全自動真空電子槍鍍膜裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室，及垂直安裝在真空室內(nèi)的電子槍，該電子槍所對應(yīng)于裝載物料的電子槍坩堝；其特征是，包括有一輸送帶，該輸送帶穿過真空室位于電子槍的上方；所述的電子槍沿輸送帶橫截面方向按間隔排列至少一排以上且分布多只的電子槍。本實(shí)用新型采用一排或多排的電子槍鍍膜，可以滿足產(chǎn)品不同規(guī)格的要求。另外，通過設(shè)置的移動輸送帶，可有效形成連續(xù)自動化生產(chǎn)，可提高生產(chǎn)效率達(dá)80平方米/小時(shí)，同時(shí)又降低了生產(chǎn)成本，及滿足在任何形成的基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層。解決了傳統(tǒng)鍍膜技術(shù)要求不同，每次間歇工作時(shí)間長，鍍膜效率低，不能形成連續(xù)生產(chǎn)能力的問題。
【專利說明】全自動真空電子槍鍍膜裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜裝置。具體說是一種全自動真空電子槍鍍膜裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，對于玻璃基片真空鍍膜的生產(chǎn)是以間歇式小規(guī)格、低效率、高成本的生產(chǎn)方式。該真空鍍膜裝置，包括真空罐體，在所述真空罐體內(nèi)沿半徑方向固定設(shè)置電子槍，及與電子槍相對應(yīng)配置的裝載物料的電子槍坩堝，距離電子槍上方一定高度具有一個(gè)旋轉(zhuǎn)架。真空鍍膜時(shí)，將被鍍物體在大氣狀態(tài)下安放在真空罐內(nèi)的旋轉(zhuǎn)架上，關(guān)閉真空罐門，開始對真空罐體進(jìn)行抽真空。在合理真空條件下(例如1*10Ε-2)滿足后(抽真空時(shí)間約為30分鐘)，被鍍物體開始高速旋轉(zhuǎn)，開啟電子槍分別蒸鍍多層相應(yīng)物質(zhì)的鍍制，鍍制完成后再對真空罐體進(jìn)行充氣，方可取出被鍍物體，即完成一次間歇式鍍膜。另外，因被鍍物體的鍍膜技術(shù)要求不同，每次間歇工作時(shí)間約為1-12小時(shí)，最大工作效率為3平方米/小時(shí)。因此，現(xiàn)行技術(shù)的生產(chǎn)僅以單個(gè)被鍍物體有限的裝載面積進(jìn)行鍍制，不能形成具有生產(chǎn)能力的連續(xù)鍍膜，所以鍍膜產(chǎn)品規(guī)格受到限制、生產(chǎn)效率低、生產(chǎn)成本高、無法形成高效率的全自動化生產(chǎn)，僅能鍍制基片載體，無法完成在卷取基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于上述現(xiàn)狀，本實(shí)用新型提供了一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，使其能夠滿足不同規(guī)格，及形成高效率的全自動化生產(chǎn)，并可在任何基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是，一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室，及垂直安裝在真空室內(nèi)的電子槍，該電子槍所對應(yīng)于裝載物料的電子槍坩堝；其中包括有一輸送帶，該輸送帶穿過真空室位于電子槍的上方；所述的電子槍沿輸送帶橫截面方向按間隔排列至少一排以上且分布多只的電子槍。因此，通過線性位移的輸送帶的輸送方式，可以使被鍍物品具備自動化連續(xù)生產(chǎn)的能力。
[0005]本實(shí)用新型中，所涉及的真空室兩端進(jìn)出口處安裝有用于密封的真空鎖。保證真空室的真空要求。
[0006]進(jìn)一步地，所述的真空鎖為已有技術(shù)，故省略描述。
[0007]本實(shí)用新型中，所述的電子槍多排排列時(shí)，每排可排列相同或非相同數(shù)量的電子槍。
[0008]本實(shí)用新型中，所涉及的電子槍與一個(gè)一種被鍍物料的電子槍坩堝相配置，也可與多種相同或不相同被鍍物料的電子槍坩堝相配置?？蓪?shí)現(xiàn)鍍制任何被鍍物料，滿足相同或不同要求的品種。
[0009]本實(shí)用新型所指的電子槍，均為外購國產(chǎn)配套電子槍，如北京蓋德、南京涉谷、成都金雅克公司的產(chǎn)品。
[0010]本實(shí)用新型具有的積極效果是，采用一排或多排排列電子槍鍍膜，可以滿足產(chǎn)品不同規(guī)格的要求。另外，通過設(shè)置的移動輸送帶，可有效形成連續(xù)自動化生產(chǎn)，即提高了生產(chǎn)效率，又可降低生產(chǎn)成本，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定。本實(shí)用新型生產(chǎn)效率可達(dá)80平方米/小時(shí)。同時(shí)，還可滿足在任何形成的基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型的主視圖；
[0012]圖2是圖1的俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將結(jié)合附圖實(shí)施例，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0014]實(shí)施例1
[0015]見圖1、圖2所示的一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室5，及位于真空室5兩側(cè)的進(jìn)片室3和出片室9，本實(shí)用新型所述真空室5內(nèi)部垂直安裝有電子槍6，及與電子槍6所對應(yīng)的裝載物料的電子槍坩堝7。本實(shí)施例還包括有一輸送帶4，該輸送帶4穿過真空室5位于電子槍6的上方。本實(shí)施例所述的電子槍6沿輸送帶4橫截面方向按間隔排列有三排電子槍，第一排排列有五只電子槍，第二排排列有三只電子槍，第三排排列有五只電子槍，每一只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載物料的電子槍坩堝7。本新型中，在所述真空室5的兩端連接有進(jìn)片室3和出片室9，及安裝在進(jìn)片室3和出片室9內(nèi)的進(jìn)片、出片輸送帶2和10，與真空室5內(nèi)的輸送帶4對接。實(shí)施例中真空室5的兩端及進(jìn)片室3和出片室8的進(jìn)出口兩端分別安裝有用于封閉的真空鎖8和I。保證真空室5的真空要求。本實(shí)施例的設(shè)計(jì)可鍍制規(guī)格為:1.5m*2m，三層減反膜(也叫增透膜)，第一排的五只電子槍，每只電子槍與裝載折射率為1.6物料的電子槍坩堝相對應(yīng)；第二排的三只電子槍，每只電子槍與裝載折射率為2.2物料的電子槍坩堝相對應(yīng)；第三排五只電子槍，每只電子槍與裝載1.4物料的電子槍坩堝相對應(yīng)。對上述物料每只電子槍采用不同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，約五分鐘可以生產(chǎn)一片透光率為98%以上的性能優(yōu)良的大規(guī)格減反膜產(chǎn)品，該產(chǎn)品每小時(shí)產(chǎn)能為36平方米。
[0016]上述中，除所述的電子槍6沿輸送帶的橫截面方向每排排列非相同數(shù)量的電子槍之外，也可以選用每排相同數(shù)量的電子槍。本實(shí)用新型主要通過線性位移的輸送帶的輸送方式，可以使被鍍物品具備自動化連續(xù)生產(chǎn)的能力。
[0017]工作原理:
[0018]1、將進(jìn)片室進(jìn)口處的真空鎖打開，關(guān)閉真空室兩端的真空鎖及出片室出口處的真空鎖，被鍍物體通過進(jìn)片輸送帶在大氣狀態(tài)送入進(jìn)片室，關(guān)閉進(jìn)片室進(jìn)口處的真空鎖對真空室進(jìn)行抽真空，真空達(dá)到條件后，開啟真空室進(jìn)口端的真空鎖，被鍍物體通過輸送帶送入真空室；
[0019]2、真空室內(nèi)的每排、每只電子槍以不同光斑、電壓、束流對鍍膜物料進(jìn)行蒸鍍，被鍍物體以一定線速度通過電子槍即完成鍍膜；
[0020]3、鍍膜過程完成后，在出片室真空允許的條件下開啟真空室出口一側(cè)的真空鎖，將鍍膜后的物體送入進(jìn)片室，再關(guān)閉真空室出口一側(cè)的真空鎖，對出片室充氣到大氣壓狀態(tài)，開啟出片室出口處的真空鎖，鍍膜后的物體送出，完成一個(gè)鍍制過程。[0021 ] 4、整個(gè)鍍制過程均通過電腦自動控制完成。
[0022]實(shí)施例2
[0023]鍍制七層介質(zhì)高反膜(板面1.5m*2m)，第一排安裝五只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Ti02物料的電子槍坩堝；第二排沿縱向安裝三只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Si02物料的電子槍坩堝；第三排沿縱向安裝五只真空電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Τ?02物料的電子槍坩堝。第四排安裝三只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Si02物料的電子槍坩堝；第五排安裝五只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Ti02物料的電子槍坩堝；第六排安裝三只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Si02物料的電子槍坩堝；第七排安裝五只電子槍，每只電子槍對應(yīng)一個(gè)裝載Ti02物料的電子槍坩堝。對上述裝載不同物料的每只排電子槍采用不同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，約三分鐘可以生產(chǎn)一片產(chǎn)品，介質(zhì)高反膜每小時(shí)產(chǎn)能為60平方米。
[0024]該實(shí)施例與實(shí)施例1不同的是電子槍的排數(shù)及每一排電子槍坩堝裝載的被鍍物料不同，其裝載的機(jī)構(gòu)相同，故省略附圖的表示。
[0025]實(shí)施例3
[0026]鍍制三十一層介質(zhì)高反膜(板面1.5m*2m)，第一排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Ti02物料；第二排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Si02物料；第三排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Ti02物料。第四排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Si02物料；第五排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Ti02物料；第六排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Si02物料；第七排安裝五只電子槍，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載Ti02物料。對上述物料每只電子槍采用不同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，進(jìn)行往返2次鍍制，可得到品質(zhì)很好的介質(zhì)高反膜，約十分鐘可以生產(chǎn)一片產(chǎn)品，介質(zhì)高反膜每小時(shí)產(chǎn)能為18平方米。
[0027]上述中，所提及的輸送方式是采用往返方式進(jìn)行多次多層鍍膜，除此之外，還可以采用單方向運(yùn)行模式，滿足不同工藝及質(zhì)量的要求。
[0028]實(shí)施例4
[0029]如鍍制規(guī)格為:1.5m*2m，單層硅，只用需安裝一排電子槍五只，每只所對應(yīng)的電子槍坩堝裝載物料硅物料。對上述裝載物料的每只電子槍采用相同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，約二分鐘可以生產(chǎn)一片鍍膜產(chǎn)品，每小時(shí)產(chǎn)能為90平方米。
[0030]實(shí)施例5
[0031]在塑料薄膜上鍍制二層Al/Si02膜(膜寬2m)。安裝一排電子槍七只，每只所對應(yīng)兩個(gè)電子槍坩堝裝載兩種Al和Si02物料；將塑料薄膜卷(膜寬2m，長1000m)放入真空室，未鍍制的塑料薄膜安裝在放料筒內(nèi)，旋轉(zhuǎn)塑料薄膜，經(jīng)鍍制后塑料薄膜放在收料筒內(nèi)，實(shí)現(xiàn)塑料薄膜在七支電子槍上方高速方線性運(yùn)動。
[0032]鍍制方法:先對裝載Al物料的電子槍坩堝對應(yīng)每只電子槍進(jìn)行鍍制，每只電子槍采用相同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍。當(dāng)鍍制Al物料厚度滿足后，旋轉(zhuǎn)電子槍坩堝至Si02料位置，再對Si02物料對應(yīng)每只電子槍，同樣每只電子槍采用相應(yīng)的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，鍍制Si02。約二十小時(shí)可以完成塑料薄膜鍍膜，每小時(shí)產(chǎn)能為100平方米。
[0033]上述實(shí)施例，因鍍制塑料薄膜卷，故在圖1裝置中的進(jìn)片室3和出片室9的兩端安裝一個(gè)放料筒和收料筒，旋轉(zhuǎn)放料筒一側(cè)的塑料薄膜，送入進(jìn)片輸送帶2，通過真空室5經(jīng)電子槍6鍍制后，通過出片輸送帶10卷取在收料筒內(nèi)。
[0034]實(shí)施例6
[0035]在塑料薄膜上鍍制九層高反介質(zhì)膜(膜寬2m)。選用安裝二排電子槍，每排安裝七只電子槍；第一排電子槍坩堝裝載高折射率物料，第二排電子槍坩堝裝載低折射率物料；將塑料薄膜卷(膜寬2m，長1000m)放入真空室，旋轉(zhuǎn)塑料薄膜的放料筒和收料筒，實(shí)現(xiàn)塑料薄膜在七支電子槍上高速方線性運(yùn)動。先對第一排高折射率物料進(jìn)行蒸鍍，每只電子槍采用相同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，第一層膜層厚度滿足后，關(guān)閉第一排電子槍，開啟第二排裝載低折射率物料的電子槍，每只電子槍采用相同的高壓和束流進(jìn)行蒸鍍，膜制第二層膜層厚度滿足后，關(guān)閉第二排電子槍，如此反復(fù)上述九次即可完成鍍制過程。約二十小時(shí)可以完成生產(chǎn)，每小時(shí)產(chǎn)能為100平方米。
【權(quán)利要求】
1.一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室，及垂直安裝在真空室內(nèi)的電子槍，該電子槍所對應(yīng)于裝載物料的電子槍坩堝；其特征是，包括有一輸送帶(4)，該輸送帶(4)穿過真空室(5 )位于電子槍(6 )的上方；所述的電子槍(6 )沿輸送帶(4)橫截面方向按間隔排列至少一排以上且分布多只的電子槍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動真空電子槍鍍膜裝置，其特征是，所述的真空室(5)兩端進(jìn)出口處安裝有用于密封的真空鎖(8 )。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動真空電子槍鍍膜裝置，其特征是，所述的電子槍(6)多排排列時(shí)，每排可排列相同或非相同數(shù)量的電子槍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動真空電子槍鍍膜裝置，其特征是，所述的電子槍(6)與一個(gè)一種被鍍物料的電子槍坩堝相配置，也可與多種相同或不相同被鍍物料的電子槍坩堝相配置。
【文檔編號】C23C14/30GK204125525SQ201420591947
【公開日】2015年1月28日 申請日期:2014年10月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月14日
【發(fā)明者】張國勇 申請人:秦皇島國泰玻璃有限公司