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用于添加制造的涂料器設(shè)備及方法與流程

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用于添加制造的涂料器設(shè)備及方法與流程

本發(fā)明大體上涉及添加制造,并且更具體地涉及用于使用粉末涂料器來(lái)添加制造的設(shè)備及方法。



背景技術(shù):

添加制造是其中材料逐層建立來(lái)形成構(gòu)件的過(guò)程。不同于鑄造過(guò)程,添加制造僅由機(jī)器的位置分辨率限制,并且不由用于提供拔模角的要求限制,避免了如由鑄造所需的懸垂件等。添加制造還由用語(yǔ)如"分層制造"、"反向加工"、"直接金屬激光熔化"(DMLM)和"3-D打印"表示。此類用語(yǔ)看作是針對(duì)本發(fā)明的目的的同義詞。

已知類型的添加制造過(guò)程涉及將粉末材料沉積到工作表面上并且接著使用輻射能量來(lái)熔合粉末。該類型的過(guò)程經(jīng)常需要提供為床或以連續(xù)較大的層施加的大量粉末。這可浪費(fèi)粉末并且限制過(guò)程靈活性。

因此,所需的是能夠以靈活圖案沉積粉末和/或沉積多種粉末的添加制造過(guò)程。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

該需要由并入具有多個(gè)沉積閥的涂料器的、用于部分的分層制造的設(shè)備和方法來(lái)解決。其還可包括儲(chǔ)存器,并且能夠使多種粉末沉積。

技術(shù)方案1. 一種添加制造設(shè)備,其包括:

涂料器,其包括:

包括多個(gè)并排的沉積閥的至少一個(gè)槽。

技術(shù)方案2. 根據(jù)技術(shù)方案1所述的設(shè)備,其特征在于,多個(gè)所述槽以并排構(gòu)造設(shè)置。

技術(shù)方案3. 根據(jù)技術(shù)方案1所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括與所述至少一個(gè)槽連通的至少一個(gè)儲(chǔ)存器,其中所述至少一個(gè)儲(chǔ)存器包括能夠操作成選擇性地阻擋或容許粉末從所述儲(chǔ)存器至所述槽的流動(dòng)的進(jìn)料閥。

技術(shù)方案4. 根據(jù)技術(shù)方案3所述的設(shè)備,其特征在于,所述進(jìn)料閥構(gòu)造成以恒定流速計(jì)量粉末。

技術(shù)方案5. 根據(jù)技術(shù)方案3所述的設(shè)備,其特征在于,多個(gè)儲(chǔ)存器組合成柱,所述柱的所述儲(chǔ)存器中的各個(gè)與漏斗形收集器連通。

技術(shù)方案6. 根據(jù)技術(shù)方案3所述的設(shè)備,其特征在于,多個(gè)所述柱以并排方式組合在一起,各個(gè)柱的所述儲(chǔ)存器與漏斗形收集器連通,其中各個(gè)收集器與所述槽中的一個(gè)連通。

技術(shù)方案7. 根據(jù)技術(shù)方案1所述的設(shè)備,其特征在于,所述涂料器安裝用于沿至少一條軸線在限定工作表面的建造平臺(tái)上方移動(dòng)。

技術(shù)方案8. 根據(jù)技術(shù)方案7所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括設(shè)置在所述建造平臺(tái)附近的多余粉末容器。

技術(shù)方案9. 根據(jù)技術(shù)方案7所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備還包括能夠操作成選擇性地熔合沉積在所述工作表面上的粉末的定向能量源。

技術(shù)方案10. 一種添加制造方法,其包括:

將涂料器定位在工作表面附近,所述涂料器包括槽,所述槽包括多個(gè)并排的沉積閥;

通過(guò)所述沉積閥中的至少一個(gè)將粉末從所述槽沉積到建造平臺(tái)上;以及

使用輻射能來(lái)熔合所述粉末。

技術(shù)方案11. 根據(jù)技術(shù)方案10所述的方法,其特征在于,沉積粉末的所述步驟包括:

通過(guò)所述沉積閥中的至少一個(gè)將粉末從所述槽沉積到所述建造平臺(tái)上,同時(shí)所述涂料器處于第一位置;

使所述涂料器移動(dòng)至新位置;以及

重復(fù)沉積粉末和移動(dòng)所述涂料器的步驟來(lái)將粉末層建立在所述建造平臺(tái)上。

技術(shù)方案12. 根據(jù)技術(shù)方案10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括在熔合之前使所述沉積的粉末振動(dòng)來(lái)使其平整。

技術(shù)方案13. 根據(jù)技術(shù)方案10所述的方法,其特征在于,所述涂料器包括以并排布置的多個(gè)槽,各個(gè)槽包括多個(gè)并排的沉積閥,并且沉積粉末的所述步驟包括:

移動(dòng)所述涂料器來(lái)將所述槽中的選擇的一個(gè)定位在第一位置;

通過(guò)其所述沉積閥中的至少一個(gè)來(lái)將粉末從所述選擇的槽沉積到所述建造平臺(tái)上;以及

使用所述槽中的兩個(gè)或更多個(gè)來(lái)重復(fù)移動(dòng)所述涂料器和沉積粉末的步驟,使得來(lái)自所述槽中的各個(gè)的所述粉末的沉積物位于單排中。

技術(shù)方案14. 根據(jù)技術(shù)方案13所述的方法,其特征在于,沉積粉末的所述步驟還包括重復(fù)移動(dòng)所述涂料器和沉積粉末的步驟來(lái)將粉末層建立在所述建造平臺(tái)上。

技術(shù)方案15. 根據(jù)技術(shù)方案13所述的方法,其特征在于,由各個(gè)槽沉積的所述粉末在其成分或顆粒尺寸中的至少一個(gè)上不同于由其它槽沉積的粉末。

技術(shù)方案16. 根據(jù)技術(shù)方案10所述的方法,其特征在于,所述涂料器包括與所述至少一個(gè)槽連通的儲(chǔ)存器,所述儲(chǔ)存器包括進(jìn)料閥,其能夠操作成選擇性地阻擋或容許粉末從所述儲(chǔ)存器至所述槽的流動(dòng),所述方法還包括使用所述進(jìn)料閥來(lái)使受控量的粉末從所述儲(chǔ)存器流至所述槽。

技術(shù)方案17. 根據(jù)技術(shù)方案10所述的方法,其特征在于,所述涂料器包括與所述至少一個(gè)槽連通的儲(chǔ)存器,所述儲(chǔ)存器包括進(jìn)料閥,其能夠操作成選擇性地阻擋或容許粉末從所述儲(chǔ)存器至所述槽的流動(dòng),所述方法還包括使用所述進(jìn)料閥來(lái)使粉末以受控速率從所述儲(chǔ)存器流至所述槽。

技術(shù)方案18. 根據(jù)權(quán)利要10述的方法,其特征在于:

所述涂料器包括兩個(gè)或更多個(gè)槽,其均包括多個(gè)并排的沉積閥;

所述涂料器包括與各個(gè)槽連通的兩個(gè)或更多個(gè)儲(chǔ)存器,各個(gè)儲(chǔ)存器包括進(jìn)料閥,其能夠操作成選擇性地阻擋或容許粉末從所述儲(chǔ)存器至對(duì)應(yīng)的槽的流動(dòng);并且

其中所述方法還包括使用所述進(jìn)料閥來(lái)使粉末的混合物從所述儲(chǔ)存器流至所述槽,其中所述混合物中的所述粉末中的各種在其成分或顆粒尺寸中的至少一個(gè)上不同于所述混合物的其它粉末。

技術(shù)方案19. 根據(jù)技術(shù)方案18所述的方法,其特征在于,多個(gè)所述儲(chǔ)存器組合成柱,所述柱的所述儲(chǔ)存器中的各個(gè)與漏斗形收集器連通,其中各個(gè)收集器與所述槽中的一個(gè)連通。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明可通過(guò)參照連同附圖進(jìn)行的以下描述來(lái)最佳地理解,在該附圖中:

圖1為示例性添加制造設(shè)備的示意性截面;

圖2為能夠與圖1的設(shè)備一起使用的涂料器的示意性透視圖;

圖3為圖2的涂料器的局部截面視圖;

圖4為安裝在建造平臺(tái)之上的圖2的涂料器的透視圖;

圖5為待構(gòu)造的示例性部分的俯視圖;

圖6為圖5的部分的俯視圖,示出了其示例性的排;

圖7-10為示出圖5中所示的構(gòu)件的構(gòu)造中的粉末沉積的順序的示意性俯視圖;

圖11為能夠與圖1的設(shè)備一起使用的備選涂料器的示意性透視圖;

圖12為圖11的涂料器的局部截面視圖;

圖13為沿圖12的線13-13截取的視圖;以及

圖14為使用本文中所述的設(shè)備構(gòu)造的示例性部分。

部件列表

10 設(shè)備

12 建造平臺(tái)

14 多余粉末容器

16 定向能量源

18 射束操縱設(shè)備

20 涂料器

22 殼體

24 工作表面

26 入口端口

28 出口端口

30 儲(chǔ)存器組件

32 分送器

34 第一端

36 第二端

38 槽

40 沉積閥

42 儲(chǔ)存器

44 進(jìn)料閥

46 柱

48 收集器

50 出口

52 第一促動(dòng)器

54 第二促動(dòng)器

56 振動(dòng)器

58 電子控制器

60 外部

62 中間部

64 內(nèi)部

120 涂料器

130 儲(chǔ)存器組件

132 分送器

134 第一端

136 第二端

138 槽

140 沉積閥

142 儲(chǔ)存器

148 收集器

150 出口

144 進(jìn)料閥

166 圓柱

168 凹槽

200 機(jī)械接頭組件

202 支架

204 耳部

206 桿端軸承

208 軸。

具體實(shí)施方式

參照附圖,其中同樣的附圖標(biāo)記表示相同的。圖1示意性示出了適合于執(zhí)行添加制造過(guò)程的示例性添加制造設(shè)備10。設(shè)備10可包括建造平臺(tái)12、多余粉末容器14、定向能量源16、射束操縱設(shè)備18,以及涂料器20,它們所有都可包圍在殼體22中。這些構(gòu)件中的各個(gè)將在下面更詳細(xì)描述。在描述設(shè)備10時(shí),可參照如圖1和2中所見(jiàn)的標(biāo)為X,Y和Z的三條相互垂直的軸線的系統(tǒng)。該坐標(biāo)系僅為了方便使用,并且不暗示設(shè)備10的任何特定定向是操作所需的。

建造平臺(tái)12為提供平面工作表面24的剛性結(jié)構(gòu)。多余粉末容器14為頂部開(kāi)口的器皿,其位于建造平臺(tái)12附近,并且用作用于多余粉末P的貯藏器。

定向能量源16為產(chǎn)生具有適合的功率和其它操作特征的輻射能,以在建造過(guò)程期間熔化和熔合粉末的裝置,在下面更詳細(xì)描述。例如,定向能量源16可包括激光或電子束槍。

射束操縱設(shè)備18起作用以使來(lái)自定向能量源16的射束"B"可聚焦于期望的點(diǎn)尺寸,并且沿與工作表面24重合的X-Y平面操縱至期望位置。例如,其可包括一個(gè)或更多個(gè)鏡、棱鏡和/或透鏡,并且設(shè)有適合的促動(dòng)器。

殼體22包圍設(shè)備10的工作構(gòu)件,并且可密封來(lái)防止污染。殼體22可利用氣體或氣體混合物分別通過(guò)入口端口26和出口端口28吹掃。

如圖2和3中所見(jiàn),涂料器20可包括定位在分送器32上方的儲(chǔ)存器組件30。

分送器32具有分別在第一端34與第二端36之間延伸的寬度"W"。如圖4中所示,寬度W可大致等于沿X方向的建造平臺(tái)12的寬度W。分送器32包括平行于寬度W延伸的一個(gè)或更多個(gè)長(zhǎng)形槽(大體上指定為38)。在所示實(shí)例中,分送器32包括以并排布置的多個(gè)槽38,具體是五個(gè)槽38A,38B,38C,38D,38E。如本文中使用的,用語(yǔ)"槽"是指能夠在分送粉末之前包圍粉末的任何結(jié)構(gòu),并且不一定暗示開(kāi)放的通道結(jié)構(gòu)。

各個(gè)槽38A-E包括一個(gè)或更多個(gè)沉積閥40。如本文中使用的,用語(yǔ)"閥"是指具有容許粉末材料流動(dòng)的第一位置或狀況(稱為"開(kāi)放"狀態(tài))和阻擋粉末材料流動(dòng)的第二位置或狀況(稱為"閉合"狀態(tài))的任何結(jié)構(gòu)。沉積閥40的動(dòng)作可為二進(jìn)制的(即,開(kāi)-關(guān))或可變的(即,開(kāi)至可變的程度)。能夠用作沉積閥40的適合裝置的非限制性實(shí)例包括微機(jī)電系統(tǒng)("MEMS")裝置或壓電裝置。在所示實(shí)例中,各個(gè)槽38A-E包括沿分送器32的寬度W延伸的沉積閥40的線性陣列。沉積閥40的尺寸(即,開(kāi)啟狀態(tài)中的它們的流動(dòng)面積)、獨(dú)立沉積閥40之間的間距,以及沉積閥40的總數(shù)可選擇成以便提供期望的空間解決方案和總覆蓋面積。在使用中,沉積的粉末的量和所得的粉末層厚度可由沉積閥40開(kāi)啟的持續(xù)時(shí)間控制。

儲(chǔ)存器組件30包括設(shè)置在各個(gè)槽38A-E之上的至少一個(gè)儲(chǔ)存器42。各個(gè)儲(chǔ)存器42由適合的壁或分隔物限定,形成有效儲(chǔ)存和分送粉末(大體上稱為"P")的容積。各個(gè)獨(dú)立的儲(chǔ)存器42可加載有具有獨(dú)特特征如成分和/或粉末顆粒尺寸的粉末P。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到的是,粉末P可為用于添加制造的任何適合的材料。例如,粉末P可為金屬粉末、聚合粉末、有機(jī)粉末或陶瓷粉末。注意的是,儲(chǔ)存器組件30為可選的,并且粉末P可直接地加載到槽38中。

各個(gè)儲(chǔ)存器42可并入進(jìn)料閥44,其能夠操作成選擇性地容許粉末P從儲(chǔ)存器42到相關(guān)聯(lián)的槽38A-E中的流動(dòng)。進(jìn)料閥44的結(jié)構(gòu)可如上文所述用于沉積閥40。進(jìn)料閥44可用于出于各種目的使粉末選擇性地流動(dòng),如用于限制槽38A-E中的粉末P的量(以避免干擾沉積閥40的操作);或用于將來(lái)自若干不同儲(chǔ)存器42的粉末在一個(gè)槽38A-E中混合在一起。

在所示實(shí)例中,一組儲(chǔ)存器42以平行于分送器32的寬度W延伸的并排構(gòu)造布置。為了便于描述,該組可稱為"柱"46。柱46內(nèi)的儲(chǔ)存器42在具有單個(gè)出口50的漏斗形收集器48上方組合,單個(gè)出口50排放到相應(yīng)的槽38A-E中。一個(gè)此類柱46和收集器48可提供用于各個(gè)槽38A-E。作為備選,各個(gè)儲(chǔ)存器42可定位成直接地排放到槽38A-E中的一個(gè)中。

可能的是,使各個(gè)儲(chǔ)存器42任意地加載有獨(dú)特的粉末(例如,具有獨(dú)特成分和/或顆粒尺寸的粉末)。還可能的是,使一組儲(chǔ)存器42加載有具有至少一個(gè)共同的性質(zhì)的粉末。例如,特定的柱46的儲(chǔ)存器42可加載有各個(gè)獨(dú)立儲(chǔ)存器42中的具有相同成分但不同粉末顆粒尺寸的若干粉末。

涂料器20安裝用于沿平行于工作表面24的至少一條軸線關(guān)于建造平臺(tái)12的受控移動(dòng),使得粉末可分送在建造平臺(tái)12的選擇區(qū)域之上。在所示實(shí)例中,分送器32的寬度W大致等于建造平臺(tái)12的寬度W,所以在X方向上不需要移動(dòng)以便將粉末分送在特定位置。涂料器20使用第一促動(dòng)器52安裝于殼體22,容許沿"長(zhǎng)度"方向的受控移動(dòng)。第一促動(dòng)器52在圖2中示意性地繪出,其中理解裝置如氣動(dòng)或液壓缸、滾珠絲杠或線性電促動(dòng)器等可用于該目的。

可選地,涂料器20可包括用于關(guān)于建造平臺(tái)12垂直于工作表面24(即,Z方向)的受控移動(dòng)的設(shè)備,以便控制涂料器20與工作表面24之間的距離。第二促動(dòng)器54出于該目的示意性地示出。沿Z方向的相對(duì)移動(dòng)可通過(guò)涂料器20、建造平臺(tái)12和兩者的一些組合的移動(dòng)產(chǎn)生。

可選地,設(shè)備可包括能夠操作成使建造平臺(tái)12和平整沉積的粉末振動(dòng)的振動(dòng)器56,如下文更詳細(xì)所述。例如,機(jī)電振動(dòng)器可用于該功能。

設(shè)備10的功能可使用圖1中示意性繪出的電子控制器58實(shí)施。例如,一個(gè)或更多個(gè)基于處理器的裝置如微型計(jì)算機(jī)或可編程邏輯控制器("PLC")可出于該目的使用。控制器58至設(shè)備10的其它構(gòu)件的功能連接示為單條虛線。

上文所述的設(shè)備10能夠操作成產(chǎn)生包括熔合粉末的分層構(gòu)件,其中涂料器20可用于將具有特定特征的粉末沉積在層內(nèi)的各個(gè)特定位置處。

現(xiàn)在將參照?qǐng)D4-10來(lái)描述使用上述設(shè)備的用于構(gòu)件的示例性建造過(guò)程。圖4示出了設(shè)置在建造平臺(tái)12上方的涂料器20。

在該實(shí)例中,儲(chǔ)存器42的第一柱46設(shè)有待供給至第一槽38A的第一粉末"P1",儲(chǔ)存器42的第二柱46設(shè)有待供給至第二槽38B的第二粉末"P2",并且存儲(chǔ)器42的第五柱46設(shè)有待供給至第五槽38E的第三粉末"P3"。

構(gòu)件"C"的一層繪出為虛線。示例性構(gòu)件C的示例性層具有由虛線示出的外部60、中間部62和內(nèi)部64。出于該實(shí)例的目的,假定了不同部分需要具有不同特征(例如,化學(xué)成分和/或粉末顆粒尺寸)的粉末。

圖5示出了構(gòu)件C的層的一半,其細(xì)分成10單元寬×15單元高的網(wǎng)格10。網(wǎng)格單元的尺寸及它們的間距出于圖示清楚的目的放大。構(gòu)件C表示為均具有單元網(wǎng)格的一系列層可例如使用適合的固體模擬或計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件來(lái)模擬。圖5中所示的各個(gè)獨(dú)特影線圖案表示一種獨(dú)特粉末的特征(例如,成分和/或顆粒尺寸)。圖6示出了位于沿Y軸線的任意站處且表示為1,2,3和4的四個(gè)示例性排。

圖7示出了將排1的單元施加在工作表面24上的涂料器20。排1的所有15個(gè)單元需要第一粉末"P1"。因此,第一槽38A的15個(gè)沉積閥40將促動(dòng)成在第一槽38A在站點(diǎn)1之上對(duì)準(zhǔn)時(shí)沉積粉末。第一促動(dòng)器52可用于在粉末沉積之前使涂料器20移動(dòng)至該位置。該移動(dòng)(和涂料器20的所有移動(dòng))可為離散的或連續(xù)的。在離散移動(dòng)的情況下,涂料器20將在促動(dòng)沉積閥40之前階躍至期望的位置。在連續(xù)移動(dòng)的情況下,涂料器20將在運(yùn)動(dòng)中設(shè)置,并且接著沉積閥將編程來(lái)在移動(dòng)期間的特定時(shí)間處促動(dòng)。

圖8示出了將排2施加在工作表面上的涂料器20。排2的外側(cè)的六個(gè)單元需要第一粉末P1,而內(nèi)側(cè)的九個(gè)單元需要第二粉末P2。因此,第一槽38A的沉積閥40中的六個(gè)將在第一槽38A在站點(diǎn)2之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖8的上部)時(shí)沉積粉末。隨后,第二槽38B的沉積閥40中的九個(gè)將在第二槽38B在站點(diǎn)2之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖8的下部)時(shí)沉積粉末。兩個(gè)沉積步驟完成排2,如圖6中所示。

圖9示出了將排3施加在工作表面上的涂料器20。排2的外側(cè)的六個(gè)單元需要第一粉末P1,四個(gè)中間單元需要第二粉末P2,并且內(nèi)側(cè)的五個(gè)單元需要第三粉末P3。因此,第一槽38A的沉積閥40中的六個(gè)在第一槽38A在站點(diǎn)3之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖9的上部)時(shí)沉積粉末。隨后,第二槽38B的沉積閥40中的四個(gè)在第二槽38B在站點(diǎn)3之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖9的中部)時(shí)沉積粉末。最后,第五槽38E的沉積閥40中的五個(gè)在第五槽38在站點(diǎn)3之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖9的下部)時(shí)沉積粉末。三個(gè)沉積步驟完成排3,如圖6中所示。

圖10示出了將排4施加在工作表面上的涂料器20。排4的外側(cè)的六個(gè)單元需要第一粉末P1,兩個(gè)中間單元需要第二粉末P2,并且內(nèi)側(cè)的七個(gè)單元需要第三粉末P3。因此,第一槽38A的沉積閥40中的六個(gè)在第一槽38A在站點(diǎn)4之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖10的上部)時(shí)沉積粉末。隨后,第二槽38B的沉積閥40中的二個(gè)在第二槽38B在站點(diǎn)4之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖10的中部)時(shí)沉積粉末。最后,第五槽38E的沉積閥40中的七個(gè)在第五槽38在站點(diǎn)4之上對(duì)準(zhǔn)(見(jiàn)圖10的上部)時(shí)沉積粉末。三個(gè)沉積步驟完成排4,如圖6中所示。

上文所述的沉積步驟將按需要以逐排方式執(zhí)行,以完成構(gòu)件C的整層??蛇x地,裝置如以上所述的振動(dòng)器56可用于在沉積之后平整粉末并且提供更均勻的層。

在沉積之后,定向能量源16用于熔化沉積的粉末,這可對(duì)應(yīng)于建造的構(gòu)件C的二維截面。定向能源16發(fā)射射束"B",并且射束操縱設(shè)備18用于以適合圖案在暴露的粉末表面之上操縱射束B(niǎo)的焦點(diǎn)"S"。粉末P的暴露層由射束B(niǎo)加熱至允許其熔化、流動(dòng)和固結(jié)的溫度。該步驟可描述為使粉末P"熔合"。

在層熔合之后,涂料器20以層增量垂直地移離建造平臺(tái)12,并且另一層粉末如上文所述沉積。定向能量源16再次發(fā)射射束"B",并且射束操縱設(shè)備18用于以適合圖案在暴露的粉末表面之上操縱射束B(niǎo)的焦點(diǎn)S。粉末P的暴露層由射束B(niǎo)加熱至允許其在頂層內(nèi)并且與之前凝固的下層一起熔化、流動(dòng)和固結(jié)的溫度。

可選地,可期望的是在過(guò)程的循環(huán)之間吹掃槽38A-E,例如在期望沉積與之前循環(huán)的粉末的不同混合物的情況下。這可通過(guò)使槽38A-E在多余粉末容器14之上移動(dòng)并且接著開(kāi)啟沉積閥40以傾倒多余粉末來(lái)完成。過(guò)程可通過(guò)使氣體或氣體混合物流過(guò)槽38A-E來(lái)加強(qiáng)。

施加粉末P并且接著使粉末P激光熔化的該循環(huán)重復(fù),直到完成整個(gè)構(gòu)件C。

圖11-13示出了包括定位在分送器132上方的儲(chǔ)存器組件130的備選涂料器120。

分送器132具有分別在第一端134與第二端136之間延伸的寬度"W"。寬度W可大致等于建造平臺(tái)12的寬度W。分送器132包括平行于寬度W延伸的一個(gè)或更多個(gè)長(zhǎng)形槽138。在所示實(shí)例中,分送器包括以并排布置的多個(gè)槽138。

各個(gè)槽138包括一個(gè)或更多個(gè)沉積閥140。在所示實(shí)例中,各個(gè)槽138包括沿分送器132的寬度W延伸的沉積閥140的線性陣列。沉積閥140的尺寸(即,開(kāi)啟狀態(tài)中的它們的流動(dòng)面積)、獨(dú)立沉積閥140之間的間距,以及沉積閥140的總數(shù)可選擇成以便提供期望的空間解決方案和總覆蓋面積。在使用中,沉積的粉末的量和所得的粉末層厚度可由沉積閥140開(kāi)啟的持續(xù)時(shí)間控制。

儲(chǔ)存器組件130包括設(shè)置在各個(gè)槽之上的至少一個(gè)儲(chǔ)存器142。各個(gè)儲(chǔ)存器142由適合的壁或分隔物限定,形成有效儲(chǔ)存和分送粉末P的容積。注意的是儲(chǔ)存器組件130為可選的,并且粉末P可直接地加載到槽138中。

在所示實(shí)例(見(jiàn)圖13)中,各個(gè)儲(chǔ)存器142為長(zhǎng)形,并且平行于分送器132的寬度W延伸。各個(gè)儲(chǔ)存器142的底部成形為具有單個(gè)出口150的漏斗形收集器148,單個(gè)出口150排放到相應(yīng)的槽138中。一個(gè)此類儲(chǔ)存器14提供用于各個(gè)槽138。

各個(gè)儲(chǔ)存器142可并入進(jìn)料閥144,其能夠操作成選擇性地容許粉末從相關(guān)聯(lián)的儲(chǔ)存器142的流動(dòng)。進(jìn)料閥144可用于出于各種目的使粉末選擇性地流動(dòng),如用于限制槽138中的粉末P的量(以避免干擾沉積閥的操作)。進(jìn)料閥144的結(jié)構(gòu)可如上文所述用于沉積閥140。在該特定實(shí)例中,進(jìn)料閥144可并入計(jì)量功能。如圖13中所見(jiàn),進(jìn)料閥44包括緊密配合至儲(chǔ)存器42的內(nèi)部的具有直徑"D"的長(zhǎng)形圓柱166??v向凹槽168形成到圓柱166的外表面中,并且圍繞其外周排列。圓柱166可以以恒定RPM旋轉(zhuǎn),引起粉末P以恒定速率計(jì)量到槽138中。

上文所述的設(shè)備和方法提供了粉末沉積中的靈活性。例如,兩種或更多種不同粉末(成分或顆粒尺寸不同)可在粉末沉積之前混和來(lái)產(chǎn)生具有中間性質(zhì)的粉末。作為備選,在粉末熔合之后,兩種或更多種不同粉末可獨(dú)立地沉積在共同位置之上,以導(dǎo)致混合或分級(jí)的性質(zhì)。

上文所述的設(shè)備和方法可用于構(gòu)造整體或單一的構(gòu)件,以及多個(gè)構(gòu)件的組件。例如,圖14示出了包括支架202的機(jī)械接頭組件200,支架202限定具有一對(duì)間隔開(kāi)的耳部204的U形夾。桿端軸承206設(shè)置在耳部204之間,并且安裝用于由軸208的樞轉(zhuǎn)移動(dòng)。使用上文所述的設(shè)備和方法,接頭組件可通過(guò)包括獨(dú)立構(gòu)件之間的間隙"G"中的犧牲支承材料來(lái)以單個(gè)過(guò)程制造。支承材料可接著在建造過(guò)程之后除去,留下工作組件。犧牲支承材料的非限制性實(shí)例包括未熔合粉末、低溫熔化材料,或由酸或腐蝕劑容易地溶解的材料("可濾取材料")。

前文描述了用于添加制造的設(shè)備及方法。本說(shuō)明書(shū)(包括任何所附權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開(kāi)的所有特征,和/或如此公開(kāi)的任何方法或過(guò)程的所有步驟可以以除其中此類特征和/或步驟中的至少一些互相排斥的組合之外的任何組合來(lái)組合。

本說(shuō)明書(shū)(包括任何所附權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開(kāi)的各個(gè)特征可由用于相同、等同或類似目的的備選特征替換,除非明確另外指出。因此,除非明確另外指出,否則公開(kāi)的各個(gè)特征僅為普通的一系列等同或類似特征的一個(gè)實(shí)例。

本發(fā)明不限于前述(多個(gè))實(shí)施例的細(xì)節(jié)。本發(fā)明延伸至本說(shuō)明書(shū)(包括任何所附權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開(kāi)的特征中的任何新穎的一個(gè)或任何新穎的組合,或者延伸至如此公開(kāi)的任何方法或過(guò)程的步驟中的任何新穎的一個(gè)或任何新穎的組合。

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