓋本體以及由所述蓋本體的側(cè)端彎折形成的卡沿，所述蓋本體的側(cè)端設(shè)于所述坩堝鍋體上，所述卡沿設(shè)于所述坩堝鍋體的外壁上，所述噴孔貫通所述蓋本體的內(nèi)外表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍坩堝還包括：溫度傳感器，所述溫度傳感器設(shè)于所述蓋本體的內(nèi)表面上，且所述溫度傳感器不覆蓋所述噴孔，所述溫度傳感器用于檢測(cè)所述加熱組件的溫度，并將檢測(cè)到的溫度轉(zhuǎn)換為輸出電信號(hào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍坩堝還包括：隔熱環(huán)，所述隔熱環(huán)設(shè)于所述蓋本體的側(cè)端與所述坩堝鍋體以及所述卡沿與所述坩堝鍋體之間，所述隔熱環(huán)用于減少所述坩堝蓋和所述坩堝鍋體之間發(fā)生熱傳遞。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述加熱組件由條狀電阻絲以螺旋環(huán)繞的方式在同一水平面上形成至少一個(gè)回圈構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，每個(gè)回圈以內(nèi)具有若干所述噴孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，每個(gè)回圈以內(nèi)的若干所述噴孔沿著圓周均勻分布。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蓋本體呈圓餅狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求2或8所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述坩堝鍋體呈一端開(kāi)口被封閉的圓筒狀。
10.一種權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的蒸鍍坩堝的蒸鍍方法，其特征在于，包括步驟：
對(duì)坩堝鍋體和坩堝蓋分別獨(dú)立地進(jìn)行加熱，使坩堝鍋體和坩堝蓋以同樣的升溫速率進(jìn)行升溫，在坩堝鍋體和坩堝蓋被分別加熱到材料的蒸發(fā)溫度時(shí)，坩堝鍋體內(nèi)的蒸鍍材料被蒸發(fā)汽化，蒸發(fā)汽化后的蒸鍍材料分子從噴孔飛出；
對(duì)坩堝鍋體和坩堝蓋繼續(xù)分別獨(dú)立地進(jìn)行加熱，在蒸鍍材料的蒸發(fā)速率達(dá)到設(shè)定速率之后，坩堝鍋體和坩堝蓋被加熱到預(yù)定溫度，保持坩堝鍋體和坩堝蓋的溫度預(yù)定時(shí)間，使蒸鍍材料繼續(xù)蒸發(fā)；
在蒸鍍材料蒸發(fā)結(jié)束之后，蒸鍍材料的蒸發(fā)速率由所述設(shè)定速率開(kāi)始下降，并且坩堝鍋體由其被加熱到的預(yù)定溫度開(kāi)始下降，所述坩堝蓋保持其被加熱到的預(yù)定溫度；
當(dāng)蒸鍍材料的蒸發(fā)速率由所述設(shè)定速率下降到0時(shí)，所述坩堝蓋由其被加熱到的預(yù)定溫度開(kāi)始下降。