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氧化物濺射靶材的制作方法

文檔序號:12251418閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種氧化物濺射靶材,其特征在于,其金屬成分具有如下組成:含有20~50原子%的Sn、余量由Zn和不可避免的雜質組成,22℃~400℃下的斷裂彎曲應變?yōu)?.24%以上。

2.根據權利要求1所述的氧化物濺射靶材,其特征在于,200℃下的斷裂彎曲應變?yōu)?.25%以上。

3.一種氧化物濺射靶材,其特征在于,其金屬成分具有如下組成:含有20~50原子%的Sn、余量由Zn和不可避免的雜質組成,200℃下的抗彎強度為130MPa以上。

4.根據權利要求3所述的氧化物濺射靶材,其特征在于,300℃下的抗彎強度為130MPa以上。

5.根據權利要求1~權利要求4中任一項所述的氧化物濺射靶材,其特征在于,相對于金屬成分整體,含有總計0.005~4.000原子%的Al、Si、Ga、Mo和W中的1種以上。

6.根據權利要求1~權利要求5中任一項所述的氧化物濺射靶材,其特征在于,相對密度的平均值為98.5%以上。

7.根據權利要求6所述的氧化物濺射靶材,其特征在于,所述相對密度的離散度[(最大值-最小值)/平均值]×100(%)為0.3%以下。

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