一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含：氮氣輸送管道，該氮氣輸送管道分別連接外部的氮氣源與拋光墊研磨盤；氣閥，該氣閥設(shè)置在氮氣輸送管道上。本發(fā)明能夠控制氮氣的開關(guān)，并與拋光墊研磨盤的工作進(jìn)程同步；減少了氮氣的使用量，大大節(jié)約了生產(chǎn)成本，顯著提高了經(jīng)濟(jì)效益。
【專利說明】一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及ー種氣體輸送裝置，特別涉及一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中，拋光墊研磨盤(pad conditioner)單元是化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(Mirra-mesa)的組成部分，而拋光墊研磨盤單元通常使用氮氣清掃來防止研磨液(slurry)殘留阻塞拋光墊研磨盤的研磨頭。在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)?shù)獨廨斔瓦^來時，并沒有閥門控制其開關(guān)，因此，氮氣總是在往拋光墊研磨盤輸送。可是，當(dāng)拋光墊研磨盤僅僅在工作時才需要氮氣，當(dāng)拋光墊研磨盤不工作并回到清洗水盤后，此時是不需要氮氣的，這就造成了氮氣的浪費，增加了生產(chǎn)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，能夠控制氮氣的開關(guān)，并與拋光墊研磨盤的工作進(jìn)程同步；減少了氮氣的使用量，大大節(jié)約了生產(chǎn)成本，顯著提高了經(jīng)濟(jì)效益。
[0004]為了實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含:
氮氣輸送管道，所述的氮氣輸送管道分別連接外部的氮氣源與平臺調(diào)節(jié)器；
氣閥，所述的氣閥設(shè)置在氮氣輸送管道上。
[0005]所述的氣閥設(shè)置在氮氣輸送管道與拋光墊研磨盤之間。
[0006]還包含:氣路接頭，所述的氣路接頭分別通過管路與外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)以及氣閥相連；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)供氣從而打開研磨液供給系統(tǒng)的閥門開始輸送研磨液，氣路接頭則將導(dǎo)通研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)的部分氣體傳送到氣閥，氣閥打開；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)停止供氣從而關(guān)閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥關(guān)閉。
[0007]所述的氣路接頭為三通接頭，當(dāng)開通控制研磨液供給系統(tǒng)的氣體經(jīng)過所述的三通接頭，部分氣體進(jìn)入氣閥以導(dǎo)通氣閥。
[0008]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點:
1、能夠控制氮氣的開關(guān)，并與拋光墊研磨盤的工作進(jìn)程同步；
2、減少了氮氣的使用量，大大節(jié)約了生產(chǎn)成本，顯著提高了經(jīng)濟(jì)效益。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】[0010]以下結(jié)合附圖，通過詳細(xì)說明ー個較佳的具體實施例，對本發(fā)明做進(jìn)ー步闡述。
[0011]如圖1所示，一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含:氮氣輸送管道1、氣閥
2。其中，氮氣輸送管道I分別連接外部的氮氣源與拋光墊研磨盤；氣閥2設(shè)置在氮氣輸送管道I上，在本實施例中，優(yōu)選氣閥2設(shè)置在氮氣輸送管道I和拋光墊研磨盤之間，可以相對靠近拋光墊研磨盤。
[0012]如圖1所示，還包含:氣路接頭3，其分別通過管路與外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)以及氣閥2相連；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)供氣，打開研磨液供給系統(tǒng)的閥門，從而開始輸送研磨液，氣路接頭3則將導(dǎo)通研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)的部分氣體傳送到氣閥2，氣閥2打開；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)停止供氣，從而關(guān)閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥2關(guān)閉。在本實施例中，氣路接頭3選用三通接頭，當(dāng)開通研磨液供給系統(tǒng)的控制氣體經(jīng)過三通接頭時，該三通接頭的其中一路即分出部分氣體進(jìn)入氣閥2以導(dǎo)通該氣閥2，從而實現(xiàn)研磨液供給系統(tǒng)與氮氣輸送系統(tǒng)同歩。
[0013]當(dāng)使用時，由于研磨液供給系統(tǒng)輸送研磨液的同時，拋光墊研磨盤也開始工作，并需要輸送氮氣，此吋，由于氣路接頭3的存在，其將接收到的控制研磨液供給系統(tǒng)的控制氣體分出部分給氣閥2，氣閥2打開，向拋光墊研磨盤中輸入氮氣，從而防止研磨液殘留堵塞拋光墊研磨盤的研磨頭；當(dāng)拋光墊研磨盤不再工作，研磨液供給系統(tǒng)不再輸送研磨液時，沒有控制氣體通過氣路接頭3，氣閥2關(guān)閉氮氣輸送通道，不再輸送氮氣，使得生產(chǎn)過程中不再浪費氮氣，大大節(jié)約了生產(chǎn)成本，減少了不必要的浪費，顯著地提高了經(jīng)濟(jì)效益。
[0014]當(dāng)然，在實際生產(chǎn)過程中，化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺中可能有多個拋光墊研磨盤，則需要多個氮氣輸送管道I以及研磨液供給系統(tǒng)，從而相應(yīng)的分別設(shè)置有對應(yīng)的氣閥2以及氣路接頭3，以滿足多個拋光墊研磨盤的需要。
[0015]綜上所述，本發(fā)明ー種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置能夠控制氮氣的開關(guān)，并與拋光墊研磨盤的工作進(jìn)程同歩；減少了氮氣的使用量，大大節(jié)約了生產(chǎn)成本，顯著提高了經(jīng)濟(jì)效益。
[0016]盡管本發(fā)明的內(nèi)容已經(jīng)通過上述優(yōu)選實施例作了詳細(xì)介紹，但應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到上述的描述不應(yīng)被認(rèn)為是對本發(fā)明的限制。在本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀了上述內(nèi)容后，對于本發(fā)明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求來限定。
【權(quán)利要求】
1.一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，包含: 氮氣輸送管道(I)，所述的氮氣輸送管道(I)分別連接外部的氮氣源與平臺調(diào)節(jié)器； 氣閥(2)，所述的氣閥(2)設(shè)置在氮氣輸送管道(I)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，所述的氣閥(2 )設(shè)置在氮氣輸送管道(I)與拋光墊研磨盤之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，還包含:氣路接頭(3)，所述的氣路接頭(3)分別通過管路與外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)以及氣閥(2)相連；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)供氣從而打開研磨液供給系統(tǒng)的閥門開始輸送研磨液，氣路接頭(3)則將導(dǎo)通研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)的部分氣體傳送到氣閥(2)，氣閥(2)打開；當(dāng)外部的研磨液供給系統(tǒng)的氣控系統(tǒng)停止供氣從而關(guān)閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥(2)關(guān)閉。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，所述的氣路接頭(3)為三通接頭，當(dāng)開通控制研磨液供給系統(tǒng)的氣體經(jīng)過所述的三通接頭，部分氣體進(jìn)入氣閥(2)以導(dǎo)通氣閥(2)。
【文檔編號】B24B37/34GK103522171SQ201210231300
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2012年7月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月5日
【發(fā)明者】邵爾劍 申請人:上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司