成膜裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種在真空槽內(nèi)，一邊運送薄膜一邊以高的成膜速度在薄膜上形成均勻的膜厚的有機化合物膜的技術。在真空槽（2）內(nèi)，將從原料卷材（41）上送出的薄膜（10）與中央滾筒（3）相接觸地運送，在薄膜（10）上形成有機化合物膜。具有蒸汽排放裝置（8）和能量線射出裝置（9），所述蒸汽排放裝置（8）配置在設在真空槽（2）內(nèi)的成膜室（6）內(nèi)，具有排放有機化合物單體的蒸汽并向中央滾筒（3）上的薄膜（10）吹噴的蒸汽排放部（82），所述能量線射出裝置（9）相對于形成在中央滾筒（3）上的有機化合物單體層照射能量線，使有機化合物單體層硬化。蒸汽排放裝置（8）以及成膜室（6）分別與能夠獨立控制的第5以及第3真空排氣裝置（80、60）相連，使蒸汽排放裝置（8）內(nèi)的圧力比成膜室（6）內(nèi)的圧力大，且使蒸汽排放裝置（8）內(nèi)的圧力與成膜室（6）內(nèi)的圧力的差為一定。
【專利說明】成膜裝置

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及用于真空中在薄膜上形成有機化合物膜的成膜裝置的技術。

【背景技術】
[0002]近年來，有要在薄膜上高效率地形成電子零件等的期望，因此，提出了在真空槽內(nèi)運送長條的薄膜，在該薄膜上形成由高分子有機化合物構(gòu)成的膜的技術(例如參照專利文獻I)。
[0003]以往，在薄膜上形成高分子有機化合物膜的情況下，例如進行將低分子的有機化合物單體等涂敷在薄膜上而形成有機化合物層，通過相對于該有機化合物層加熱或者照射能量線而使其硬化，形成高分子有機化合物膜。
[0004]但是，在真空槽內(nèi)通過這種方法在薄膜上形成高分子有機化合物膜的情況下存在各種問題。
[0005]S卩、難以在真空槽內(nèi)在薄膜上以均勻的膜厚形成低分子的有機化合物的單體等的膜，尤其是一邊運送薄膜一邊以高的成膜速度在薄膜上形成均勻的膜厚的有機化合物膜非常困難。
[0006]專利文獻1:日本國專利第3502261號公報。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明是考慮了這種現(xiàn)有技術的問題而提出的，其目的在于提供一種能夠在真空槽內(nèi)一邊運送薄膜一邊以高的成膜速度在薄膜上形成均勻的膜厚的有機化合物膜。
[0008]為了達成上述目的而進行的本發(fā)明是在真空槽內(nèi)，將從原料卷材上送出的薄膜與中央滾筒相接觸地運送，在該薄膜上形成有機化合物膜的成膜裝置，其中，具有蒸汽排放裝置和能量線射出裝置，所述蒸汽排放裝置配置在設在前述真空槽內(nèi)的成膜室內(nèi)，具有排放有機化合物的蒸汽并向前述中央滾筒上的薄膜吹噴的蒸汽排放部，所述能量線射出裝置相對于形成在前述中央滾筒上的有機化合物層照射能量線，使該有機化合物層硬化，前述蒸汽排放裝置以及前述成膜室分別與能夠獨立控制的真空排氣裝置相連，并且進行真空排氣，使前述蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力比前述成膜室內(nèi)的圧力大，且使前述蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力與前述成膜室內(nèi)的圧力的差為一定。
[0009]在本發(fā)明中，在對被控制成規(guī)定溫度的稀有氣體的流量進行控制，并向前述蒸汽排放裝置供給的情況下也是有效的。
[0010]在本發(fā)明中，在前述真空槽內(nèi)設有配置前述能量線射出裝置的硬化室，和與前述硬化室以及前述成膜室連通的緩沖室，前述硬化室以及前述緩沖室分別與能夠獨立控制的真空排氣裝置相連的情況下也是有效的。
[0011]在本發(fā)明中，由于在從蒸汽排放裝置的蒸汽排放部排放有機化合物的蒸汽并向中央滾筒上的薄膜吹噴之際進行真空排氣，使蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力比成膜室內(nèi)的圧力大，且使蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力與成膜室內(nèi)的圧力的差為一定，所以能夠在由中央滾筒運送的薄膜上形成膜厚均勻的有機化合物層。
[0012]其結(jié)果，根據(jù)本發(fā)明，通過相對于膜厚均勻地形成的有機化合物層照射能量線并使其聚合硬化，能夠形成均勻的膜厚的高分子有機化合物膜。
[0013]在本發(fā)明中，在對被控制成規(guī)定溫度的稀有氣體的流量進行控制并向蒸汽排放裝置供給的情況下，由于容易使蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力比成膜室內(nèi)的圧力大，所以能夠增大蒸汽排放裝置與成膜室的圧力差，提高成膜速度。
[0014]此外，在本發(fā)明中，在真空槽內(nèi)設有配置能量線射出裝置的硬化室，和與硬化室以及成膜室連通的緩沖室，硬化室以及緩沖室分別與能夠獨立控制的真空排氣裝置相連的情況下，由于不僅在蒸汽排放裝置以及成膜室之間、在成膜室、緩沖室、硬化室之間也能夠進行圧力差大的差動排氣，所以能夠進一步增大各室的圧力差，提高成膜速度。
[0015]根據(jù)本發(fā)明，能夠在真空槽內(nèi)，在由中央滾筒運送的薄膜上形成均勻的膜厚的有機化合物膜。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1 (a)是表示本發(fā)明所涉及的成膜裝置的實施方式的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的整體圖，圖1(b)是該成膜裝置的主要部分結(jié)構(gòu)圖；
圖2 (a)是表示該蒸汽排放裝置的蒸汽排放部的主視圖，圖2 (b)是表示該蒸汽排放裝置的蒸汽排放部的側(cè)視圖；
圖3 (a)、圖3 (b)是示意表示在薄膜上形成有機化合物層的工序的說明圖。
[0017]附圖標記說明:
1:成膜裝置，2:真空槽，3:中央滾筒，4:薄膜送出卷取室，5:緩沖室，6:成膜室，7:硬化室，8:蒸汽排放裝置，10:薄膜，18:控制部，19:第I溫度調(diào)整機構(gòu)，20:圧力計，21:成膜圧力計，22:有機化合物導入部，22a:分散器，23:氣化器，24A、24B、24C、24D:第I?第4氣化部材，26、27、28、29:第3?第6溫度調(diào)整機構(gòu)，30:單體供給源，33:有機化合物單體，35:稀有氣體供給源，36:質(zhì)量流量控制器，37:有機化合物單體的蒸汽，40、50、60、70、80:第I?第5真空排氣裝置，41:原料卷材，81:氣化部，82:蒸汽排放部，85:蒸汽排放口，O1' O2:旋轉(zhuǎn)軸線。

【具體實施方式】
[0018]以下，參照附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式詳細地進行說明。
[0019]圖1 (a)是表示本發(fā)明所涉及的成膜裝置的實施方式的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的整體圖，圖1(b)是該成膜裝置的主要部分結(jié)構(gòu)圖。
[0020]此外，圖2 (a)、圖2 (b)表示該蒸汽排放裝置的蒸汽排放部，圖2 (a)是主視圖，圖2 (b)是側(cè)視圖。
[0021]如圖1 (a)所示，本實施方式的成膜裝置I是在真空槽2內(nèi)在薄膜10上形成膜的
>J-U ρ?α裝直。
[0022]在真空槽2的內(nèi)部的中央部分附近設有用于與薄膜10相接觸地進行運送的圓柱形狀的中央滾筒3，在該中央滾筒3的周圍設有薄膜送出卷取室4，緩沖室5，成膜室6，以及硬化室7。
[0023]本實施方式的薄膜送出卷取室4是由被設在中央滾筒3的附近的多段折曲的板形狀的第I隔壁11，和相對于中央滾筒3為真空槽2的一方側(cè)(在此為圖中下方一側(cè))的內(nèi)壁包圍的空間形成的。
[0024]在此，第I隔壁11形成為中央滾筒3的附近的部分接近中央滾筒3的側(cè)面以及兩底面，這樣一來，薄膜10能夠通過第I隔壁11與中央滾筒3的側(cè)面之間的間隙。
[0025]在薄膜送出卷取室4內(nèi)配置有作為成膜對象物的薄膜10的原料卷材41，從該原料卷材41送出的薄膜10與中央滾筒3的表面密接地轉(zhuǎn)換方向卷繞，被設在薄膜送出卷取室4內(nèi)的卷取滾筒42卷取。
[0026]此外，在薄膜送出卷取室4內(nèi)設有相對于成膜后的薄膜10進行除電的除電裝置43。該除電裝置43用于防止成膜后的薄膜10因靜電而貼附在中央滾筒3上。
[0027]另一方面，緩沖室5是由被第I隔壁11，在中央滾筒3的附近與第I隔壁11對置地設置的多段折曲板形狀的第2隔壁12，以及真空槽2的內(nèi)壁(在此為圖中左右一側(cè)的內(nèi)壁)包圍的空間形成的。
[0028]在此，第2隔壁12形成為中央滾筒3的附近的部分接近中央滾筒3的側(cè)面以及兩底面，這樣一來，薄膜10能夠通過第2隔壁12與中央滾筒3的側(cè)面之間的間隙。
[0029]此外，成膜室6還是由被設在緩沖室5的內(nèi)部的多段折曲的形狀的第3隔壁13，和真空槽2的一方側(cè)(在此為圖中左側(cè))的內(nèi)壁包圍的空間形成的。
[0030]在此，第3隔壁13形成為中央滾筒3的附近的部分接近中央滾筒3的側(cè)面以及兩底面，這樣一來，薄膜10能夠通過第3隔壁13與中央滾筒3的側(cè)面之間的間隙。
[0031]而且，在成膜室6內(nèi)配置有后述的蒸汽排放裝置8的蒸汽排放部82。
[0032]另一方面，硬化室7是由被第2隔壁12，和相對于中央滾筒3為真空槽2的另一方側(cè)(在此為圖中上方一側(cè))的內(nèi)壁包圍的空間形成的。
[0033]在此，在真空槽2的上部與硬化室7連通的部分設有能夠向中央滾筒3的方向射出能量線的能量線射出裝置9。
[0034]上述的薄膜送出卷取室4、緩沖室5、成膜室6、硬化室7分別與能夠獨立控制的第I?第4真空排氣裝置40、50、60、70相連，能夠經(jīng)由上述的第I?第3隔壁11?13與中央滾筒3之間的間隙在薄膜送出卷取室4與緩沖室5，緩沖室5與成膜室6，以及緩沖室5與硬化室7之間進行差動排氣。
[0035]如圖1 (b)所示，本實施方式的蒸汽排放裝置8具有將液體狀的有機化合物單體33氣化的氣化部81，該氣化部81與能夠相對于成膜室6的第3真空排氣裝置60獨立地進行控制的第5真空排氣裝置80相連。
[0036]在本實施方式的情況下，在氣化部81上例如經(jīng)由具有波紋管的連接部81a連通連接有圓筒形狀的蒸汽排放部82，該蒸汽排放部82配置在真空槽2的成膜室6內(nèi)。
[0037]另一方面，在氣化部81上設有測定氣化部81內(nèi)的圧力的圧力計20，該圧力計20相對于具有計算機等的控制部18輸出測定出的圧力信息(參照圖1 (b))。
[0038]該控制部18與測定成膜室6內(nèi)的圧力的成膜圧力計21電連接，接收成膜圧力計21測定出的成膜室6內(nèi)的圧力信息。
[0039]此外，控制部18與對成膜室6進行真空排氣的第3真空排氣裝置60電連接，基于設在成膜室6內(nèi)的成膜圧力計21得到的結(jié)果控制成膜室6內(nèi)的圧力。
[0040]在本實施方式中，在氣化部81的殼體內(nèi)部例如設有介質(zhì)循環(huán)路徑(未圖示)，使被控制成規(guī)定溫度的介質(zhì)在該介質(zhì)循環(huán)路徑與第I溫度調(diào)整機構(gòu)19之間循環(huán)。
[0041]此外，在蒸汽排放部82的殼體內(nèi)部例如設有介質(zhì)循環(huán)路徑(未圖示)，使被控制成規(guī)定溫度的介質(zhì)在該介質(zhì)循環(huán)路徑與第2溫度調(diào)整機構(gòu)83之間循環(huán)。
[0042]另一方面，在氣化部81的外部設有單體供給源30，從該單體供給源30將液體狀的有機化合物單體(以下適當?shù)胤Q為“有機化合物單體”)33經(jīng)由配管31以及有機化合物導入部22向氣化部81內(nèi)導入。
[0043]本實施方式的單體供給源30向收容在容器32內(nèi)的液體狀的有機化合物單體33內(nèi)送入惰性氣體那樣的稀有氣體34，通過其圧力，經(jīng)由配管31將有機化合物單體33向有機化合物導入部22供給。
[0044]本實施方式的有機化合物導入部22具有設在氣化部81的上部、使液體狀的有機化合物單體33分散而以霧狀進行噴霧的分散器22a。
[0045]另一方面，在氣化部81內(nèi)分散器22a的下方設有運送導入的有機化合物單體33并進行氣化的氣化器23。
[0046]該氣化器23例如具有形成為平板形狀的多個(在本實施方式中為四個)第I?第
4氣化部材 24A、24B、24C、24D。
[0047]本實施方式的第I?第4氣化部材24A?24D沿著斜下方向排列，并配置成通過分別向一方側(cè)傾斜，將有機化合物單體33自上而下交接。
[0048]而且，第I?第4氣化部材24A?24D能夠分別對傾斜角度進行變更調(diào)整。
[0049]這些第I?第4氣化部材24A?24D分別在內(nèi)部設有介質(zhì)循環(huán)路徑(未圖示)，分別與能夠獨立控制的介質(zhì)循環(huán)方式的第3?第6溫度調(diào)整機構(gòu)26、27、28、29相連。
[0050]在本實施方式中，從最上段的第I氣化部材24A向下方的第2氣化部材24B交接有機化合物單體33，從該第2氣化部材24B向下方的第3氣化部材24C交接有機化合物單體33，進而，從該第3氣化部材24C向下方的第4氣化部材24D交接有機化合物單體33。
[0051]而且，在具有這種結(jié)構(gòu)的氣化部81中，在運送以及交接有機化合物單體33之際，對有機化合物單體33進行加熱而使其氣化。
[0052]另一方面，在氣化部81的外部設有稀有氣體供給源35，將從該稀有氣體供給源35輸送來的惰性氣體那樣的稀有氣體經(jīng)由質(zhì)量流量控制器36向氣化部81內(nèi)導入。
[0053]在本實施方式的情況下，該質(zhì)量流量控制器36與控制部18相連，基于圧力計20以及成膜圧力計21得到的結(jié)果控制稀有氣體的導入量。
[0054]如圖1 (b)及圖2 (a)、圖2 (b)所示，形成為圓筒形狀的本實施方式的蒸汽排放裝置8的蒸汽排放部82從氣化部81被輸送有機化合物單體的蒸汽37，內(nèi)部的圧力與氣化部81內(nèi)的圧力相同。
[0055]此外，蒸汽排放部82具有沿著其長度方向直線狀形成的排放部84，在該排放部84上設有直線狹縫狀的蒸汽排放口 85。在此，蒸汽排放部82配置成其旋轉(zhuǎn)軸線O1與中央滾筒3的旋轉(zhuǎn)軸線O2平行，同時蒸汽排放口 85與這些旋轉(zhuǎn)軸線Op O2平行，相對于中央滾筒3上的薄膜10近接地對置配置。
[0056]此外，蒸汽排放口 85形成為寬度比中央滾筒3 (薄膜10)的寬度稍窄，相對于薄膜10的表面沿寬度方向直線地吹噴有機化合物單體的蒸汽37。
[0057]在具有這種結(jié)構(gòu)的本實施方式中，在真空槽2內(nèi)在薄膜10上形成高分子有機化合物膜的情況下，使第5真空排氣裝置80動作而進行真空排氣，使蒸汽排放裝置8的氣化部81內(nèi)的圧力為規(guī)定的值，同時使第I?第4真空排氣裝置40、50、60、70動作而進行真空排氣，使薄膜送出卷取室4、緩沖室5、成膜室6、硬化室7的圧力分別為規(guī)定的值。
[0058]在這種情況下，分別使第2?第4真空排氣裝置50?70動作而進行差動排氣，從而使緩沖室5的圧力比硬化室7的圧力大，并且使成膜室6的圧力比緩沖室5的圧力大。
[0059]此外，分別使第I以及第2真空排氣裝置40、50動作而進行差動排氣，從而使薄膜送出卷取室4的圧力比緩沖室5的圧力大。
[0060]另一方面，在蒸汽排放裝置8中，將氣化部81內(nèi)的第I?第4氣化部材24A?24D的傾斜角度設定成規(guī)定的角度，同時使第3?第6溫度調(diào)整機構(gòu)26?29動作而進行溫度控制，使第I?第4氣化部材24A?24D分別為規(guī)定的溫度。
[0061]此外，使第2溫度調(diào)整機構(gòu)83動作而進行溫度控制，使蒸汽排放部82為規(guī)定的溫度。
[0062]在該狀態(tài)下，從稀有氣體供給源35經(jīng)由質(zhì)量流量控制器36將規(guī)定量的稀有氣體向氣化部81內(nèi)導入，同時從單體供給源30經(jīng)由配管31以及有機化合物導入部22將規(guī)定量的液體狀的有機化合物單體33向氣化部81內(nèi)導入。
[0063]這樣一來，通過設在氣化部81的上部的分散器22a，霧狀的有機化合物單體33從上方向上段的第I氣化部材24A供給。
[0064]供給的有機化合物單體33從第I氣化部材24A向第2氣化部材24B交接，從第2氣化部材24B向第3氣化部材24C交接，進而，從第3氣化部材24C向第4氣化部材24D交接，在該運送以及交接之際，有機化合物單體33被加熱而氣化。
[0065]氣化后的有機化合物單體33向蒸汽排放部82輸送，并從蒸汽排放部82的蒸汽排放口 85噴出，如圖3 (a)所示，有機化合物單體的蒸汽37相對于與中央滾筒3相接觸地運送的薄膜10吹噴，在薄膜10上形成有機化合物單體層38。
[0066]在本實施方式中，在吹噴有機化合物單體的蒸汽37之際進行真空排氣，使蒸汽排放裝置8 (氣化部81以及蒸汽排放部82)內(nèi)的圧力比成膜室6內(nèi)的圧力大，并且蒸汽排放裝置8內(nèi)的圧力與成膜室6內(nèi)的圧力的差為一定。
[0067]具體地說，根據(jù)來自控制部18的命令，基于成膜圧力計21得到的結(jié)果使第3真空排氣裝置60動作，將成膜室6內(nèi)的圧力控制成規(guī)定的值，同時基于圧力計20得到的結(jié)果使質(zhì)量流量控制器36動作，控制向氣化部81導入的稀有氣體的導入量，將氣化部81的圧力控制成規(guī)定的值。
[0068]之后，一邊運送薄膜10 —邊在圖1 (a)所示的硬化室7中從能量線射出裝置9射出能量線91，使薄膜10上的有機化合物單體層38硬化，形成高分子有機化合物層39 (參照圖 3 (a)、圖 3 (b))。
[0069]最后，在薄膜送出卷取室4內(nèi)相對于薄膜10進行除電，通過卷取滾筒42卷取薄膜10。
[0070]在以上所述的本實施方式中，由于在從蒸汽排放裝置8的蒸汽排放部82排放有機化合物單體的蒸汽37并向中央滾筒3上的薄膜10吹噴之際進行真空排氣，使蒸汽排放裝置8內(nèi)的圧力比成膜室6內(nèi)的圧力大，并且蒸汽排放裝置8內(nèi)的圧力與成膜室6內(nèi)的圧力的差為一定，所以能夠在由中央滾筒3運送的薄膜10上形成膜厚均勻的有機化合物單體層38。
[0071]其結(jié)果，根據(jù)本實施方式，通過相對于膜厚均勻地形成的有機化合物單體層38照射能量線91使其聚合硬化，能夠形成均勻的膜厚的高分子有機化合物層39。
[0072]此外，在本實施方式中，由于通過質(zhì)量流量控制器36對被控制成規(guī)定溫度的稀有氣體的流量進行控制并向蒸汽排放裝置8供給，所以能夠容易地使蒸汽排放裝置8內(nèi)的圧力比成膜室6內(nèi)的圧力大，這樣一來，能夠增大蒸汽排放裝置8與成膜室6的圧力差，提高成膜速度。
[0073]進而，在本實施方式中，由于在真空槽2內(nèi)設有配置能量線射出裝置9的硬化室7，和與硬化室7以及成膜室6連通的緩沖室5，硬化室7以及緩沖室5分別與能夠獨立控制的第4以及第2真空排氣裝置70、50相連，所以不僅在蒸汽排放裝置8以及成膜室6之間、在成膜室6、緩沖室5、硬化室7之間也能夠進行圧力差大的差動排氣，這樣一來，能夠進一步增大各室的圧力差，提高成膜速度。
[0074]進而，在本實施方式中，由于氣化器23的第I?第4氣化部材24A?24D分別與能夠獨立控制的介質(zhì)循環(huán)方式的第3?第6溫度調(diào)整機構(gòu)26?29相連，所以能夠相對于各種氣化溫度的有機化合物單體33以最佳的條件使其氣化。
[0075]進而，在本實施方式中，由于能夠分別對第I?第4氣化部材24A?24D的傾斜角度進行變更調(diào)整，所以能夠相對于各種粘度的有機化合物單體33以最佳的條件進行運送和交接并使其氣化。
[0076]除此之外，在本實施方式中，由于在成膜之際使第I以及第2真空排氣裝置40、50動作，使薄膜送出卷取室4的圧力比緩沖室5的圧力大，所以能夠防止有機化合物單體33的蒸汽37從緩沖室5向薄膜送出卷取室4迂回。
[0077]另外，本發(fā)明并不僅限于上述的實施方式，也能夠進行各種變更。
[0078]例如，蒸汽排放裝置的氣化器并不僅限于上述實施方式，只要是能夠?qū)Φ头肿拥挠袡C化合物進行氣化，則能夠使用任何類型的氣化器。
[0079]但是，如果使用上述實施方式的氣化器，則能夠相對于各種氣化溫度的有機化合物以最佳的條件使其氣化，同時能夠相對于各種粘度的有機化合物以最佳的條件運送和交接并使其氣化。
[0080]此外，在本發(fā)明中，成為膜的原料的有機化合物的種類沒有特別限定，能夠適用于各種有機化合物。
[0081]進而，對作為成膜對象物的薄膜的種類、厚度等沒有特別限定，能夠適用于各種薄膜。
【權利要求】
1.一種成膜裝置，在真空槽內(nèi)，將從原料卷材上送出的薄膜與中央滾筒相接觸地運送，在該薄膜上形成有機化合物膜，其特征在于， 具有蒸汽排放裝置和能量線射出裝置，所述蒸汽排放裝置配置在設在前述真空槽內(nèi)的成膜室內(nèi)，具有排放有機化合物的蒸汽并向前述中央滾筒上的薄膜吹噴的蒸汽排放部，所述能量線射出裝置相對于形成在前述中央滾筒上的有機化合物層照射能量線，使該有機化合物層硬化， 前述蒸汽排放裝置以及前述成膜室分別與能夠獨立控制的真空排氣裝置相連， 并且進行真空排氣，使前述蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力比前述成膜室內(nèi)的圧力大，且使前述蒸汽排放裝置內(nèi)的圧力與前述成膜室內(nèi)的圧力的差為一定。
2.如權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于， 對被控制成規(guī)定溫度的稀有氣體的流量進行控制，并向前述蒸汽排放裝置供給。
3.如權利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于， 在前述真空槽內(nèi)設有配置前述能量線射出裝置的硬化室，和與前述硬化室以及前述成膜室連通的緩沖室，前述硬化室以及前述緩沖室分別與能夠獨立控制的真空排氣裝置相連。
【文檔編號】C23C14/12GK104379804SQ201380034843
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2013年6月12日 優(yōu)先權日:2012年6月29日
【發(fā)明者】齋藤和彥, 飯島正行, 廣野貴啟, 中森建治 申請人:株式會社愛發(fā)科