技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的一個實施方式涉及耐等離子體部件以及耐等離子體部件的制造方法，其中，所述等離子體部件的氧化物覆蓋膜是0.05～3μm的微小粒子彼此之間在部件基材表面燒結(jié)結(jié)合而成為多晶粒子、進(jìn)而以該多晶粒子的聚集體的形式形成的氧化物沉積覆蓋膜，膜厚為10μm～200μm，膜密度為90％以上。根據(jù)上述構(gòu)成，可以得到能夠穩(wěn)定且有效地抑制源于覆蓋膜的顆粒的發(fā)生、進(jìn)而在再生處理中難以受到腐蝕或變形等損害的耐等離子體部件以及耐等離子體部件的制造方法。

技術(shù)研發(fā)人員：佐藤道雄;日野高志;中谷仁;中村隆
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會社東芝;東芝高新材料公司
文檔號碼：201580017990
技術(shù)研發(fā)日：2015.03.20
技術(shù)公布日：2016.11.23