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一種環(huán)氧地坪磨盤的制作方法

文檔序號:3336823閱讀:499來源:國知局
一種環(huán)氧地坪磨盤的制作方法
【專利摘要】本實用新型創(chuàng)造提供一種環(huán)氧地坪磨盤,包括圓盤形的基座;還包括拋光裝置、磨削刀以及將基座安裝到環(huán)氧地坪磨盤驅(qū)動設(shè)備上的連接部;所述拋光裝置安裝在基座中心處;所述拋光裝置包括拋光盤和拋光片;所述拋光盤中心設(shè)有連接孔;所述磨削刀安裝在基座下端面,且處于拋光片的外側(cè)。拋光片沿拋光盤的圓周方向均布設(shè)置數(shù)個。本實用新型創(chuàng)造結(jié)構(gòu)簡單,使用方便。外側(cè)的磨削刀先對環(huán)氧地坪不平整處進行磨削,再由內(nèi)側(cè)的拋光片進行拋光處理,外側(cè)的磨削刀對拋光片起到保護作用,拋光片使用壽命長。拋光盤螺紋連接在基座上,通過旋擰拋光盤,使拋光片磨損后經(jīng)調(diào)節(jié)仍能保證與磨削刀同步作業(yè),實現(xiàn)最好的磨削效果。
【專利說明】一種環(huán)氧地坪磨盤

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明創(chuàng)造屬于環(huán)氧地坪施工設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其是涉及一種環(huán)氧地坪磨盤。

【背景技術(shù)】
[0002]環(huán)氧地坪具有不起灰,整體無縫,不滲漏,容易清洗,不會存積塵埃和細菌,機械強度高,耐磨損,耐沖擊;耐酸、堿、鹽、汽油、機油柴油等化學品等特性,使得環(huán)氧地坪得到了廣泛的應(yīng)用。環(huán)氧地坪在研磨拋光過程中常采用環(huán)氧地坪磨削刀頭,環(huán)氧地坪磨削刀頭安裝于磨機上,通過磨機帶動其高速旋轉(zhuǎn)來對環(huán)氧樹脂地坪表面進行平整打磨、修整、拋光工序。但現(xiàn)有的存在磨削刀頭易磨損、使用壽命短,磨削效果差、磨削效率低等缺陷,整機作業(yè)不平穩(wěn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明創(chuàng)造要解決的問題是克服以上現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種環(huán)氧地坪
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[0004]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明創(chuàng)造采用的技術(shù)方案是:一種環(huán)氧地坪磨盤,包括圓盤形的基座;還包括拋光裝置、磨削刀以及將基座安裝到環(huán)氧地坪磨盤驅(qū)動設(shè)備上的連接部;所述拋光裝置安裝在基座中心處;所述拋光裝置包括拋光盤和拋光片;所述拋光盤中心設(shè)有連接孔;所述磨削刀安裝在基座下端面,且處于拋光片的外側(cè)。
[0005]進一步,所述拋光片沿拋光盤的圓周方向均布設(shè)置數(shù)個。
[0006]進一步,所述拋光片為尼龍纖維片。
[0007]進一步,所述磨削刀沿基座的圓周方向設(shè)置數(shù)個。
[0008]進一步,所述磨削刀呈長條形,其長度方向沿基座的徑向設(shè)置。
[0009]進一步,所述磨削刀為合金刀。
[0010]進一步,所述拋光盤螺紋連接在基座上。
[0011]進一步,所述連接部為基座邊緣沿基座圓周方向均布設(shè)置的數(shù)個凹臺;每個所述凹臺上均設(shè)有基座連接孔。
[0012]進一步,靠近所述基座外緣的位置上還設(shè)有平衡塊。
[0013]本發(fā)明創(chuàng)造具有的優(yōu)點和積極效果是:
[0014]1)結(jié)構(gòu)簡單,使用方便,外側(cè)的磨削刀先對環(huán)氧地坪不平整處進行磨削,再由內(nèi)側(cè)的拋光片進行拋光處理,省時省力,外側(cè)的磨削刀對拋光片起到保護作用,拋光片不會與大面積的不平整處接觸,因此拋光片使用壽命長。
[0015]2)拋光盤螺紋連接在基座上,通過旋擰拋光盤,可以調(diào)節(jié)拋光盤上拋光片最下緣與磨削刀最下緣的距離,使拋光片磨損后經(jīng)調(diào)節(jié)仍能保證與磨削刀同步作業(yè),實現(xiàn)最好的磨削效果。
[0016]3)基座外緣的位置上還設(shè)有平衡塊,在本環(huán)氧地坪磨盤作業(yè)時,能保證整體的平衡性,使整機作業(yè)平穩(wěn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是本發(fā)明創(chuàng)造的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]圖2是本發(fā)明創(chuàng)造中拋光裝置部分的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖3是本發(fā)明創(chuàng)造中基座部分的結(jié)構(gòu)不意圖;
[0020]圖4是圖3中A處的結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0021]圖中:1_基座;2_拋光裝置;3_磨削刀;4_連接部;5_拋光盤;6_拋光片;7-連接孔;8-沉臺;9_安裝孔;10-外螺紋;11-內(nèi)螺紋;12-凹臺;13-基座連接孔;14-平衡塊;15-除塵孔。

【具體實施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明創(chuàng)造的具體實施例做詳細說明。
[0023]一種環(huán)氧地坪磨盤,如圖1所示,包括圓盤形的基座1 ;還包括拋光裝置2、磨削刀3以及將基座1安裝到環(huán)氧地坪磨盤驅(qū)動設(shè)備上的連接部4 ;所述拋光裝置2安裝在基座1中心處;所述拋光裝置2包括拋光盤5和拋光片6 ;所述拋光盤5中心設(shè)有連接孔7 ;所述磨削刀3安裝在基座1下端面,且處于拋光片6的外側(cè)。
[0024]需要說明的是,所述磨削刀3和拋光片6上都設(shè)有帶沉臺8的安裝孔9,通過設(shè)置在安裝孔9中的螺釘將磨削刀3和拋光片6分別固定在基座1上或者拋光盤5上。
[0025]另外,基座1上還設(shè)有若干除塵孔15,打磨拋光過程的煙塵不會聚集在基座下面,會最大限度的散發(fā)出來,不會因打磨下來的殘料聚集發(fā)生阻塞卡滯,如果施工時在基座1上安裝有吸塵設(shè)備,那么經(jīng)除塵孔15會將煙塵吸走,保護環(huán)境,不會造成污染。
[0026]其中,所述拋光片6沿拋光盤5的圓周方向均布設(shè)置數(shù)個。
[0027]其中,所述拋光片6為尼龍纖維片,成本低,拋光效果好。拋光片6可拆卸的安裝在拋光盤5上,磨擦損耗至壽命極限時,可以方便更換。
[0028]其中,所述磨削刀3沿基座1的圓周方向設(shè)置數(shù)個,磨削效率高,保證了磨盤的作業(yè)效果。
[0029]其中,所述磨削刀3呈長條形,其長度方向沿基座1的徑向設(shè)置。磨削面積大,作業(yè)效率高。
[0030]其中,所述磨削刀3為合金刀,經(jīng)久耐磨,通常無需更換。
[0031]需要說明的是,外側(cè)的磨削刀3先對環(huán)氧地坪不平整處進行磨削,再由內(nèi)側(cè)的拋光片6進行拋光處理,省時省力,外側(cè)的磨削刀3對拋光片6起到保護作用,拋光片6不會與環(huán)氧地坪大面積的不平整處接觸,因此拋光片6使用壽命長。
[0032]其中,如圖2和圖3所示,所述拋光盤5螺紋連接在基座1上。為達到最優(yōu)的打磨拋光效果,拋光片6 —般突出于磨削刀3最下緣0.1mm?0.5mm左右設(shè)置,因此,拋光片6在施工過程中會經(jīng)常發(fā)生磨損的損耗。
[0033]所以,在拋光盤5的圓周外表面設(shè)有外螺紋10,基座與拋光盤連接處的通孔對應(yīng)的設(shè)有內(nèi)螺紋11,通過旋擰拋光盤5,可以調(diào)節(jié)拋光盤5下端面與基座1下端面的距離,進而調(diào)節(jié)拋光盤5上拋光片6最下緣與磨削刀3最下緣的距離。這樣,根據(jù)實際情況,可以使拋光片6磨損后經(jīng)調(diào)節(jié)仍能保證與磨削刀3同步作業(yè),實現(xiàn)最好的磨削效果。
[0034]其中,如圖2所示,所述連接部4為基座1邊緣沿基座圓周方向均布設(shè)置的數(shù)個凹臺12 ;每個所述凹臺12上均設(shè)有基座連接孔13。
[0035]其中,靠近所述基座1外緣的位置上還設(shè)有平衡塊14。在本環(huán)氧地坪磨盤作業(yè)時,能保證整體的平衡性,使整機作業(yè)平穩(wěn)。
[0036]施工前,將本環(huán)氧地坪拋光盤通過連接部4上的基座連接孔13安裝到環(huán)氧地坪拋光盤的驅(qū)動設(shè)備上,檢查拋光片6,保證拋光片6下緣突出于磨削刀3最下緣0.1mm?0.5mm左右。
[0037]作業(yè)時,基座1被環(huán)氧地坪磨盤驅(qū)動設(shè)備驅(qū)動旋轉(zhuǎn),基座1上的磨削刀3先對環(huán)氧地坪不平整處進行磨削,再由磨削刀3內(nèi)側(cè)的拋光片6進行拋光處理,這樣,一次施工操作即實現(xiàn)了打磨和拋光兩個工序,作業(yè)效率高,打磨拋光效果好。
[0038]以上對本發(fā)明創(chuàng)造的一個實施例進行了詳細說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明創(chuàng)造的較佳實施例,不能被認為用于限定本發(fā)明創(chuàng)造的實施范圍。凡依本發(fā)明創(chuàng)造申請范圍所作的均等變化與改進等,均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明創(chuàng)造的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種環(huán)氧地坪磨盤,包括圓盤形的基座;其特征在于:還包括拋光裝置、磨削刀以及將基座安裝到環(huán)氧地坪磨盤驅(qū)動設(shè)備上的連接部;所述拋光裝置安裝在基座中心處;所述拋光裝置包括拋光盤和拋光片;所述拋光盤中心設(shè)有連接孔;所述磨削刀安裝在基座下端面,且處于拋光片的外側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述拋光片沿拋光盤的圓周方向均布設(shè)置數(shù)個。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述拋光片為尼龍纖維片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述磨削刀沿基座的圓周方向設(shè)置數(shù)個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述磨削刀呈長條形,其長度方向沿基座的徑向設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、4或5所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述磨削刀為合金刀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述拋光盤螺紋連接在基座上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:所述連接部為基座邊緣沿基座圓周方向均布設(shè)置的數(shù)個凹臺;每個所述凹臺上均設(shè)有基座連接孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)氧地坪磨盤,其特征在于:靠近所述基座外緣的位置上還設(shè)有平衡塊。
【文檔編號】B24B7/18GK204221631SQ201420591308
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月13日
【發(fā)明者】張磊 申請人:天津百麗德建材科技有限公司
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