渦輪熔模鑄造真空澆注裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種渦輪熔模鑄造真空澆注裝置，它包括機架（1），所述機架（1）上設(shè)置有托盤（2），所述托盤（2）上方設(shè)置有可上下移動的澆注腔（3），其特征在于所述托盤（2）左側(cè)的機架（1）上設(shè)置有向右的紅外線探頭（4），所述托盤（2）右的機架（1）上設(shè)置有擋板（5）。本發(fā)明通過紅外線探頭的設(shè)置，可以有效防止模殼位置防止的不精確，使得該渦輪熔模鑄造真空澆注裝置具有方便模殼定位，保證澆注腔的內(nèi)壁不會與模殼碰撞，產(chǎn)品報廢率較低的優(yōu)點。
【專利說明】渦輪熔模鑄造真空澆注裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種渦輪熔模鑄造真空澆注裝置，屬于渦輪制造【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002] 在渦輪制造過程中，需要進(jìn)行渦輪模殼的熔模鑄造，在熔模后的模殼內(nèi)進(jìn)行真空 澆注，傳統(tǒng)的渦輪熔模鑄造真空澆注裝置包括機架，在機架上設(shè)置有托盤，托盤上方的機架 上設(shè)置澆注腔，進(jìn)行澆注時操作工人將熔模后的模殼放置于托盤上，然后澆注腔下降蓋置 于模殼上，由于操作工人將熔模后的模殼放置于托盤上時定位精度要求較高，一旦模殼的 位置放偏，在澆注腔下降過程中，澆注腔的內(nèi)壁會與模殼碰撞，導(dǎo)致坩堝屑掉進(jìn)模殼，產(chǎn)生 雜質(zhì)，產(chǎn)品報廢。因此尋求一種方便模殼定位，保證燒注腔的內(nèi)壁不會與模殼碰撞，產(chǎn)品報 廢率較低的渦輪熔模鑄造真空澆注裝置尤為重要。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在于克服上述不足，提供一種方便模殼定位，保證澆注腔的內(nèi)壁不 會與模殼碰撞，產(chǎn)品報廢率較低的渦輪熔模鑄造真空澆注裝置。
[0004] 本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的： 一種渦輪熔模鑄造真空澆注裝置，它包括機架，所述機架上設(shè)置有托盤，所述托盤上方 設(shè)置有可上下移動的澆注腔，其特征是所述托盤左側(cè)的機架上設(shè)置有向右的紅外線探頭， 所述托盤右的機架上設(shè)置有擋板。
[0005] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是： 本發(fā)明通過紅外線探頭的設(shè)置，可以有效防止模殼位置防止的不精確，使得該渦輪熔 模鑄造真空澆注裝置具有方便模殼定位，保證澆注腔的內(nèi)壁不會與模殼碰撞，產(chǎn)品報廢率 較低的優(yōu)點。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006] 圖1為本發(fā)明渦輪熔模鑄造真空澆注裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007] 其中： 機架1 托盤2 澆注腔3 紅外線探頭4 擋板5。

【具體實施方式】
[0008] 參見圖1，本發(fā)明涉及的一種渦輪熔模鑄造真空澆注裝置，它包括機架1，所述機 架1上設(shè)置有托盤2,所述托盤2上方設(shè)置有可上下移動的澆注腔3,所述托盤2左側(cè)的機 架1上設(shè)置有向右的紅外線探頭4,所述紅外線探頭4的光線方向通過托盤2的正上方，所 述托盤2右的機架1上設(shè)置有擋板5。
[0009] 在非工作狀態(tài)，紅外線探頭4會照射于擋板5上，在工作狀態(tài)，將模殼6放置于托 盤2上，紅外線探頭4的光線被模殼6擋住，擋板5上沒有光線，則表不模殼6放置的位置 精確，位于托盤2的正中心，當(dāng)澆注腔3下降時，澆注腔3的內(nèi)壁不會與與模殼碰撞。
【權(quán)利要求】
1. 一種渦輪熔模鑄造真空澆注裝置，它包括機架（1 )，所述機架（1)上設(shè)置有托盤（2)， 所述托盤（2)上方設(shè)置有可上下移動的澆注腔（3)，其特征在于所述托盤（2)左側(cè)的機架 (1)上設(shè)置有向右的紅外線探頭（4)，所述托盤（2)右的機架（1)上設(shè)置有擋板（5)。
【文檔編號】B22D18/06GK104096819SQ201310126757
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年4月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月12日
【發(fā)明者】劉惠明 申請人:江陰鑫寶利金屬制品有限公司