一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，其包括真空鍍膜艙本體，所述真空鍍膜艙本體的頂部設(shè)有第一抽真空管，所述第一抽真空管連接有第一抽真空裝置，所述真空鍍膜艙本體的側(cè)壁下部設(shè)有第二抽真空管，所述第二抽真空管連接有第二抽真空裝置。本實(shí)用新型能夠有效地避免在抽真空時(shí)，灰塵等雜質(zhì)對(duì)待鍍膜物品的影響，提高鍍膜的質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)。

【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。而真空離子蒸發(fā)鍍膜在鏡片的鍍膜中應(yīng)用較廣，鏡片在鍍膜前，需固定到鍍膜腔內(nèi)頂部的旋轉(zhuǎn)承載架上，然后再對(duì)鍍膜腔進(jìn)行抽真空?，F(xiàn)有鍍膜艙的抽真空系統(tǒng)是只在鍍膜艙的頂部連接一個(gè)抽真空管，抽真空管再連接一套抽真空裝置。由于鏡片鍍膜對(duì)鍍膜艙內(nèi)潔凈度要求較高，若采用現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行對(duì)鍍膜艙進(jìn)行抽真空，鍍膜艙內(nèi)沉積在底部的灰塵等其他雜質(zhì)會(huì)隨氣流向上運(yùn)動(dòng)，雜質(zhì)會(huì)附著在待鍍膜的鏡片上，因此，對(duì)鏡片鍍膜的質(zhì)量影響較大。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠保證鍍膜潔凈度和提高鍍膜質(zhì)量的真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，包括真空鍍膜艙本體，所述真空鍍膜艙本體的頂部設(shè)有第一抽真空管，所述第一抽真空管連接有第一抽真空裝置，所述真空鍍膜艙本體的側(cè)壁下部設(shè)有第二抽真空管，所述第二抽真空管連接有第二抽真空裝置。
[0006]所述第一抽真空裝置包括依序連接的擴(kuò)散泵、羅茨泵和機(jī)械泵。
[0007]所述第二抽真空裝置為羅茨泵。
[0008]所述第一抽真空管的管徑大于第二抽真空管的管徑。
[0009]本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，先通過(guò)第二抽真空裝置對(duì)真空鍍膜艙本體進(jìn)行第一級(jí)抽真空，目的是將真空鍍膜艙本體內(nèi)的灰塵等雜質(zhì)抽走，然后再通過(guò)第二抽真空裝置將真空鍍膜艙本體內(nèi)抽真空至所需的真空度。上述過(guò)程，能夠有效地避免在抽真空時(shí)，灰塵等雜質(zhì)對(duì)待鍍膜物品的影響，提高鍍膜的質(zhì)量。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]以下結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明:
[0011]圖1為本實(shí)用新型一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)整體結(jié)構(gòu)框圖。

【具體實(shí)施方式】
[0012]如圖1所示，本實(shí)用新型一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，包括真空鍍膜艙本體1，所述真空鍍膜艙本體I的頂部設(shè)有第一抽真空管2，所述第一抽真空管2連接有第一抽真空裝置3，所述真空鍍膜艙本體I的側(cè)壁下部設(shè)有第二抽真空管4，所述第二抽真空管4連接有第二抽真空裝置5。
[0013]所述第一抽真空裝置3包括依序連接的擴(kuò)散泵31、羅茨泵32和機(jī)械泵33。
[0014]所述第二抽真空裝置5為羅茨泵。
[0015]所述第一抽真空管2的管徑大于第二抽真空管4的管徑。
[0016]本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，先通過(guò)第二抽真空裝置5對(duì)真空鍍膜艙本體I進(jìn)行第一級(jí)抽真空，目的是將真空鍍膜艙本體I內(nèi)的灰塵等雜質(zhì)抽走，然后再通過(guò)第二抽真空裝置5將真空鍍膜艙本體I內(nèi)進(jìn)行抽真空，機(jī)械泵33對(duì)空氣進(jìn)行初抽，達(dá)到一定真空度后羅茨泵32工作，當(dāng)真空室內(nèi)的達(dá)到一定的真空度后擴(kuò)散泵31才打開(kāi)，由擴(kuò)散泵31來(lái)進(jìn)一步提高至鍍膜所需的真空度。上述過(guò)程，能夠有效地避免在抽真空時(shí)，灰塵等雜質(zhì)對(duì)待鍍膜物品的影響，提高鍍膜的質(zhì)量。
【權(quán)利要求】
1.一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，包括真空鍍膜艙本體，所述真空鍍膜艙本體的頂部設(shè)有第一抽真空管，所述第一抽真空管連接有第一抽真空裝置，其特征在于:所述真空鍍膜艙本體的側(cè)壁下部設(shè)有第二抽真空管，所述第二抽真空管連接有第二抽真空裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一抽真空裝置包括依序連接的擴(kuò)散泵、羅茨泵和機(jī)械泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第二抽真空裝置為羅茨泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述第一抽真空管的管徑大于第二抽真空管的管徑。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK204251701SQ201420718920
【公開(kāi)日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年11月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月25日
【發(fā)明者】吳曉彤 申請(qǐng)人:奧特路（漳州）光學(xué)科技有限公司