本發(fā)明屬于建筑節(jié)能能材料
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體涉及了一種金屬納米線網(wǎng)和vo2的復(fù)合薄膜的制備方法及其在建筑玻璃節(jié)能涂層方面的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
：節(jié)能是時代的主題。根據(jù)我國最新能源消耗數(shù)據(jù)，建筑能耗約已占社會總能耗的33％，是僅次于工業(yè)的第二大“能耗戶”。建筑能耗當(dāng)中，由于隔熱性差及太陽能利用率低下等問題所引起的采暖制冷能耗所占比例最大；而從建筑構(gòu)建來看，玻璃窗作為建筑與環(huán)境進(jìn)行能量交換的主要通道而具有決定性作用。研究表明，通過窗玻璃的能量交換在冬季和夏季分別占總交換能量的48％和71％。所以窗戶節(jié)能是建筑節(jié)能的重中之重。在太陽光譜中，具有顯著熱效應(yīng)的近紅外光占有50％的能量，這部分能量在冬天引入室內(nèi)有利于提高室內(nèi)溫度及居住的舒適度，但夏天進(jìn)入室內(nèi)會增加空調(diào)負(fù)荷。vo2材料在68℃附近發(fā)生金屬-絕緣體相變，可依據(jù)環(huán)境溫度變化大幅度調(diào)節(jié)建筑玻璃對近紅外光的攝入量。冬天環(huán)境溫度低于相變點(diǎn)時，近紅外光可以透過vo2薄膜進(jìn)入室內(nèi)，維持室內(nèi)溫度；夏天溫度高于相變點(diǎn)時，紅外光的透過受到抑制，可降低室內(nèi)溫度、減少制冷消耗。vo2材料已被認(rèn)為時新一代高效智能節(jié)能窗的關(guān)鍵材料之一。但是，對于建筑節(jié)能來說，除了太陽熱輻射區(qū)域的光熱利用外，還需要考慮室溫物體黑體輻射區(qū)域(波長范圍4.5～25μm)的能量控制。尤其是在冬季時，由于vo2鍍膜玻璃的發(fā)射率較高(0.82-0.84)，室內(nèi)的大量熱量通過吸收和二次輻射方式流失到室外，又增加了其采暖消耗。甚至研究表明，在不改善vo2玻璃發(fā)射率的情況下，其智能窗的節(jié)能效果甚至不及普通玻璃。因此，賦予vo2鍍膜玻璃(或涂層)低發(fā)射率效果是進(jìn)一步提升該種智能節(jié)能窗節(jié)能效率的關(guān)鍵。目前用來降低vo2薄膜發(fā)射率的體系主要采用鍍制透明導(dǎo)電薄膜(包括au、ag等金屬材料或ato、fto等摻雜氧化物材料)或者是將其納米粒子與vo2材料復(fù)合的形式。但不管是哪種形式，導(dǎo)電金屬及摻雜氧化物在近紅外光區(qū)的等離子體共振吸收都使vo2的智能調(diào)光效果受到抑制，同時其可見光透過率也弱化嚴(yán)重，影響其使用性能。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)缺陷，提供了一種金屬納米線網(wǎng)和vo2的復(fù)合薄膜的制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供一種金屬納米線網(wǎng)和vo2的復(fù)合薄膜的制備方法，其包括以下步驟：(1)配制金屬納米線涂覆液；(2)將金屬納米線涂覆液以下述方式中的一種或多種與vo2復(fù)合，即可制備出金屬納米線網(wǎng)和vo2的復(fù)合薄膜：(a)涂覆于襯底形成金屬納米線網(wǎng)，再于所述金屬納米線網(wǎng)上涂覆vo2膜層；(b)直接涂覆于已制備的vo2膜層之上形成金屬納米線網(wǎng)；(c)與納米vo2粉體的涂覆液混合后再涂覆于襯底；(d)vo2薄膜和金屬納米線網(wǎng)分別覆于基板的兩個表面。本發(fā)明采用金屬納米線網(wǎng)為透明低發(fā)射率層，將波長大于網(wǎng)孔尺寸的中遠(yuǎn)紅外光反射(即低發(fā)射性質(zhì))，同時又維持體系在可見-近紅外區(qū)域高的透過率，從而實(shí)現(xiàn)了低發(fā)射和智能調(diào)光性質(zhì)的兼顧。此外，本發(fā)明制備工藝簡單，環(huán)保、節(jié)能，且具備低溫、大面積和低成本生產(chǎn)的優(yōu)勢。本發(fā)明中，所述金屬納米線為銀納米線、銅納米線、金納米線、和鋁納米線中的至少一種。較佳地，金屬納米線的直徑范圍為5～200nm，長度與直徑之比范圍為1～5000。較佳地，所述金屬納米線涂覆液中，溶劑為異丙醇、酒精、水、環(huán)己烷中的至少一種，金屬納米線的濃度為0.01～0.10g/ml。較佳地，金屬納米線網(wǎng)通過旋涂法、輥涂法、噴涂法或者磁控濺射法獲得。較佳地，vo2膜層通過旋涂法、輥涂法、噴涂法、氣相沉積法或者磁控濺射法獲得。較佳地，金屬納米線網(wǎng)的平均網(wǎng)孔尺寸范圍為100～1100nm。具有這樣的平均網(wǎng)孔尺寸的金屬納米線網(wǎng)能將波長大于網(wǎng)孔尺寸的中遠(yuǎn)紅外光反射，從而使復(fù)合膜具有低發(fā)射率。較佳地，納米vo2粉體的粒徑為10～200nm。較佳地，納米vo2粉體的涂覆液中，溶劑為異丙醇、乙醇、水、乙酸乙酯中的至少一種，納米vo2粉體的固含量為2％～4％。本發(fā)明中，可以通過金屬納米線網(wǎng)的層數(shù)/厚度來調(diào)節(jié)復(fù)合膜的發(fā)射率。附圖說明圖1為本發(fā)明的復(fù)合膜的一個示例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明的復(fù)合膜的另一示例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明的復(fù)合膜的又一示例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明的復(fù)合膜的又一示例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為通過fdtd軟件計(jì)算出來的不包含金屬納米線網(wǎng)的膜層、本發(fā)明的復(fù)合膜層在300-2600nm處的透過率曲線(實(shí)線為20℃，虛線為90℃)，從圖中可以看出不包含金屬納米線網(wǎng)的膜層與本發(fā)明的復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)均有較好的熱致變色性能；圖6為通過fdtd軟件計(jì)算出來的不包含金屬納米線網(wǎng)的膜層、本發(fā)明的復(fù)合膜層在400-18000nm處的反射率曲線(實(shí)線為20℃，虛線為90℃)，從圖中可以看出本發(fā)明的復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)在1500-18000nm范圍內(nèi)的反射率無論在高溫時還是低溫時都比不包含金屬納米線網(wǎng)的膜層的反射率高，說明了本發(fā)明的復(fù)合膜層結(jié)構(gòu)有較低的發(fā)射率；圖7為vo2(a)、agnws(b)及agnws-vo2(c)涂層的xrd結(jié)果。其中復(fù)合涂層的熱處理溫度為250℃。從xrd結(jié)果可以看到經(jīng)熱處理后涂層以vo2和agnw復(fù)合相為主；圖8為agnws-vo2涂層的sem?？梢钥吹絘gnws交織成網(wǎng)絡(luò)，并含有較大孔洞；vo2納米粒子則均勻分布于整個膜層；圖9為不同ag納米線添加量的復(fù)合涂層的光學(xué)性質(zhì)。從圖中可以看出agnws的引入，對涂層近紅外光調(diào)節(jié)效率的影響較小，表明該結(jié)構(gòu)相對于連續(xù)金屬膜體系在保持近紅外熱調(diào)節(jié)能力方面具有更大優(yōu)勢；圖10為不同agnw添加量樣品在50℃紅外熱成像圖。從圖中可以看出ag納米線的引入及含量的增加，使涂層的熱發(fā)射溫度顯著降低，材料的保溫性能獲得提升。由熱成像儀所測得的溫度計(jì)算得到圖9中a→g樣品的發(fā)射率分別為0.70,0.62，0.50，0.41，0.34，0.25，0.21，可知本發(fā)明所得的涂層具有明顯的低發(fā)射性質(zhì)。具體實(shí)施方式以下結(jié)合附圖和下述實(shí)施方式進(jìn)一步說明本發(fā)明，應(yīng)理解，附圖及下述實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。本發(fā)明的復(fù)合膜包括二氧化釩薄膜、和由金屬納米線相互交織而成的金屬納米線網(wǎng)。其中，二氧化釩薄膜具有熱致變色性質(zhì)，可以響應(yīng)環(huán)境溫度變化調(diào)節(jié)透過的近紅外光；金屬納米線網(wǎng)是一種非連續(xù)膜層，平均網(wǎng)孔尺寸范圍為100nm～100μm(規(guī)則網(wǎng)孔)或100nm～1110nm(不規(guī)則網(wǎng)孔)，能將波長大于網(wǎng)孔尺寸的中遠(yuǎn)紅外光(波長4.5～25μm)反射(即低發(fā)射性質(zhì))，同時又維持體系在可見-近紅外區(qū)域高的透過率，因此本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)低發(fā)射和智能調(diào)光性質(zhì)的兼顧。本發(fā)明的復(fù)合膜，其發(fā)射率為0.21～0.70，其智能調(diào)光性質(zhì)可以通過圖9的高低溫透過率曲線看出。下面表1是通過積分獲得的，tsol表示的智能調(diào)光的性質(zhì)，也即是熱致變色的性質(zhì)：表1樣品i樣品ii樣品iii樣品iv樣品v樣品vi樣品vitlum-h59.7355.4753.3048.4145.7943.1740.33tlum-l60.7155.9754.2349.3346.7043.9341.14tsol差8.448.217.386.926.736.125.80另外，本發(fā)明的復(fù)合膜還可以包括透明基板。以下，作為示例，說明該復(fù)合膜的具體結(jié)構(gòu)。復(fù)合膜主要包括透明基板a、vo2薄膜b和金屬納米線網(wǎng)c三部分結(jié)構(gòu)。其可以形成為如下結(jié)構(gòu)之一。(一)可為abc結(jié)構(gòu)。圖1示出該結(jié)構(gòu)的示意圖，參見圖1，vo2薄膜b覆于基板a上，金屬納米線網(wǎng)c覆于vo2薄膜b上。(二)可為acb結(jié)構(gòu)。圖2示出該結(jié)構(gòu)的示意圖，參見圖2，金屬納米線網(wǎng)c覆于基板a上，vo2薄膜b覆于金屬納米線網(wǎng)c上。(三)可為bac結(jié)構(gòu)。即，vo2薄膜b和金屬納米線網(wǎng)c分別覆于基板a的兩個表面(參見圖4)。(四)也可以bc前驅(qū)體溶液混合后鍍制在a上。圖3示出該結(jié)構(gòu)的示意圖，參見圖3，vo2薄膜b和金屬納米線網(wǎng)c相融合而覆于基板a上。“融合”是指金屬納米線網(wǎng)c嵌于vo2薄膜b中，或者vo2薄膜b嵌于金屬納米線網(wǎng)c中。具體而言，bc的前驅(qū)體溶液混合后鍍制在a上。即，b的前驅(qū)體溶液vo2溶液與c的前驅(qū)體溶液銀納米線溶液混合后覆于基板a上，可以為多層的。以上結(jié)構(gòu)都具備低發(fā)射率和熱致變色性能。應(yīng)理解，上述vo2薄膜b和金屬納米線網(wǎng)c均不限于單層，例如可以通過多層銀納米線的疊加來獲得低發(fā)射率性能。此外，應(yīng)理解，以上僅為透明基板a、vo2薄膜b和金屬納米線網(wǎng)c的組合方式的示例，該組合方式不限于上述示例。本發(fā)明中，基板可為剛性基底，也可以柔性基底。剛性基底包括但不限于玻璃基底、石英基底、載玻片基底等。柔性基底包括但不限于pef基底、聚對苯二甲酸乙二醇酯基底、聚氯乙烯基底、聚碳酸酯基底等。vo2薄膜作用是響應(yīng)環(huán)境溫度變化調(diào)節(jié)透過的近紅外光，其可為二氧化釩納米顆粒膜，其中vo2粒徑可為5～200nm，優(yōu)選為10～200nm。vo2可不摻雜或摻雜，摻雜vo2的化學(xué)組成可為v1-xmxo2，式中，0.001≤x≤0.3，摻雜元素包括但不限于w、mo、mg、 f、nb等一種或幾種摻雜元素。采用上述摻雜元素，可以調(diào)控二氧化釩的相轉(zhuǎn)變溫度。另外，vo2薄膜還可以與其它透明薄膜形成復(fù)合結(jié)構(gòu)以提升可見光透過率。所述透明薄膜包括但不限于tio2、zro2、mgo等透明薄膜。vo2薄膜的厚度可為10nm～300μm，優(yōu)選為10nm～100nm，更優(yōu)選為10nm～80nm。金屬納米線網(wǎng)可為銀、銅、金、鋁等的納米線的一種或多種相互交織成的網(wǎng)絡(luò)。金屬納米線的直徑范圍可為5～200nm，優(yōu)選為10～100nm，長度與直徑之比范圍可為1-5000，優(yōu)選為800～5000。金屬納米線網(wǎng)可以為規(guī)則的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，也可以為不規(guī)則的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。規(guī)則的金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的網(wǎng)孔尺寸為100nm-100μm，優(yōu)選為0.5～2.5μm，更優(yōu)選為500～2000nm。不規(guī)則的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的平均網(wǎng)孔尺寸范圍為100nm～1110nm，優(yōu)選為200～1100nm，優(yōu)選為200～400nm。其主要作用為反射波長4.5～25μm的中遠(yuǎn)紅外光。金屬納米線網(wǎng)的厚度可為50nm-50μm，優(yōu)選為10～45μm。本發(fā)明可以得到優(yōu)異的低發(fā)射為0.21和智能調(diào)光性質(zhì)為5.8％的綜合性能。本發(fā)明中，根據(jù)復(fù)合膜的復(fù)合結(jié)構(gòu)的不同，可以選擇不同的制膜順序。例如，可以采用如下方式之一：①先在基板上形成金屬納米線網(wǎng)，再于所述金屬納米線網(wǎng)上涂覆vo2膜層；②先在基板上形成vo2膜層，再于所述vo2膜層上涂覆金屬納米線網(wǎng)；③分別在基板的兩側(cè)面上形成金屬納米線網(wǎng)和vo2膜層；④將vo2膜層的成膜前驅(qū)體(例如vo2粉體)和金屬納米線網(wǎng)的成膜前驅(qū)體(金屬納米線)混合后于基板上成膜。以下，作為示例，說明本發(fā)明的復(fù)合膜的制備方法。制備金屬納米線金屬納米線主要為銀、銅、金、鋁等的納米線的一種或多種，金屬納米線的直徑范圍為5～200nm，長度與直徑之比范圍為1-5000。金屬納米線可以是市售的，或者通過現(xiàn)有技術(shù)中的方法制備，其制備方法不限，例如可采用醇熱還原法和水熱法制得，以銀線為例，醇熱還原法具體工藝為：將pvp均勻分散在異丙醇中，加入一定量的硝酸銀，遮光攪拌，加入20微升0.1mol/l的氯化鈉乙二醇溶液，攪拌均勻后，130-170℃下靜止回流至溶液為灰白色即可。水熱法具體工藝為：將pvp均勻分散在異丙醇中，加入一定量的硝酸銀，遮光攪拌，加入20微升0.1mol/l的氯化鈉乙二醇溶液，攪拌均勻后，130-170℃下水熱反應(yīng)一定的時間。配制金屬納米線涂覆液將金屬納米線均勻分散于溶劑中(例如攪拌或超聲處理)，形成金屬納米線涂覆液。作為溶劑，包括但不限于異丙醇、乙醇、水、環(huán)己烷中的任意一種或多種混合。金屬納米線的濃度可為0.01～0.1g/ml。另外，金屬納米線涂覆液還可以加入丁酮、十六烷基三甲基溴化銨等分散劑。將該涂覆液以下述方式中的一種或多種與vo2復(fù)合，即可制備出具有低發(fā)射率性質(zhì)的vo2智能節(jié)能涂層。(a)預(yù)先涂覆于玻璃等基底隨后再涂覆vo2膜層；(b)直接涂覆于已制備的厚度為10-300nm的vo2膜層之上；(c)與粒徑為5-200nm的納米vo2粉體的涂覆液混合后再涂覆于玻璃等基底。再經(jīng)100～350℃熱處理即可獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的節(jié)能涂層；通過調(diào)節(jié)金屬納米線的加入量(層數(shù)/厚度/濃度)，可以調(diào)節(jié)制得的復(fù)合膜的發(fā)射率。例如，隨著金屬納米線的含量(層數(shù))的增加，復(fù)合膜的發(fā)射率降低。所述的vo2膜層可通過旋涂法、輥涂法、噴涂法、氣相沉積法或者磁控濺射法等方法獲得。其中vo2涂覆液為vo2納米粉體分散于溶劑中而得。所述vo2納米粉體的制備方法可參照現(xiàn)有技術(shù)，例如可通過水熱法制得，其粒徑范圍為5～200nm，可為不摻雜或加入w、mo、mg、f、nb等一種或幾種摻雜元素的vo2材料，其作用是響應(yīng)環(huán)境溫度變化調(diào)節(jié)透過的近紅外光。vo2涂覆液的溶劑可以為異丙醇、乙醇、水、乙酸乙酯等。vo2涂覆液中vo2納米粉體的固含量可為2％～4％。另外，的vo2膜層中，可加入tio2、zro2、mgo等透明材料形成復(fù)合結(jié)構(gòu)以提升可見光透過率。金屬納米線膜層(金屬納米線網(wǎng))可通過旋涂法、輥涂法、噴涂法或者磁控濺射法等方法獲得。通過控制涂覆的厚度，可以控制所得微網(wǎng)的網(wǎng)孔尺寸。關(guān)于涂覆的厚度，旋涂時，可通過旋涂速度和/或時間等來控制，例如轉(zhuǎn)速可為1000～2000轉(zhuǎn)/分鐘，時間可為10～20秒，重復(fù)以上涂膜過程即得到不同網(wǎng)孔尺寸的微網(wǎng)；輥涂時，可根據(jù)不同規(guī)格的線棒等來控制；噴涂時，可通過噴涂次數(shù)等來控制。根據(jù)上述方法制得的復(fù)合膜中，金屬納米線網(wǎng)可呈現(xiàn)不規(guī)則網(wǎng)絡(luò)，其平均網(wǎng)孔尺寸范圍可為100nm～1110nm。本發(fā)明制備工藝簡單，且具備低溫、大面積和低成本生產(chǎn)的優(yōu)勢，同時實(shí)現(xiàn)了智能調(diào)光和靜態(tài)保溫性質(zhì)的兼顧，有利于vo2智能窗節(jié)能效率的提升。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)智能調(diào)光與保溫效果的兼顧。本發(fā)明可應(yīng)用于制作建筑玻璃的隔熱涂層等領(lǐng)域。下面進(jìn)一步例舉實(shí)施例以詳細(xì)說明本發(fā)明。同樣應(yīng)理解，以下實(shí)施例只用于對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步說明，不能理解為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的 上述內(nèi)容作出的一些非本質(zhì)的改進(jìn)和調(diào)整均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。下述示例具體的工藝參數(shù)等也僅是合適范圍中的一個示例，即本領(lǐng)域技術(shù)人員可以通過本文的說明做合適的范圍內(nèi)選擇，而并非要限定于下文示例的具體數(shù)值。測試方法透過率：通過紫外-可見-近紅外分光光度計(jì)進(jìn)行表征(日本日立公司，uh4150)，測試波長范圍300-2600nm，掃描速度600nm/min。測試時用自測的控溫構(gòu)件對樣品進(jìn)行加熱，在20和90℃條件下分別測量樣品透、反射光譜；發(fā)射率：同樣品的發(fā)射率依據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)iso18434-1:2008測試方法獲得。其中所采用的參考樣品為標(biāo)準(zhǔn)黑色絕緣膠帶scotch33(高發(fā)射率型，ε＝0.95)。測試過程如下：將0.5cm×0.5cm大小scotch膠帶粘貼于被測物體表面并壓實(shí)，采用10cm×10cm平板加熱臺對樣品進(jìn)行均勻加熱，所選加熱溫度高出室溫30℃以上，并保溫穩(wěn)定一段時間。為了減少環(huán)境熱輻射的影響并使加熱更為均勻，在加熱板與樣品之間放置3mm厚鋁板。采用pc-160型紅外熱成像儀測試樣品輻射溫度，并通過調(diào)整樣品發(fā)射率使之與參比膠帶給出的實(shí)際溫度一致，此時的發(fā)射率即為被測材料的發(fā)射率。實(shí)施例1-abc結(jié)構(gòu)先在基板a上用旋涂或者輥涂法鍍制vo2薄膜b，再在vo2薄膜b上用旋涂或者輥涂法鍍制金屬納米線網(wǎng)c，金屬納米線網(wǎng)的厚度通過重復(fù)以上涂膜過程，具體而言，樣品a-g金屬納米線分別涂覆0次、1次、2次，3次，4次、5次、6次。再經(jīng)100～150℃熱處理即可獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的abc結(jié)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。參見圖5，通過fdtd軟件計(jì)算出來的ab膜層、acb結(jié)構(gòu)膜層在400-2600nm處的透過率曲線(實(shí)線為20℃，虛線為90℃)，從圖中可以看出ab結(jié)構(gòu)與acb結(jié)構(gòu)均有較好的熱致變色性能。參見圖6，通過fdtd軟件計(jì)算出來的ab膜層、acb結(jié)構(gòu)膜層在400-18000nm處的反射率曲線(實(shí)線為20℃，虛線為90℃)，從圖中可以看出acb結(jié)構(gòu)在1500-18000nm范圍內(nèi)的反射率無論在高溫時還是低溫時都比ab膜層的反射率高，說明了acb結(jié)構(gòu)有較低的發(fā)射率。實(shí)施例2-acb結(jié)構(gòu)先在a上用磁控濺射法鍍制c，再在c上用磁控濺射發(fā)鍍制b，再經(jīng)100～350℃熱處理即可獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的abc結(jié)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示。實(shí)施例3-bc混合后鍍制于a上將b溶液與c溶液進(jìn)行物理混合，再采用旋涂或者輥涂法鍍制在a上，再經(jīng)200℃氮?dú)鈿? 氛下熱處理即獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的節(jié)能涂層結(jié)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示。以下實(shí)施例中，采用水熱法或者多元醇法制備了直徑范圍為5～200nm，長度與直徑之比范圍為1-5000的金屬納米線。采用水熱法制備了粒徑范圍為5～200nm，可為不摻雜或加入w、mo、mg、f、nb等一種或幾種摻雜元素的vo2材料。實(shí)施例4(a)、銀納米線涂覆液的制備取平均直徑為70nm、長度與直徑比為2500-3000之間的銀納米線0.10g，分散在5ml的異丙醇溶液中，即可得到銀納米線涂覆液；(b)、二氧化釩涂覆液的制備取二氧化釩粉末0.2g，加入5ml異丙醇，經(jīng)超聲處理30分鐘后，球磨至溶液為黃綠色即可得到二氧化釩涂覆液；(c)、低發(fā)射率型vo2智能節(jié)能涂層的制備先選取上述(a)所得涂覆液，采用旋涂機(jī)涂膜。旋涂速度與時間分別為：轉(zhuǎn)速1000轉(zhuǎn)/分鐘，時間20秒，重復(fù)以上涂膜過程即得到需要厚度的膜，然后選取上述(b)所得涂覆液，采用旋涂機(jī)涂膜。涂膜速度與時間分別為：轉(zhuǎn)速1500轉(zhuǎn)/分鐘，時間20秒。再經(jīng)100～350℃熱處理即可獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的節(jié)能涂層。也可以：先選取上述(b)所得涂覆液，采用旋涂機(jī)涂膜。涂膜速度與時間分別為：轉(zhuǎn)速1500轉(zhuǎn)/分鐘，時間20秒；然后選取上述(a)所得涂覆液，采用旋涂機(jī)涂膜。旋涂速度與時間分別為：轉(zhuǎn)速1000轉(zhuǎn)/分鐘，時間20秒，重復(fù)以上涂膜過程即得到需要厚度的膜，具體而言，樣品a-g金屬納米線分別涂覆0次、1次、2次，3次，4次、5次、6次。再經(jīng)100～350℃熱處理即可獲得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的節(jié)能涂層。圖7示出vo2(a)、agnws(b)及agnws-vo2(c)涂層的xrd結(jié)果。其中復(fù)合涂層的熱處理溫度為250℃。從xrd結(jié)果可以看到經(jīng)熱處理后涂層以vo2和agnw復(fù)合相為主。圖8為agnws-vo2涂層的sem。可以看到agnws交織成網(wǎng)絡(luò)，并含有較大孔洞；vo2納米粒子則均勻分布于整個膜層。圖9為不同ag納米線添加量(樣品a～g)的復(fù)合涂層的光學(xué)性質(zhì)。從圖中可以看出agnws的引入，對涂層近紅外光調(diào)節(jié)效率的影響較小，表明該結(jié)構(gòu)相對于連續(xù)金屬膜體系 在保持近紅外熱調(diào)節(jié)能力方面具有更大優(yōu)勢。參見圖9樣品a-g的高低溫曲線和表1，均表現(xiàn)出明顯的熱致變色性質(zhì)。圖10為不同agnw添加量樣品a～g在50℃紅外熱成像圖。從圖中可以看出ag納米線的引入及含量的增加，使涂層的熱發(fā)射溫度顯著降低，材料的保溫性能獲得提升。由熱成像儀所測得的溫度計(jì)算得到圖10中a→g樣品的發(fā)射率分別為0.70,0.62，0.50，0.41，0.34，0.25，0.21，可知本發(fā)明所得的涂層具有明顯的低發(fā)射性質(zhì)。實(shí)施例5(a)、銅納米線涂覆液的制備取平均直徑為80nm、長度與直徑比為800－1000之間的cu納米線0.2g，分散在異丙醇溶液中，即得到銅納米線涂膜液；(b)、二氧化釩涂覆液的制備取二氧化釩粉末0.3g放入20ml燒杯中，加入去離子水7.5ml，攪拌均勻，加入1滴4585，攪拌均勻，再加入7.5g聚氨酯(pu)，攪拌均勻，即可得到二氧化釩涂覆液；(c)、低發(fā)射率型vo2智能節(jié)能涂層的制備先選取上述(a)所得涂覆液，采用輥涂或者噴涂法涂膜，可以根據(jù)不同規(guī)格的線棒或者不同噴涂次數(shù)獲得不同的厚度；然后選取上述(b)所得涂覆液，采用輥涂或者噴涂法涂膜，可以根據(jù)不同規(guī)格的線棒或者不同噴涂次數(shù)獲得不同的厚度，即可得到低發(fā)射率型vo2智能節(jié)能涂層。也可以：先選取上述(b)所得涂覆液，采用輥涂或者噴涂法涂膜，可以根據(jù)不同規(guī)格的線棒或者不同噴涂次數(shù)獲得不同的厚度，然后選取上述(a)所得涂覆液，采用輥涂或者噴涂法涂膜，可以根據(jù)不同規(guī)格的線棒或者不同噴涂次數(shù)獲得不同的厚度，即可得到低發(fā)射率型vo2智能節(jié)能涂層。實(shí)施例6(a)alnw-vo2混合涂覆液的制備取平均直徑為100nm、長度與直徑比為2500-3000之間的鋁納米線15.00g，平均尺寸為約30nm的vo2納米粉體10.00g，加入六偏磷酸鈉1.00g，74.00g異丙醇與水混合液(質(zhì)量比3:1)，經(jīng)超聲處理2min后再磁力攪拌30min，獲得均勻的涂覆液；(b)低發(fā)射率型vo2智能節(jié)能涂層的制備取上述涂覆液2ml，采用旋涂法鍍膜，旋涂速度與時間分別為：轉(zhuǎn)速1000轉(zhuǎn)/分鐘，時間20 秒。將旋涂所得前驅(qū)膜放入60℃真空干燥箱烘干處理，再經(jīng)200℃氮?dú)鈿夥障聼崽幚砑传@得具有低發(fā)射率和智能調(diào)光性質(zhì)的節(jié)能涂層。當(dāng)前第1頁12