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一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法

文檔序號:3321027閱讀:236來源:國知局
一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,包括以下步驟:利用氟化鎂與稀土纖維素纖維制成混合物配料,經(jīng)過破碎、低溫脫水、高溫熔煉、然后二次破碎的步驟,形成顆粒狀的晶體混合光學(xué)鍍膜材料。通過上述方式,本發(fā)明提供了一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,該方法相較于已知的技術(shù)具有制作成本低、制作簡單,且制成的新型光學(xué)鍍膜材料鍍膜性能優(yōu)異,同傳統(tǒng)的高、中折射率材料相比,鍍膜更容易進行,鍍膜過程無噴濺、薄膜致密均勻、無搗狀結(jié)構(gòu),應(yīng)用范圍廣,經(jīng)濟價值高。
【專利說明】一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜材料的制備方法,特別是涉及一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]光學(xué)鍍膜在過去的十多年取得了很大的發(fā)展,一方面真空鍍膜技術(shù)發(fā)展迅速,由熱蒸發(fā)發(fā)展到離子束縛住沉淀、等離子輔助成膜、再發(fā)展到濺射蒸發(fā),另一方面,光學(xué)鍍膜的新應(yīng)用并產(chǎn)業(yè)化已成為拉動經(jīng)濟增長的一個重要動力,而新的鍍膜技術(shù)的應(yīng)用往往要求新的鍍膜材料的產(chǎn)生。
[0003]一般的光學(xué)鍍膜材料鍍膜時為了得到致密的膜層,基體都要加熱到200?300°C,或者通過改名鍍膜工藝,實現(xiàn)冷度,但卻增加了設(shè)備的投資成本,無形中也增加了鍍膜的經(jīng)濟成本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,該方法相較于已知的技術(shù)具有制作成本低、制作簡單,且制成的新型光學(xué)鍍膜材料鍍膜性能優(yōu)異,同傳統(tǒng)的高、中折射率材料相比,鍍膜更容易進行,鍍膜過程無噴濺、薄膜致密均勻、無搗狀結(jié)構(gòu),應(yīng)用范圍廣,經(jīng)濟價值高。
[0005]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,包括以下步驟:
步驟一,光學(xué)鍍膜材料氟化鎂坯料的制備:選用重量百分比為90%?95%的氟化鎂和5%?10%的稀土纖維素纖維,在溫度為250?300°C的真空中進行脫水,脫水時間為25?45min,脫水后的氟化鎂與稀土纖維素混合物的含水率低于5% ;
步驟二,將將含水率低于5%的混合物放入回轉(zhuǎn)式破碎機內(nèi)進行破碎,破碎后的混合物粒度在5?8mm;
步驟三,將混合物放入為700?800°C的坩堝中進行脫水,在將坩堝放入發(fā)熱體上進行保溫,保溫45?60min鐘,整個發(fā)熱體或者保溫均在真空中進行,脫水后的混合物含水率低于 1.5% ;
步驟四,最后將含水率低于1.5%的混合物放入溫度為1500?1650°C的真空爐中進行熔煉,保持35?45min中,形成混合物的多晶或單晶坨;
步驟五,在將多晶或單晶坨放入破碎機中進行機械破碎,破碎后的混合物的顆粒為I ?3mm。
[0006]在本發(fā)明一個較佳實例中,所述步驟稀土纖維素的重量百分比為5%?8%
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述混合物中稀土纖維素纖維為瀾、鐠中的一種。
[0007]在本發(fā)明一個較佳實例中,所述步驟四中真空爐中溫度為1550°C。
[0008]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,該方法相較于已知的技術(shù)具有制作成本低、制作簡單,且制成的新型光學(xué)鍍膜材料鍍膜性能優(yōu)異,同傳統(tǒng)的高、中折射率材料相比,鍍膜更容易進行,鍍膜過程無噴濺、薄膜致密均勻、無搗狀結(jié)構(gòu),應(yīng)用范圍廣,經(jīng)濟價值高。

【具體實施方式】
[0009]下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0010]本發(fā)明實施例包括:
實施例1:
一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,包括以下步驟:
步驟一,光學(xué)鍍膜材料氟化鎂坯料的制備:選用重量百分比為95%的氟化鎂和5%的稀土纖維素纖維,在溫度為300°C的真空中進行脫水,脫水時間為30min,脫水后的氟化鎂與稀土纖維素混合物的含水率低于5% ;
步驟二,將將含水率低于5%的混合物放入回轉(zhuǎn)式破碎機內(nèi)進行破碎,破碎后的混合物粒度在7mm;
步驟三,將混合物放入為800°C的坩堝中進行脫水,在將坩堝放入發(fā)熱體上進行保溫,保溫60min鐘,整個發(fā)熱體或者保溫均在真空中進行,脫水后的混合物含水率低于1.5% ;步驟四,最后將含水率低于1.5%的混合物放入溫度為1600°C的真空爐中進行熔煉,保持40min中,形成混合物的多晶或單晶坨;
步驟五,在將多晶或單晶坨放入破碎機中進行機械破碎,破碎后的混合物的顆粒為
2mm ο
[0011]實施例2:
一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,包括以下步驟:
步驟一,光學(xué)鍍膜材料氟化鎂坯料的制備:選用重量百分比為98%的氟化鎂和8%的稀土纖維素纖維,在溫度為280°C的真空中進行脫水,脫水時間為45min,脫水后的氟化鎂與稀土纖維素混合物的含水率低于5% ;
步驟二,將將含水率低于5%的混合物放入回轉(zhuǎn)式破碎機內(nèi)進行破碎,破碎后的混合物粒度在5mm;
步驟三,將混合物放入為750°C的坩堝中進行脫水,在將坩堝放入發(fā)熱體上進行保溫,保溫50min鐘,整個發(fā)熱體或者保溫均在真空中進行,脫水后的混合物含水率低于1.5% ;步驟四,最后將含水率低于1.5%的混合物放入溫度為1500°C的真空爐中進行熔煉,保持35min中,形成混合物的多晶或單晶坨;
步驟五,在將多晶或單晶坨放入破碎機中進行機械破碎,破碎后的混合物的顆粒為
3mm ο
[0012]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,該方法相較于已知的技術(shù)具有制作成本低、制作簡單,且制成的新型光學(xué)鍍膜材料鍍膜性能優(yōu)異,同傳統(tǒng)的高、中折射率材料相比,鍍膜更容易進行,鍍膜過程無噴濺、薄膜致密均勻、無搗狀結(jié)構(gòu),應(yīng)用范圍廣,經(jīng)濟價值高。
[0013]以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運用在其它相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 步驟一,光學(xué)鍍膜材料氟化鎂坯料的制備:選用重量百分比為90%?95%的氟化鎂和5%?10%的稀土纖維素纖維,在溫度為250?300°C的真空中進行脫水,脫水時間為25?45min,脫水后的氟化鎂與稀土纖維素混合物的含水率低于5% ; 步驟二,將將含水率低于5%的混合物放入回轉(zhuǎn)式破碎機內(nèi)進行破碎,破碎后的混合物粒度在5?8mm; 步驟三,將混合物放入為700?800°C的坩堝中進行脫水,在將坩堝放入發(fā)熱體上進行保溫,保溫45?60min鐘,整個發(fā)熱體或者保溫均在真空中進行,脫水后的混合物含水率低于 1.5% ; 步驟四,最后將含水率低于1.5%的混合物放入溫度為1500?1650°C的真空爐中進行熔煉,保持35?45min中,形成混合物的多晶或單晶坨; 步驟五,在將多晶或單晶坨放入破碎機中進行機械破碎,破碎后的混合物的顆粒為I ?3mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,其特征在于,所述步驟稀土纖維素的重量百分比為5%?8%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,其特征在于,所述混合物中稀土纖維素纖維為瀾、鐠中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型光學(xué)鍍膜材料的制備方法,其特征在于,所述步驟四中真空爐中溫度為1550°C。
【文檔編號】C23C14/22GK104233189SQ201410516290
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月30日
【發(fā)明者】陳學(xué)兵 申請人:蘇州普京真空技術(shù)有限公司
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