1.一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：包括熱噴射系統(tǒng)(1)、基底系統(tǒng)(2)、氣氛控制系統(tǒng)(3)；
所述熱噴射系統(tǒng)(1)包括電加熱圈(12)和金屬管材(11)；所述金屬管材(11)內(nèi)可通氣體；所述金屬管材(11)的一端伸入電加熱圈(12)內(nèi)；
所述基底系統(tǒng)(2)位于電加熱圈(12)的下方，其包括可拆卸基底(21)、基底加熱裝置(22)、基底伸縮裝置(23)、基底伸縮裝置的工作開關(24)；所述拆卸基底(21)附著在基底加熱裝置(22)上，通過基底伸縮裝置(23)使得帶有拆卸基底(21)的基底加熱裝置(22)按設定的速度上下伸縮；所述基底伸縮裝置的工作開關(24)控制基底伸縮裝置(23)工作；
所述氣氛控制系統(tǒng)(3)由包括進氣口(31)、出氣口(32)、氣氛保護室(33)所述進氣口(31)、出氣口(32)設置在氣氛保護室(33)；
所述基底系統(tǒng)(2)、電加熱圈(12)以及伸入電加熱圈(12)內(nèi)的金屬管材位于氣氛保護室(33)內(nèi)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：所述金屬管材(11)的另一端通過軟管連接到保護氣體提供裝置上，所述軟管上設有閥門。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：進氣口(31)、出氣口(32)均帶有閥門。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：氣氛保護室(33)頂部為可打開的保護性氣罩，所述保護性氣罩上預留有金屬管材(11)的進口。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：氣氛保護室(33)的側(cè)面設有透明的觀測口(34)，所述觀測口(34)外設有高速攝像裝置(41)。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種模擬高溫噴鍍過程的裝置，其特征在于：進氣口(31)連接到保護氣體提供裝置上。
7.一種模擬高溫噴鍍過程的裝置的應用，其特征在于包括下述步驟：
步驟一
將金屬管材(11)通過保護性氣罩上預留有金屬管材(11)的進口伸入電加熱圈(12)；將可拆卸基底(21)固定于基底加熱裝置(22)上，
步驟二
打開進氣口(31)、出氣口(32)的閥門，通過保護氣體提供裝置往氣氛保護室(33)通入保護氣體至往氣氛保護室(33)內(nèi)氧的體積含量小于等于0.0001％；
步驟三
加熱基底至設定溫度后保溫，同時開啟電加熱圈(12)對金屬管材(11)進行加熱至產(chǎn)生液滴時，開啟基底伸縮裝置的工作開關(24)使得基底伸縮裝置按照設定速度上行并與液滴接觸。
8.根據(jù)權利要求7所述的模擬高溫噴鍍過程的裝置的應用，其特征在于：在模擬過程中，通過高速攝像裝置(41)對模擬過程實時記錄。
9.根據(jù)權利要求7所述的模擬高溫噴鍍過程的裝置的應用，其特征在于：研究液滴速度對噴鍍的影響時，開啟電加熱圈(12)對金屬管材(11)加熱后，打開軟管上設有閥門往金屬管材(11)內(nèi)通入氣體，并配合基底伸縮裝置按設定速度上行。
10.據(jù)權利要求7所述的模擬高溫噴鍍過程的裝置的應用，其特征在于：將步驟三所得帶有液滴的基底取出；并結(jié)合高速攝像裝置(41)的錄像分析模擬熱噴鍍過程。