專利名稱：一種工件離子鍍清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種清洗裝置，特別是一種エ件離子鍍清洗裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，表面處理技術(shù)已經(jīng)越來越成熟。為了使エ件的使用壽命更長，并提高其物理特性，人們發(fā)明了電鍍技木，エ件經(jīng)過電鍍處理后具有防腐蝕的特性，更能夠提高其耐磨性、導電性、反光性等特性。電鍍技術(shù)目前已經(jīng)非常成熟，并被廣泛應(yīng)用。但是隨機科技水平的不斷提高，電鍍已經(jīng)無法滿足人們的需求，為了使エ件具有更好的物理特性，人們研發(fā)了離子鍍。エ件經(jīng)過離子鍍后的物理特性遠遠優(yōu)于電鍍エ件的物理特性，但是目前離子鍍的技術(shù)還在不斷發(fā)展改進中。由于離子鍍對エ件表面的清潔度要求非常高，因此需要經(jīng)過多種清洗液進行清洗才能夠保證鍍膜質(zhì)量，其中包括在除油粉溶液中超聲波清洗，在除油粉溶液中超聲波清洗后需要將エ件表面的除油粉溶液清洗干凈，傳統(tǒng)的做法是設(shè)置三個裝滿去離子水的水槽，先在第一個水槽中漂洗，漂洗后再將エ件放到第二和第三個水槽中潤洗，但是由于三個水槽為獨立設(shè)置，為了保證清洗效率三個水槽中的去離子水需要不停的更換，這樣非常浪費清洗液，而且清洗效率很低。目前還沒有一種專門用于エ件離子鍍的預(yù)處理清洗設(shè)備。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在干，提供一種エ件離子鍍清洗裝置，它能夠有效去除エ件表面的殘余溶液，還能夠有效節(jié)省清洗液，提高清洗效率。另外還具有簡化設(shè)備結(jié)構(gòu)、降低設(shè)備生產(chǎn)成本的優(yōu)點。本實用新型的技術(shù)方案一種エ件離子鍍清洗裝置，包括一體式設(shè)計的漂洗槽、A潤洗槽和B潤洗槽，它們的底部均通過連接管與排污管連接；漂洗槽與A潤洗槽之間設(shè)有公共壁A，A潤洗槽與B潤洗槽之間設(shè)有公共壁B，公共壁A的上部設(shè)有排水ロ A，公共壁B的上部設(shè)有排水ロ B ；B潤洗槽內(nèi)設(shè)有供液管。采用這種結(jié)構(gòu)可以簡化設(shè)備結(jié)構(gòu)，降低設(shè)備的制造成本。前述的這種エ件離子鍍清洗裝置中，排水ロ B的高度高于排水ロ A的高度。采用這種結(jié)構(gòu)可以使B潤洗槽內(nèi)的清洗液流到A潤洗槽內(nèi)進行再利用，A潤洗槽內(nèi)的清洗液可以流到漂洗槽內(nèi)進行再利用，起到節(jié)省清洗液的作用，另外還能降低清洗成本。前述的這種エ件離子鍍清洗裝置中，排水ロ B和排水ロ A的形狀均為長方形。前述的這種エ件離子鍍清洗裝置中，漂洗槽、A潤洗槽、B潤洗槽的底部均為錐形；他們的頂部均設(shè)有上蓋和定位支架。在清洗エ件時，可以將エ件支架牢牢地固定在清洗槽上，非常便于エ件支架的取、放。前述的這種エ件離子鍍清洗裝置中，每根連接管上均設(shè)有閥門。這樣在清洗槽體的時候可以獨立清洗，無需將所有清洗槽內(nèi)的清洗液全部放出，節(jié)省資源。前述的這種エ件離子鍍清洗裝置中，供液管上設(shè)有球閥。[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實用新型采用一體式連通的水槽，使裝置的結(jié)構(gòu)得到了極大的簡化，降低了設(shè)備的制造成本。由于在公共壁上開有排水口，可以使B潤洗槽內(nèi)的水流到A潤洗槽內(nèi)進行再利用，A潤洗槽內(nèi)的水可以流到漂洗槽內(nèi)進行再利用，起到節(jié)省清洗液的作用，另外還能降低清洗成本。由于漂洗槽、A潤洗槽、B潤洗槽的底部均為錐形，在清洗槽體時，可以快速并徹底的將槽體內(nèi)的清洗液排出，使清洗工作變得非常簡單。由于設(shè)置了定位支架在清洗工件時，可以將工件支架牢牢地固定在清洗槽上，非常便于工件支架的取、放?！?br>
圖I是本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型的半剖結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中的標記為I-漂洗槽，2-A潤洗槽，3-B潤洗槽，4-連接管，5_排污管，6_公共壁A，7-公共壁B，8-排水口 A，9-排水口 B，10-供液管，11-閥門，12-球閥，13-上蓋，14-定位支架。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明，但并不作為對本實用新型限制的依據(jù)。本實用新型的實施例一種工件離子鍍清洗裝置，如圖I和圖2所示，包括一體式設(shè)計的漂洗槽1、A潤洗槽2和B潤洗槽3，它們的底部均通過連接管4與排污管5連接；漂洗槽I與A潤洗槽2之間設(shè)有公共壁A6，A潤洗槽2與B潤洗槽3之間設(shè)有公共壁B7，公共壁A6的上部設(shè)有排水口 AS，公共壁B7的上部設(shè)有排水口 B9 ；B潤洗槽3內(nèi)設(shè)有供液管10。排水口 B9的高度高于排水口 A8的高度。排水口 B9和排水口 A8的形狀均為長方形。漂洗槽I、A潤洗槽2、B潤洗槽3的底部均為錐形；他們的頂部均設(shè)有上蓋13和定位支架14。每根連接管4上均設(shè)有閥門11。供液管10上設(shè)有球閥12。本實用新型的使用方法當工件在除油粉溶液中清洗后，將工件放入盛有電導率在0. 8以下的去離子水的漂洗槽I中進行漂洗，漂洗時間為2S，然后將漂洗后的工件放置在盛有電導率在0. 8以下的去離子水的A潤洗槽2內(nèi)進行第一次潤洗，潤洗時間為3S ;第一次潤洗后將工件放置在盛有電導率在0. 8以下的去離子水溶液的B潤洗槽3內(nèi)進行第二次潤洗，潤洗時間為3S ;第二次潤洗完畢后將工件取出。B潤洗槽3內(nèi)的供液管10不斷的送入干凈的去離子水，使用后的去離子水通過排水口 B9流入A潤洗槽2，A潤洗槽2內(nèi)上層的去離子水通過排水口 A8流入漂洗槽I內(nèi)。當需要將漂洗槽I、A潤洗槽2和B潤洗槽3內(nèi)的去離子水排出時，只需打連接管4上的閥門11即可。
權(quán)利要求1.一種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在于包括一體式設(shè)計的漂洗槽(1)、A潤洗槽(2)和B潤洗槽(3)，它們的底部均通過連接管⑷與排污管(5)連接；漂洗槽⑴與A潤洗槽(2)之間設(shè)有公共壁A (6)，A潤洗槽⑵與B潤洗槽(3)之間設(shè)有公共壁B (7)，公共壁A (6)的上部設(shè)有排水ロ A (8)，公共壁B (7)的上部設(shè)有排水ロ B (9) ；B潤洗槽(3)內(nèi)設(shè)有供液管(10)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在干排水ロB (9)的高度高于排水ロ A(8)的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的ー種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在于排水ロB(9)和排水ロ A(S)的形狀均為長方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2或3所述的ー種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在于漂洗槽(I)、A潤洗槽(2)、B潤洗槽(3)的底部均為錐形；他們的頂部均設(shè)有上蓋(13)和定位支架(14)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的ー種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在于每根連接管(4)上均設(shè)有閥門(11)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ー種エ件離子鍍清洗裝置，其特征在于供液管(10)上設(shè)有球閥(12)。
專利摘要本實用新型公開了一種工件離子鍍清洗裝置，包括一體式設(shè)計的漂洗槽(1)、A潤洗槽(2)和B潤洗槽(3)，它們的底部均通過連接管(4)與排污管(5)連接；漂洗槽(1)與A潤洗槽(2)之間設(shè)有公共壁A(6)，A潤洗槽(2)與B潤洗槽(3)之間設(shè)有公共壁B(7)，公共壁A(6)的上部設(shè)有排水口A(8)，公共壁B(7)的上部設(shè)有排水口B(9)；B潤洗槽(3)內(nèi)設(shè)有供液管(10)。本實用新型能夠有效去除工件表面的殘余溶液，還能夠有效節(jié)省水資源，提高清洗效率。另外還具有簡化設(shè)備結(jié)構(gòu)、降低設(shè)備生產(chǎn)成本的優(yōu)點。
文檔編號C23C14/02GK202643820SQ20122010693
公開日2013年1月2日 申請日期2012年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月20日
發(fā)明者文曉斌, 欒亞 申請人:文曉斌