本發(fā)明涉及真空蒸鍍裝置以及蒸發(fā)源的冷卻方法。

背景技術(shù)：

在蒸發(fā)源與基板呈對置狀態(tài)設(shè)置于成膜室內(nèi)的真空蒸鍍裝置中，蒸鍍后的成膜材料的補(bǔ)充作業(yè)、設(shè)備的維護(hù)作業(yè)需要在將被加熱的蒸發(fā)源冷卻到例如100℃左右并將真空槽向大氣開放后進(jìn)行。

但是，如果僅通過停止蒸發(fā)源的加熱并放置在真空環(huán)境內(nèi)的自然冷卻，要將蒸發(fā)源冷卻到100℃左右有時(shí)需要幾個(gè)小時(shí)到十幾個(gè)小時(shí)。因此，例如在專利文獻(xiàn)1所公開的那樣，通過在設(shè)置于對蒸發(fā)源進(jìn)行加熱的加熱部的周圍的反射器(反射板)上設(shè)置制冷劑配管而使制冷劑氣體等進(jìn)行循環(huán)，從而利用反射器的冷卻間接地提高蒸發(fā)源的冷卻效率，或者，將對加熱部自身進(jìn)行冷卻的制冷劑配管設(shè)置到加熱部等，進(jìn)行各種用于縮短冷卻時(shí)間的研究。

另外，在專利文獻(xiàn)1中，公開了在蒸發(fā)源的冷卻中向成膜室內(nèi)導(dǎo)入惰性氣體來促進(jìn)冷卻，但卻未給出任何具體地在何處如何導(dǎo)入惰性氣體的啟示。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2012-207238號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明鑒于上述的現(xiàn)狀，是為了進(jìn)一步縮短蒸發(fā)源的冷卻時(shí)間而完成的，提供一種真空蒸鍍裝置以及蒸發(fā)源的冷卻方法，通過利用制冷劑氣體直接對蒸發(fā)源進(jìn)行冷卻而使蒸鍍后的蒸發(fā)源能夠在短時(shí)間內(nèi)成為可以進(jìn)行大氣開放的溫度，縮短裝置的調(diào)試時(shí)間，從而能夠使生產(chǎn)效率得到提高。

用于解決課題的手段

一種真空蒸鍍裝置，其在真空槽內(nèi)具有使收納的成膜材料蒸發(fā)的蒸發(fā)源，通過從設(shè)置于所述蒸發(fā)源的蒸發(fā)口部射出蒸發(fā)的成膜材料，由此在設(shè)置于與所述蒸發(fā)源對置的位置的基板上形成蒸鍍膜，其特征在于，該真空蒸鍍裝置具有隔熱容器體，該隔熱容器體容納所述蒸發(fā)源和對該蒸發(fā)源進(jìn)行加熱的加熱部，并隔絕來自所述蒸發(fā)源和所述加熱部的熱量，該真空蒸鍍裝置設(shè)置有向該隔熱容器體與所述蒸發(fā)源之間的空間中導(dǎo)入制冷劑氣體的制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，該制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)由制冷劑氣體導(dǎo)入孔和制冷劑氣體配管構(gòu)成，該制冷劑氣體導(dǎo)入孔設(shè)置于所述隔熱容，該制冷劑氣體配管連接于該制冷劑氣體導(dǎo)入孔的入口側(cè)并用于從所述真空槽的外部向所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔輸出所述制冷劑氣體的制冷劑氣體配管構(gòu)成。

發(fā)明效果

本發(fā)明如上述那樣構(gòu)成，提供一種真空蒸鍍裝置以及蒸發(fā)源的冷卻方法，通過利用制冷劑氣體直接對蒸發(fā)源進(jìn)行冷卻而使蒸鍍后的蒸發(fā)源能夠在短時(shí)間內(nèi)成為可以進(jìn)行大氣開放的溫度，縮短裝置的調(diào)試時(shí)間，從而能夠使生產(chǎn)效率得到提高。

附圖說明

圖1是本實(shí)施例的概略說明剖視圖。

圖2是示出本實(shí)施例的冷卻曲線的曲線圖。

圖3是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖4是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖5是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖6是示出圖3的例子中的冷卻曲線的曲線圖。

圖7是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖8是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖9是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖10是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖11是示出蒸發(fā)源單元的一例的概略說明剖視圖。

圖12是其它例子的概略說明剖視圖。

圖13是示出其它例子的冷卻曲線的曲線圖。

標(biāo)號說明

1：真空槽；2：收納部；3：擴(kuò)散部；4：蒸發(fā)源；5：蒸發(fā)口部；6：基板；7：加熱部；8：隔熱容器體；9：空間；10：制冷劑氣體導(dǎo)入孔；11：制冷劑氣體配管；12：開口部；13：吸熱面部；15：制冷劑循環(huán)路徑；16：保溫板部；17：連結(jié)管；18：貫插孔；19：分隔部；20：成膜材料。

具體實(shí)施方式

根據(jù)附圖示出本發(fā)明的作用而簡單地說明認(rèn)為優(yōu)選的本發(fā)明的實(shí)施方式。

對收納于蒸發(fā)源4的成膜材料20進(jìn)行加熱并使之蒸發(fā)，從蒸發(fā)口部5射出蒸發(fā)的成膜材料20而在基板6上形成蒸鍍膜。

在此，當(dāng)成膜后對真空槽1進(jìn)行大氣開放時(shí)，將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9，并通過利用該制冷劑氣體直接對蒸發(fā)源4進(jìn)行冷卻，從而能夠在短時(shí)間內(nèi)將蒸發(fā)源4冷卻到能夠進(jìn)行大氣開放的溫度。即，能夠從設(shè)置于隔熱容器體8的制冷劑氣體導(dǎo)入孔10可靠地將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9，并能夠利用制冷劑氣體對作為冷卻對象的蒸發(fā)源4直接進(jìn)行冷卻。

具體來說，并不是在成膜后切斷加熱部7的電源而直接將制冷劑氣體導(dǎo)入所述空間9，而是通過自然冷卻等的輻射進(jìn)行的冷卻使蒸發(fā)源4的溫度降低到制冷劑氣體與蒸發(fā)源4不能產(chǎn)生化合物的程度后，再將制冷劑氣體導(dǎo)入到所述空間9。

另外，例如，通過構(gòu)成為使導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9的制冷劑氣體從隔熱容器體8的用于使蒸發(fā)口部5露出的開口部12的蒸發(fā)口部5周圍流出，從而形成導(dǎo)入到所述空間9的制冷劑氣體從制冷劑氣體導(dǎo)入孔10朝向所述開口部12流動的制冷劑氣體流，進(jìn)一步良好地利用從制冷劑氣體導(dǎo)入孔10導(dǎo)入的制冷劑氣體進(jìn)行冷卻。

因此，本發(fā)明不僅利用輻射進(jìn)行冷卻，還將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9中而能夠直接利用制冷劑氣體(對流)可靠地冷卻蒸發(fā)源4，能夠極其有效地利用制冷劑氣體進(jìn)行冷卻。

另外，例如通過構(gòu)成為在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面?zhèn)仍O(shè)置吸熱面部13，從而與蒸發(fā)源4對置的對置面容易變涼，相應(yīng)地促進(jìn)輻射對蒸發(fā)源4的冷卻。因此，例如，在蒸鍍后，剛剛切斷加熱部7的電源后，利用吸熱面部13通過輻射進(jìn)行冷卻，到達(dá)規(guī)定溫度后，通過將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9而進(jìn)行冷卻，能夠進(jìn)一步縮短蒸發(fā)源4的冷卻時(shí)間。

另外，例如通過將制冷劑氣體導(dǎo)入孔10設(shè)置于其出口與蒸發(fā)源4的收納所述成膜材料20的收納部2面對的位置，能夠在例如收納有熱容量較大的有機(jī)材料等成膜材料20的收納部2附近良好地進(jìn)行冷卻，相應(yīng)地能夠縮短冷卻時(shí)間。

【實(shí)施例】

根據(jù)附圖說明本發(fā)明的具體的實(shí)施例。

本實(shí)施例是真空蒸鍍裝置，該真空蒸鍍裝置在真空槽1內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)源4、對蒸發(fā)源4進(jìn)行加熱的加熱部7、以及收納蒸發(fā)源4和加熱部7的隔熱容器體8，在與所述蒸發(fā)源4對置的基板6上形成蒸鍍膜。

具體來說，如圖1所圖示那樣，設(shè)置有將制冷劑氣體(氮?dú)?導(dǎo)入到蒸發(fā)源4與隔熱容器體8之間的空間9的制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，該制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)由制冷劑氣體導(dǎo)入孔10和制冷劑氣體配管11構(gòu)成，該制冷劑氣體導(dǎo)入孔10設(shè)置于所述隔熱容器體8，該制冷劑氣體配管11與該制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的入口側(cè)連接，用于從所述真空槽1的外部向所述氣體導(dǎo)入孔輸出所述制冷劑氣體。圖1中，標(biāo)號25是制冷劑氣體供給用的制冷劑氣體供給部，26是排氣用的真空泵。

本實(shí)施例的蒸發(fā)源4在內(nèi)部設(shè)置有材料收納容器21，在該材料收納容器21中收納有成膜材料20。材料收納容器21是箱狀，設(shè)置有蓋體22，該蓋體22設(shè)置有材料投放用的孔。因此，當(dāng)維護(hù)時(shí)，從蒸發(fā)源4取出材料收納容器21，填充成膜材料20之后再設(shè)置到蒸發(fā)源4，從而不需要拆卸蒸發(fā)源4自身的作業(yè)，能夠輕松地填充成膜材料20。

成膜材料20收納于材料收納容器21的下部，成膜材料20的表面與蓋體22之間的空間成為蒸發(fā)的成膜材料20進(jìn)行擴(kuò)散的擴(kuò)散區(qū)域。即，對于圖1的蒸發(fā)源4來說，與材料收納容器21的收納有成膜材料20的材料收納區(qū)域?qū)χ玫膶χ貌糠殖蔀槭占{部2，與所述擴(kuò)散區(qū)域?qū)χ玫膶χ貌糠殖蔀閿U(kuò)散部3。此外，材料收納容器21的外部空間也能夠成為擴(kuò)散區(qū)域。

在蒸發(fā)源4的周圍設(shè)置有由圓形截面的護(hù)套加熱器(ソースヒータ－)構(gòu)成的板狀的加熱部7。此外，加熱部7也可以是例如板狀的碳加熱器等其它結(jié)構(gòu)。

在蒸發(fā)源4的擴(kuò)散部3設(shè)置有噴嘴狀的蒸發(fā)口部5，并設(shè)置有在使蒸發(fā)口部5露出的狀態(tài)下收納蒸發(fā)源4和加熱部7的隔熱容器體8。

隔熱容器體8具有用于使蒸發(fā)口部5露出的開口部12，構(gòu)成為，從所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔10導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9的制冷劑氣體在真空槽1的內(nèi)部從所述開口部12的所述蒸發(fā)口部5周圍流出到隔熱容器體8的外部。即，開口部12構(gòu)成為，直徑比蒸發(fā)口部5的外徑大，且在蒸發(fā)口部5的外周面與開口部12的端面之間產(chǎn)生間隙。

在包圍該蒸發(fā)源4的隔熱容器體8的內(nèi)部形成有制冷劑循環(huán)路徑23。通過使水等制冷劑在該制冷劑循環(huán)路徑23中循環(huán)，從而保持隔熱容器體8的溫度并使來自蒸發(fā)源4、加熱部7的輻射熱不對真空槽1內(nèi)的基板6、其它部位造成影響。另外，本實(shí)施例的隔熱容器體8是將內(nèi)部安裝了制冷劑循環(huán)路徑23的面板體組合而形成的。制冷劑循環(huán)部23呈蛇行狀設(shè)置于各面板體，并與其它的面板體的制冷劑循環(huán)路徑23連接而作為整體構(gòu)成一個(gè)循環(huán)路徑。圖1中，標(biāo)號24是使制冷劑在制冷劑循環(huán)路徑23中循環(huán)的制冷劑循環(huán)部。

本實(shí)施例的制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的出口側(cè)設(shè)置于面對收納部2的位置。具體來說，制冷劑氣體導(dǎo)入孔10設(shè)置于作為上端側(cè)的開口部12的相反側(cè)位置的下端側(cè)。收納部2是收納有成膜材料20并在冷卻中需要較大能量的部位。因此，能夠使收納部2良好地冷卻，相應(yīng)地能縮短冷卻時(shí)間。尤其在熱容量較大的有機(jī)材料是成膜材料20的情況下，效果更加顯著。

在以上結(jié)構(gòu)的真空蒸鍍裝置中，成膜后，按照以下工序?qū)φ舭l(fā)源4進(jìn)行冷卻。

在成膜后的溫度是400℃左右的情況下，首先，停止加熱部7的加熱，利用熱輻射進(jìn)行蒸發(fā)源4的冷卻(第一冷卻工序)。

接著，在蒸發(fā)源4冷卻到250℃左右后，通過將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9中而進(jìn)行蒸發(fā)源4的冷卻(第二冷卻工序)。

如圖2所圖示那樣，關(guān)于按照以上的工序?qū)⒄舭l(fā)源4冷卻到約100℃時(shí)所花費(fèi)的時(shí)間，在沒有冷卻對策的現(xiàn)有例(c)中為6小時(shí)，對反射器進(jìn)行冷卻的專利文獻(xiàn)1的現(xiàn)有例(b)中為3.5小時(shí)，而本實(shí)施例(a)為2.5小時(shí)左右。

因此，根據(jù)本實(shí)施例，冷卻速度提高，相應(yīng)地能夠縮短裝置的調(diào)試時(shí)間。

另外，本實(shí)施例經(jīng)過上述第一冷卻工序和第二冷卻工序，能夠防止急速冷卻導(dǎo)致的各結(jié)構(gòu)部件的熱變形，另外，能夠防止制冷劑氣體與蒸發(fā)源4所采用的金屬的反應(yīng)。

另外，通過將制冷劑氣體導(dǎo)入孔10設(shè)置于面對收納部2的下端側(cè)位置，從而蒸發(fā)口部5稍微延遲于收納部2而被冷卻，因此即使在蒸鍍速率較高的狀態(tài)下切斷加熱部7的電源，也能夠防止在蒸發(fā)口部5附近析出材料。

另外，通過如以下那樣構(gòu)成圖1中由虛線部圍起的蒸發(fā)源單元，能夠使冷卻效率進(jìn)一步提高。

例如在圖3～5中，蒸發(fā)源4構(gòu)成為：用直徑比收納部和擴(kuò)散室小的連結(jié)管17連結(jié)收納室與擴(kuò)散室，其中，該收納室形成收納成膜材料20的收納部2，該擴(kuò)散室形成使蒸發(fā)的所述成膜材料20擴(kuò)散并使壓力均勻化的擴(kuò)散部3。

在圖3～5中，設(shè)置配置材料收納容器21的收納室，并且將用于使蒸發(fā)的成膜材料良好地?cái)U(kuò)散的擴(kuò)散室與收納室分離設(shè)置，并將該擴(kuò)散室作為擴(kuò)散部3。

另外，在隔熱容器體8中設(shè)置對收納部2與擴(kuò)散部3之間進(jìn)行隔開的分隔部19。利用分隔部19使收納部2與擴(kuò)散部3成為熱獨(dú)立的結(jié)構(gòu)，能夠分別獨(dú)立地進(jìn)行收納部2和擴(kuò)散部3的溫度控制，成為能夠進(jìn)一步良好地進(jìn)行成膜的結(jié)構(gòu)。

具體來說，分隔部19的結(jié)構(gòu)為，在構(gòu)成隔熱容器體8的一個(gè)面板體上設(shè)置有供所述連結(jié)管17貫插的貫插孔18。貫插孔18構(gòu)成為直徑比連結(jié)管17的外徑大，且在連結(jié)管17的外周面與貫插孔18的端面之間產(chǎn)生間隙。

另外，在圖3～5中，在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面?zhèn)仍O(shè)置有提高紅外區(qū)域的輻射率的吸熱面部13。如果吸熱面部13的紅外區(qū)域的輻射率比未設(shè)置有吸熱面部13的情況下的隔熱容器體8的紅外區(qū)域的輻射率高，則能夠獲得輻射率提高帶來的冷卻效率提高效果。在圖3～5中，在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面安裝了具有吸熱面部13的板材。由此，用吸熱面部13吸收來自加熱部7和蒸發(fā)源4的熱量，利用隔熱容器體8迅速地冷卻吸熱面部13，能夠有效地進(jìn)行基于輻射的冷卻。另外，通過設(shè)置吸熱面部13，在收納部2與隔熱容器體8之間，單位時(shí)間內(nèi)交換的熱量變大，即使在真空中，熱響應(yīng)性也較好，成為容易控制速率的結(jié)構(gòu)。另外，通過使吸熱面部13與隔熱容器體8成為分體結(jié)構(gòu)，構(gòu)成為在暴露于高溫環(huán)境中等造成的表面處理劣化時(shí)可容易進(jìn)行更換。

吸熱面部13是在所述板材的表面并列設(shè)置有多個(gè)具有深度的1/2以下的直徑的盲孔而形成的。此外，不限于盲孔，也可以是貫穿孔。利用該盲孔，表面積增加，而且在盲孔的內(nèi)表面，電磁波重復(fù)多重反射，從而外表的輻射率提高。另外，表面積增加，制冷劑氣體與隔熱容器體8的熱傳遞率提高，從而能夠進(jìn)一步縮短冷卻時(shí)間。另外，根據(jù)部位改變盲孔的密度也能夠有意地形成容易吸熱的部分和難以吸熱的部分。例如，位于面對收納部2的位置的吸熱面部13能夠提高輻射率，位于面對擴(kuò)散部3、蒸發(fā)口部5的位置的吸熱面部13能夠降低輻射率等。

此外，吸熱面部13是通過設(shè)置盲孔而形成的，也可以是實(shí)施提高紅外區(qū)域上的輻射率的鍍層處理、噴涂處理、氧化覆膜處理或者粗糙化處理來形成的。另外，吸熱面部13作為與隔熱容器體8分體的結(jié)構(gòu)而成為安裝于隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面的結(jié)構(gòu)，但為了提高隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面自身的紅外區(qū)域的輻射率，也可以在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面自身形成盲孔或?qū)嵤╁儗犹幚淼取Ｔ趯⑽鼰崦娌?3與隔熱容器體8一體形成的情況下，因?yàn)樾纬捎诟魺崛萜黧w8與吸熱面部13之間的接觸熱電阻消失，因此能夠相應(yīng)地加快冷卻速度。

圖3是在與收納部2和擴(kuò)散部3對置的對置面上設(shè)置吸熱面部13的例子，圖4是在與收納部2對置的對置面上設(shè)置吸熱面部13，且在擴(kuò)散部3與隔熱容器體8之間設(shè)置后述的保溫板部16的例子，圖5是在與收納部2和除了蒸發(fā)口部5周圍以外的擴(kuò)散部3對置的對置面上設(shè)置吸熱面部13，且在蒸發(fā)口部5的周圍設(shè)置保溫板部16的例子。

另外，在圖3和圖5中，在分隔部19的與收納部2對置的對置面和分隔部19的與擴(kuò)散部3對置的對置面上分別設(shè)置吸熱面部13。通過成為在分隔部19上分別設(shè)置吸熱面部13的結(jié)構(gòu)，能夠使蒸發(fā)源4的高度更緊密。

保溫板部16由紅外區(qū)域的輻射率較低的板部件構(gòu)成。保溫板部16當(dāng)設(shè)置成在對擴(kuò)散部3進(jìn)行加熱的加熱部7與隔熱容器體8之間圍繞蒸發(fā)口部5的外周時(shí)，能夠使該蒸發(fā)口部5的冷卻速度比其他部位慢，即使在蒸鍍速率較高的狀態(tài)下切斷加熱部7的電源，也能夠抑制材料的析出。

使用了圖3的結(jié)構(gòu)的蒸發(fā)源單元的情況下的冷卻工序如以下那樣。

在成膜后的溫度是400℃左右的情況下，首先，停止加熱部7的加熱并利用也使用了吸熱面部13的熱輻射進(jìn)行蒸發(fā)源4的冷卻(第一冷卻工序)。

接著，在蒸發(fā)源4冷卻到250℃左右后，通過將制冷劑氣體導(dǎo)入到隔熱容器體8與蒸發(fā)源4之間的空間9中而進(jìn)行蒸發(fā)源4的冷卻(第二冷卻工序)。

如圖6所圖示那樣，關(guān)于按照以上的工序?qū)⒄舭l(fā)源4冷卻到約100℃時(shí)所花費(fèi)的時(shí)間，在沒有冷卻對策的現(xiàn)有例(c)中為6小時(shí)，對反射器進(jìn)行冷卻的專利文獻(xiàn)1的現(xiàn)有例(b)中為3.5小時(shí)，而圖3的(a’)為2小時(shí)左右。

即，基于熱輻射的冷卻被吸熱面部13促進(jìn)，能夠進(jìn)一步提高冷卻速度。

而且，也可以如以下那樣構(gòu)成圖1中由虛線部圍起的蒸發(fā)源單元。

圖7～9是增加圖3～5中的制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的設(shè)置數(shù)量、或者變更設(shè)置位置的例子。

圖7是不僅在隔熱容器體8的下端面，也在與收納部2的左右側(cè)面對置的對置面上分別設(shè)置制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的例子。在這種情況下，能夠進(jìn)一步良好地冷卻收納部2。

圖8是不僅在隔熱容器體8的下端面(面對收納部2的位置)，也在面對擴(kuò)散部3的位置(與擴(kuò)散部3的左右側(cè)面對置的各個(gè)對置面)上設(shè)置制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的例子。另外，圖9是未在隔熱容器體8的下端面(面對收納部2的位置)設(shè)置制冷劑氣體導(dǎo)入孔10，而僅在面對擴(kuò)散部3的位置(與擴(kuò)散部3的左右側(cè)面對置的各個(gè)對置面)上設(shè)置制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的例子。在這種情況下，能夠良好地進(jìn)行擴(kuò)散部3的冷卻。

另外，如圖10中所圖示那樣，在箱狀的蒸發(fā)源4中直接收納成膜材料20，將收納有成膜材料20的部分作為收納部2，將圍繞成膜材料20的表面與蒸發(fā)源4的上表面之間的空間的部分作為擴(kuò)散部3，在這樣的結(jié)構(gòu)中，也可以成為在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面設(shè)置吸熱面部13的結(jié)構(gòu)。

在圖10中，構(gòu)成為在隔熱容器體8的內(nèi)側(cè)面的全部面上設(shè)置吸熱面部13、并設(shè)置了兩個(gè)制冷劑氣體導(dǎo)入孔10。另外，也可以構(gòu)成為從各制冷劑氣體導(dǎo)入孔10分別導(dǎo)入不同的制冷劑氣體。例如也可以成為一方導(dǎo)入氮?dú)?、另一方?dǎo)入氬氣的結(jié)構(gòu)。

另外，如圖11所圖示那樣，蒸發(fā)源4成為在擴(kuò)散部3的長度方向上并列設(shè)置了多個(gè)蒸發(fā)口部5的所謂并線資源(ラインソース)的情況下也同樣。即，圖11是在擴(kuò)散部3上并列設(shè)置了四個(gè)蒸發(fā)口部5的結(jié)構(gòu)，在隔熱容器體8上設(shè)置有四個(gè)使各蒸發(fā)口部5露出的開口部12。另外，設(shè)置有隔開收納部2與擴(kuò)散部3之間的分隔部19。另外，在隔熱容器體8的與收納部2和除了蒸發(fā)口部5的周圍之外的擴(kuò)散部3對置的對置面上設(shè)置有吸熱面部13，在蒸發(fā)口部5的周圍設(shè)置有保溫板部16。另外，在隔熱容器體8的分隔部19的與收納部2對置的對置面和分隔部19的與擴(kuò)散部3對置的對置面上也分別設(shè)置有吸熱面部13。通過成為在分隔部19的上下表面分別設(shè)置吸熱面部13的結(jié)構(gòu)，能夠使蒸發(fā)源4的高度更緊密。另外，在收納部2和擴(kuò)散部3為大型的并線資源中，收納部2與擴(kuò)散部3的溫度容易相互受到影響，利用分隔部19使收納部2與擴(kuò)散部3成為熱獨(dú)立的結(jié)構(gòu)的良好效果尤其變大。

圖11是設(shè)置了兩個(gè)制冷劑氣體導(dǎo)入孔10的結(jié)構(gòu)，也可以成為從各制冷劑氣體導(dǎo)入孔10分別導(dǎo)入不同的制冷劑氣體的結(jié)構(gòu)。例如也可以成為一方導(dǎo)入氮?dú)狻⒘硪环綄?dǎo)入氬氣的結(jié)構(gòu)。

圖12是成為在加熱部7上設(shè)置制冷劑循環(huán)路徑15的結(jié)構(gòu)的本實(shí)施例的其它例子。具體來說，制冷劑循環(huán)路徑15呈蛇行狀配置于各加熱部7的外表面?zhèn)?，分別連接而作為整體構(gòu)成一個(gè)循環(huán)路徑。

在制冷劑循環(huán)路徑15的一端連接有供給作為制冷劑的冷卻水的冷卻水供給部29，在另一端經(jīng)由三向閥32連接有冷卻水回收用的冷卻水回收部30和流出冷卻水用于進(jìn)行大氣開放的大氣開放部31。圖12中，標(biāo)號24a是向隔熱容器體8的制冷劑循環(huán)路徑23供給冷卻水的冷卻水供給部，24b是回收制冷劑循環(huán)路徑23的冷卻水的冷卻水回收部。

另外，在其它例子中，構(gòu)成為將兩個(gè)制冷劑氣體導(dǎo)入孔10并列設(shè)置于隔熱容器體8的面對收納部2的下端。另外，氮?dú)夤┙o部27經(jīng)由制冷劑氣體配管11連接于一個(gè)制冷劑氣體導(dǎo)入孔10，氬氣供給部28經(jīng)由制冷劑氣體配管11連接于另一個(gè)制冷劑氣體導(dǎo)入孔10。

另外，在其它例子中，吸熱面部13和保溫板部16與圖5的例子同樣設(shè)置。

在其它例子中，在蒸鍍中，使隔熱容器體8的制冷劑循環(huán)路徑23中始終循環(huán)冷卻水，并關(guān)閉冷卻水供給部29通向加熱部7的制冷劑循環(huán)路徑15的閥，并且利用三向閥32使制冷劑循環(huán)路徑15進(jìn)行大氣開放。

然后，如下那樣進(jìn)行蒸鍍后的冷卻。

停止加熱部7的加熱，并進(jìn)行基于輻射的冷卻。此時(shí)，收納部2的冷卻被吸熱面部13促進(jìn)，且蒸發(fā)口部5的冷卻由于保溫板部16而變慢。因此，能夠盡可能地抑制加熱停止后從收納部2產(chǎn)生的少許蒸發(fā)微粒在蒸發(fā)口部5附近被冷卻并析出，并且良好地進(jìn)行收納部2的冷卻。

接著，在蒸發(fā)源4的收納部2的溫度降低到規(guī)定的第一溫度(250℃)時(shí)，通過將氬氣導(dǎo)入蒸發(fā)源4與隔熱容器體8之間的空間9來促進(jìn)冷卻。而且，在蒸發(fā)源4的收納部2的溫度降低到規(guī)定的第二溫度(200℃)時(shí)，通過將氮?dú)鈱?dǎo)入所述空間9而促進(jìn)冷卻。

接著，在蒸發(fā)源4的收納部2的溫度降低到規(guī)定的第三溫度(150℃)時(shí)，打開冷卻水供給部29的閥，并且利用三向閥32回收冷卻水，從而使冷卻水在加熱部7的制冷劑循環(huán)部15中循環(huán)來進(jìn)行水冷。

根據(jù)以上工序，如圖13所圖示那樣，與沒有冷卻對策的現(xiàn)有例(c)相比當(dāng)然能夠縮短冷卻時(shí)間，還能夠迅速地對收納部(x)進(jìn)行冷卻并且延遲擴(kuò)散部(y)的冷卻，能夠抑制材料的析出、各部分的破損，能夠?qū)⒄舭l(fā)源4迅速地冷卻到能夠進(jìn)行大氣開放的溫度。

此外，還可以構(gòu)成為，在蒸發(fā)源4冷卻到規(guī)定溫度后，不是導(dǎo)入其它種類的制冷劑氣體，而是通過增加導(dǎo)入中的制冷劑氣體的導(dǎo)入量(流量)來加快冷卻速度。另外，使冷卻水在制冷劑循環(huán)路徑15中以約為5pa～50pa進(jìn)行循環(huán)。這是因?yàn)槿魤毫^高，則有可能由于急劇的溫度變化而產(chǎn)生熱應(yīng)力，使得加熱部7破損。