專利名稱：裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過使柔性基底的表面經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的相繼表面反應(yīng)而處理基底的表面的裝置，特別是涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的裝置。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)的多種類型的裝置中，根據(jù)原子層沉積方法(ALD)的原理，噴嘴頭用于使基底的表面經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的相繼表面反應(yīng)。在ALD應(yīng)用中，在分開的階段中典型地將兩種氣態(tài)前驅(qū)物引入ALD反應(yīng)器中。氣態(tài)前驅(qū)物與基底的表面有效地進行反應(yīng)，從而形成單層原子層沉積。典型地，在前驅(qū)物階段之后跟隨著清除階段，或者前驅(qū)物階段與清除階段分開，該清除階段在分別引入其它前驅(qū)物之前從基底表面上去除過多的前驅(qū)物。因此，ALD過程需要前驅(qū)物流到基底表面的相繼交替的流量。該交替的表面反應(yīng)的重復(fù)次序和介于其間的清除階段是一種典型的ALD沉積循環(huán)?，F(xiàn)有技術(shù)的ALD裝置通常包括噴嘴頭，該噴嘴頭具有:一個或多個用于使基底的表面經(jīng)受第一前驅(qū)物作用的第一前驅(qū)物區(qū)域；一個或多個用于使基底的表面經(jīng)受第二前驅(qū)物作用的第二前驅(qū)物區(qū)域；以及一個或多個設(shè)置在第一前驅(qū)物區(qū)域與第二前驅(qū)物區(qū)域之間以用于使基底的表面經(jīng)受清除氣體作用的清除氣體區(qū)域。下述區(qū)域相繼交替地設(shè)置到噴嘴頭中:第一前驅(qū)物區(qū)域、清除氣體區(qū)域、第二前驅(qū)物區(qū)域、清除氣體區(qū)域、第一前驅(qū)物區(qū)域、清除氣體區(qū)域、第二前驅(qū)物區(qū)域等。因此，根據(jù)ALD方法的原理，當噴嘴頭在基底表面上移動時，在基底的表面上產(chǎn)生生長層。噴嘴頭也可包括排放通道，這些排放通道設(shè)置在第一前驅(qū)物區(qū)域與第二前驅(qū)物區(qū)域之間或者在第一前驅(qū)物區(qū)域與清除氣體區(qū)域之間或者在第二前驅(qū)物區(qū)域與清除氣體區(qū)域之間。排放通道設(shè)置成在基底的表面受前驅(qū)物和清除氣體作用之后排放前驅(qū)物和清除氣體?？商娲?，這些現(xiàn)有技術(shù)的前驅(qū)物區(qū)域和清除氣體區(qū)域中的每一個包括:用于供應(yīng)前驅(qū)物或清除氣體的至少一個入口端口 ；和用于排放前驅(qū)物或清除氣體的至少一個出口端口。因此，在基底經(jīng)受前驅(qū)物或清除氣體的作用之后，對每一個用于排放前驅(qū)物的區(qū)域或用于排放清除氣體的區(qū)域提供抽吸作用。由于在一次ALD循環(huán)期間在基底的表面上產(chǎn)生僅僅一層原子層，噴嘴頭形成為包括多個第一區(qū)域和第二區(qū)域，以使得利用噴嘴頭在基底的表面上方進行單次掃描在基底的表面上方形成多層原子層。利用噴嘴頭的單次掃描可通過使噴嘴頭或基底移動而完成。在現(xiàn)有技術(shù)中，利用快速行進機構(gòu)使噴嘴頭來回移動來增加噴嘴頭的掃描次數(shù)，用于進行在基底的表面上方的多次掃描。用于產(chǎn)生多層原子層的現(xiàn)有技術(shù)方法的缺點在于:來回運動產(chǎn)生很大的機械作用力，且噴嘴頭必須承受該機械作用力。當噴嘴頭已停止于極限位置并且被再次加速時，該作用力特別大。所以，該裝置和噴嘴頭易于損壞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種裝置以解決如上所提到的現(xiàn)有技術(shù)的問題。本發(fā)明的目的通過根據(jù)權(quán)利要求1的特征部分所述的裝置而實現(xiàn)，該裝置的特征在于:設(shè)備的傳輸機構(gòu)設(shè)置用于將基底導(dǎo)引至傳輸表面和從傳輸表面導(dǎo)引出。在從屬權(quán)利要求中描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例。本發(fā)明基于下述構(gòu)想:提供一種裝置，中空筒形噴嘴頭在內(nèi)筒體表面上具有輸出面，傳輸表面與筒形噴嘴頭的輸出面相符，以使得柔性基底的條或幅材可在輸出面與傳輸表面之間的間隙(傳輸路徑)中傳輸或?qū)б约皬脑搨鬏斅窂街袀鬏敾驅(qū)б?。換言之，傳輸機構(gòu)設(shè)置用于將柔性的細長基底導(dǎo)引至傳輸表面和從傳輸表面導(dǎo)引出。在一個實施例中，柔性基底可從第一基底輥供應(yīng)和導(dǎo)引至傳輸表面，以及可將柔性基底從傳輸表面供應(yīng)和導(dǎo)引至第二基底輥。該裝置進一步設(shè)置成使得當基底沿著輸出面與傳輸表面之間的傳輸路徑傳輸時，根據(jù)原子層沉積原理，可通過使柔性基底的表面經(jīng)受相繼表面反應(yīng)而處理柔性基底。傳輸機構(gòu)設(shè)置用于將基底傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體的中心軸線的傳輸表面。該裝置優(yōu)選包括具有傳輸筒體的傳輸機構(gòu)，該傳輸筒體包括開口，用于將基底傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體的中心軸線的傳輸表面。傳輸筒體可以是具有開口的中空筒體，所述開口位于傳輸筒體的筒體罩中，以用于將基底傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體的中心軸線的傳輸表面。傳輸筒體在外筒體表面上設(shè)有傳輸表面，用于沿著傳輸筒體的外表面?zhèn)鬏敾?。此夕卜，噴嘴頭筒體在內(nèi)筒體表面上設(shè)有輸出面，用于使基底的表面經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的表面反應(yīng)。噴嘴頭筒體圍繞傳輸筒體設(shè)置，以使得傳輸表面和輸出面彼此相對，用于通過將基底沿著傳輸表面?zhèn)鬏敹幚砘椎谋砻妗１景l(fā)明具有的優(yōu)點在于提供一種能夠利用轉(zhuǎn)動運動使柔性基底的表面經(jīng)受前驅(qū)物作用的裝置。在本發(fā)明中，柔性基底和噴嘴二者都可設(shè)置成利用轉(zhuǎn)動運動。與噴嘴頭的來回移動相比，轉(zhuǎn)動運動減小該裝置所經(jīng)受的應(yīng)力和作用力。因為轉(zhuǎn)動運動能夠使得噴嘴頭具有較高運動速度，因而本發(fā)明也可提供有效涂布。再者，由于沿筒形路徑而不是傳統(tǒng)水平路徑引導(dǎo)基底，因此本發(fā)明提高底板區(qū)域的使用率。本發(fā)明還提供了一種裝置，在該裝置中，可將基底供應(yīng)至圓形傳輸路徑，該圓形傳輸路徑均勻地基本垂直于筒體形噴嘴頭的中心軸線。


下面將參照附圖結(jié)合優(yōu)選實施例來更詳細地描述本發(fā)明，在附圖中:圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的裝置的一個實施例的示意圖。
具體實施例方式圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明裝置的一個實施例。該裝置包括一個設(shè)置在另一個內(nèi)部的兩個筒體8、2。內(nèi)筒體是傳輸筒體8,該傳輸筒體具有內(nèi)表面和外表面。傳輸筒體8的外表面是傳輸表面3，柔性基底6沿著傳輸表面3進行導(dǎo)引，以使得基底6經(jīng)過筒形路徑。該裝置進一步包括外筒體2,該外筒體2形成為噴嘴頭筒體2,該噴嘴頭筒體2用于供應(yīng)前驅(qū)物，以使得基底6的表面4經(jīng)受前驅(qū)物的相繼表面反應(yīng)。如圖1所示，噴嘴頭筒體2圍繞傳輸筒體8設(shè)置以用于傳輸和處理傳輸筒體8與噴嘴頭筒體2之間的基底6。因此,在傳輸筒體8與噴嘴頭筒體2之間有間隙，基底6設(shè)置成在傳輸筒體8與噴嘴頭筒體2之間的間隙內(nèi)、在至少部分筒形或圓形傳輸路徑中進行傳輸。噴嘴頭筒體2可包括氣體連接件，這些氣體連接件相對于噴嘴頭筒體2的中心軸線軸向設(shè)置或同軸設(shè)置，以用于供應(yīng)和/或排放處理氣體。噴嘴頭筒體2還可包括底部(未示出)，該底部可用于設(shè)置相對于噴嘴頭筒體2的中心軸線軸向設(shè)置或同軸設(shè)置的氣體連接件。柔性基底6可以是可沿圓形路徑進行導(dǎo)引的任何細長且柔性的基底。在本文中，基底表示其本身或者裝在細長且柔性的基底載體上的粉末狀、顆粒狀或單獨的部件或?qū)ο?。所使用的前?qū)物可包括適用于原子層沉積的任何前驅(qū)物，諸如臭氧、三甲基鋁(TMA)、水、四氯化鈦(TiCl4)、二乙基鋅(DEZ)，或者前驅(qū)物也可以是等離子體，諸如氨(NH3)、氬(Ar)、氧(02)、氮(N2)、氫(H2)或二氧化碳(CO2)等離子體。用于噴嘴頭筒體2中的清除氣體可包括惰性氣體，諸如氮氣、干空氣或任何其它適用于在原子層沉積中用作清除氣體的氣體。等離子體也可用于清除作業(yè)，例如氮或氬等離子體。在本文中，清除氣體和前驅(qū)物也包括等離子體。根據(jù)圖1，該裝置包括傳輸機構(gòu)和至少一個噴嘴頭筒體2,傳輸機構(gòu)包括用于傳輸基底6的傳輸筒體8，噴嘴頭筒體2具有兩個或更多個用于使基底6的表面4經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物作用的前驅(qū)物區(qū)域14、16。如上所提到的，傳輸筒體8在外筒體表面上設(shè)有傳輸表面3,用于使基底6沿著傳輸筒體8的外表面?zhèn)鬏?。相?yīng)地，噴嘴頭筒體2在內(nèi)筒體表面上設(shè)有輸出面5，用于使基底6的表面4經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的表面反應(yīng)。如圖1所示，噴嘴頭筒體2圍繞傳輸筒體8設(shè)置，以使得傳輸表面3和輸出面5彼此相對，用于通過使基底6沿著傳輸表面3傳輸而處理基底6的表面4。在傳輸表面3與輸出面5之間設(shè)有間隙。該間隙形成傳輸路徑，基底6沿著該傳輸路徑在傳輸筒體8與噴嘴頭筒體2之間傳輸。所以,在傳輸表面3和輸出面5之間形成反應(yīng)空間。于是,基底6沿著用于反應(yīng)空間的傳輸表面3、基底表面 4和輸出面5移動。該裝置的傳輸機構(gòu)優(yōu)選包括提供給傳輸表面3的一個或多個傳輸元件，該一個或多個傳輸兀件用于導(dǎo)引基底6沿著傳輸表面3移動以及加速基底6的移動。在圖1的實施例中，傳輸元件形成為傳輸滾輪10，這些傳輸滾輪10大致沿著噴嘴頭筒體2和傳輸筒體8的中心軸線方向延伸。傳輸滾輪10可以是自由轉(zhuǎn)動的滾輪或從動滾輪。傳輸元件也可以例如是輸送帶或滑動表面。如圖1所示，該裝置包括第一基底輥20和第二基底輥22?；?可從第一基底輥20供應(yīng)至位于噴嘴頭筒體2與傳輸筒體8之間的傳輸路徑以進行處理，以及基底6可從傳輸路徑供應(yīng)至第二基底輥22?；?也可以以相同方式進一步從第二基底輥22供應(yīng)至第一基底輥20。而且，基底6可被兩次或更多次驅(qū)動通過第一基底輥20與第二基底輥22之間的傳輸路徑。第一基底輥20和第二基底輥22可被驅(qū)動成使得它們提供作用力以使基底6移動通過傳輸路徑。應(yīng)注意的是，噴嘴頭筒體2和傳輸筒體8可以是裝置的一部分，或它們可以是可連接至該裝置的單獨部件。第一基底輥20和第二基底輥22也可由用于對基底6進行儲存、供應(yīng)和接收的某些其它類型的容器取代。該裝置的傳輸機構(gòu)進一步包括導(dǎo)引元件，用于將基底6導(dǎo)引至位于傳輸筒體8或傳輸表面3與噴嘴頭筒體2之間的傳輸路徑，以及從傳輸路徑或傳輸表面3導(dǎo)引出。在圖1的實施例中，導(dǎo)引元件包括一個或多個導(dǎo)引滾輪24、26、28、30，用于將基底6導(dǎo)引至傳輸表面3或從傳輸表面3導(dǎo)引出。在圖1中，導(dǎo)引滾輪24、26設(shè)置用于將基底6導(dǎo)引至為傳輸筒體8設(shè)置的開口 32以及導(dǎo)引傳輸表面3中的第一傳輸滾輪28。開口 32穿過中空傳輸筒體8的壁且沿著傳輸筒體8的中心軸線方向延伸。最后的傳輸滾輪30和第二基底棍22設(shè)置成使得基底6可從傳輸表面3直接導(dǎo)引至第二基底輥22。然而，應(yīng)注意的是，導(dǎo)引元件、導(dǎo)引滾輪24、26、28、30、第一基底輥20和第二基底輥22也可以按不同方式設(shè)置，并且本發(fā)明并不受限于導(dǎo)引元件、導(dǎo)引滾輪24、26、28、30、第一基底輥20和第二基底輥22的配置。因此，傳輸機構(gòu)可包括一個或多個導(dǎo)引滾輪、導(dǎo)引表面或其它用于將基底6導(dǎo)引至傳輸表面3以及從傳輸表面3導(dǎo)引出的導(dǎo)引兀件。如從圖1可看出的，基底6在筒體之間的傳輸路徑接近360度，僅僅開口 32的寬度從整個圓中排除。然而，筒體與傳輸機構(gòu)之間的傳輸路徑也可設(shè)置成沿著傳輸表面3傳輸基底6至少180度，優(yōu)選至少270度以及更優(yōu)選至少330度。應(yīng)注意的是，在圖1中，傳輸筒體8顯示為具有切除部分32的中空筒體32。因此，開口可以為90度或甚至180度。在本文中，術(shù)語傳輸筒體包括所有這些替代方式。因此，傳輸筒體8也可以僅僅是筒體的一部分，諸如:筒體或筒體的筒形壁的270度或180度。因此，傳輸筒體可包括僅僅是筒形壁的一部分的傳輸表面。還應(yīng)注意的是，開口不必如同圖1中一樣地切出，而是開口也可以是形成于傳輸筒體的罩中的孔。開口 32能夠?qū)⒒?傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體2的中心軸線的傳輸表面3。圖1還示出了噴嘴頭筒體2的詳細剖視圖。噴嘴頭筒體2在內(nèi)表面上且在輸出面5上按下述次序相繼地包括:清除氣體區(qū)域13、前驅(qū)物區(qū)域14、16和排放區(qū)域11，它們可選地重復(fù)多次。清除氣體區(qū)域13、前驅(qū)物區(qū)域14、16和排放區(qū)域11沿著噴嘴頭筒體2的圓周方向相繼交替地設(shè)置。如圖1所示，噴嘴頭筒體2在輸出面5上按下述次序相繼地包括:第一前驅(qū)物區(qū)域14、排放區(qū)域11、清除氣體區(qū)域13、第二前驅(qū)物區(qū)域16、排放區(qū)域11和清除氣體區(qū)域13，它們可選地重復(fù)多次。經(jīng)由第一前驅(qū)物區(qū)域14和第二前驅(qū)物區(qū)域16供應(yīng)前驅(qū)物以使基底的表面經(jīng)受前驅(qū)物的表面反應(yīng)。利用吸取或真空將清除氣體供應(yīng)至清除氣體區(qū)域13中以及利用排放區(qū)域11排放前驅(qū)物。如圖1所示，第一前驅(qū)物區(qū)域14和第二前驅(qū)物區(qū)域16可形成為大致沿著噴嘴頭筒體2的中心軸線方向延伸的通道或切口或類似物。在一個可替代的實施例中，多條通道14、16、11、13可設(shè)置成相對于噴嘴頭筒體2的中心軸線方向成角度地延伸，通道14、16、11、13和中心軸線之間的角度可以例如是I度至10度。第一前驅(qū)物區(qū)域14和第二前驅(qū)物區(qū)域1`6也可由設(shè)置用于供應(yīng)前驅(qū)物的前驅(qū)物噴嘴來提供。圖1的配置沿著第一前驅(qū)物區(qū)域14、第二前驅(qū)物區(qū)域16和清除氣體區(qū)域13的整個長度提供了均勻氣體流，還沿著排放區(qū)域11提供了均勻排放。所以，第一前驅(qū)物區(qū)域14和第二前驅(qū)物區(qū)域16可設(shè)置為前驅(qū)物噴嘴14、16，從而沿著前驅(qū)物區(qū)域的整個長度供應(yīng)前驅(qū)物。清除氣體區(qū)域13也可設(shè)置為清除氣體噴嘴，從而沿著清除氣體區(qū)域的整個長度供應(yīng)清除氣體，并且排放區(qū)域11設(shè)置用于沿著排放區(qū)域的整個長度排放前驅(qū)物和清除氣體。在一個可替代的實施例中，輸出面沿著噴嘴頭筒體2的周邊方向按下述次序相繼地設(shè)置有:第一前驅(qū)物區(qū)域14、清除氣體區(qū)域13、第二前驅(qū)物區(qū)域16和清除氣體區(qū)域13，可選地重復(fù)多次。在本實施例中，第一前驅(qū)物區(qū)域14設(shè)有至少一個用于供應(yīng)第一前驅(qū)物的第一入口端口和至少一個用于排放第一前驅(qū)物的第一出口端口，第二前驅(qū)物區(qū)域16設(shè)有至少一個用于供應(yīng)第二前驅(qū)物的第二入口端口和至少一個用于排放第二前驅(qū)物的第二出口端口，并且清除氣體區(qū)域13設(shè)有至少一個用于供應(yīng)清除氣體的第三入口端口。清除氣體區(qū)域13也可包括一個或多個第三出口端口，或可替代地清除氣體可經(jīng)由前驅(qū)物區(qū)域的出口端口排放。入口端口可例如位于縱長的前驅(qū)物通道和清除氣體通道的一個端部，而出口端口可位于前驅(qū)物通道或清除氣體通道的另一端部，以使得前驅(qū)物和清除氣體可沿著這些通道流動。可替代地，入口端口可基本上位于通道的中間，而出口端口可位于通道的相對端部。如圖1所示，當基底6沿著傳輸筒體8與噴嘴頭筒體2之間的傳輸路徑傳輸時，面向噴嘴頭筒體2的輸出面5的基底表面4經(jīng)受前驅(qū)物區(qū)域的相繼交替作用。應(yīng)注意的是，輸出面5可包括兩個或更多個前驅(qū)物區(qū)域，但優(yōu)選輸出面5包括若干個前驅(qū)物區(qū)域，以使得當基底6傳輸通過噴嘴頭筒體2與傳輸筒體8之間的傳輸路徑時，在基底6的表面4上可形成若干個生長層。通過使噴嘴頭筒體2繞著噴嘴頭筒體2的中心軸線轉(zhuǎn)動可進一步提高該裝置的涂布能力。因此，該裝置可包括用于使噴嘴頭筒體2繞著噴嘴頭筒體2的中心軸線轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動機構(gòu)(未不出)。轉(zhuǎn)動機構(gòu)可設(shè)置成使噴嘴頭筒體2沿著傳輸表面3在基底6的傳輸方向上轉(zhuǎn)動，或者使噴嘴頭筒體2沿著傳輸表面3在相對于基底6的傳輸方向相反的方向上轉(zhuǎn)動。當噴嘴頭筒體2在基底6的傳輸方向上沿著傳輸表面3轉(zhuǎn)動時，噴嘴頭筒體2應(yīng)以高于基底6的傳輸速度的速度轉(zhuǎn)動。在基底沿著傳輸路徑移動期間，轉(zhuǎn)動的噴嘴頭筒體2使得基底的表面4多次經(jīng)受前驅(qū)物區(qū)域14、16的作用。因此，當基底6傳輸通過傳輸路徑一次時，可提供多個生長層。前驅(qū)物和清除氣體可經(jīng)由流體連接件而供應(yīng)至噴嘴頭2。可替代地，噴嘴頭2設(shè)有一個或多個用于前驅(qū)物和/或清除氣體的容器、瓶或類似物，以使得如果噴嘴頭移動的話，則前驅(qū)物和/或清除氣體與噴嘴頭一起移動。該配置減小連接至移動的噴嘴頭2的難以滿足的流體連接件的數(shù)量。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說顯而易見的是，由于本發(fā)明的技術(shù)優(yōu)點，本發(fā)明的構(gòu)思可采用各種方式來實施。本發(fā)明及其實施例并不受限于上述示例，而是在各項權(quán)利要求的范圍內(nèi)可進行更改。`
權(quán)利要求
1.一種用于處理柔性的基底(6)的表面(4)的裝置，通過使基底(6)的表面(4)經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的相繼表面反應(yīng)而進行所述處理，所述裝置包括: 至少一個噴嘴頭(2)，所述至少一個噴嘴頭包括兩個或更多個用于使基底(6)的表面(4)經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物作用的前驅(qū)物區(qū)域(14、16);和 用于傳輸基底(6)的傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)； 噴嘴頭形成為噴嘴頭筒體(2)，所述噴嘴頭筒體在內(nèi)筒體表面上設(shè)有輸出面(5)，用于使基底(6)的表面(4)經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物的表面反應(yīng)；以及 傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)包括傳輸表面(3)，所述傳輸表面與噴嘴頭筒體(2)的輸出面(5)至少部分相符,用于在輸出面(5)與傳輸表面(3)之間傳輸基底(6)； 其特征在于:傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10 )設(shè)置用于將基底(6 )導(dǎo)引至傳輸表面(3)以及從傳輸表面(3)導(dǎo)引出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)包括至少部分筒形的傳輸筒體(8)，傳輸筒體具有所述傳輸表面(3)，所述傳輸表面在外筒體表面上且設(shè)置在噴嘴頭筒體(2)的內(nèi)部，用于在傳輸筒體(8)與噴嘴頭筒體(2)之間傳輸和處理基底(6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或 2所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)設(shè)置用于將基底(6)傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體(2)的中心軸線的傳輸表面(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其中，傳輸筒體(8)包括開口( 32 )，用于將基底(6 )傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體(2 )的中心軸線的傳輸表面(3 )。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，傳輸筒體(8)是具有所述開口(32)的中空筒體，開口(32)位于傳輸筒體(8)的筒體罩中，以用于將基底(6)傳輸至基本垂直于噴嘴頭筒體(2 )的中心軸線的傳輸表面(3 )。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的裝置，其中，傳輸表面(3)設(shè)有一個或多個用于沿著傳輸表面(3)導(dǎo)引基底(6)的傳輸兀件(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中，傳輸元件包括傳輸滾輪(10)、輸送帶或滑動表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)包括一個或多個用于將基底(6)導(dǎo)引至傳輸表面(3)的導(dǎo)引兀件(24、26、28、30)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，導(dǎo)引元件包括一個或多個導(dǎo)引滾輪(24、26、28、30)或桿,用于將基底(6)導(dǎo)引至傳輸表面(3)和從傳輸表面(3)導(dǎo)引出。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)包括第一基底輥(20)和第二基底輥(22 )，基底(6 )能夠在第一基底輥和第二基底輥(20、22 )之間傳輸，以使得在第一基底輥和第二基底輥(20、22)之間處理基底(6)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的裝置，其中，噴嘴頭筒體(2)設(shè)有沿著噴嘴頭筒體(2)的圓周方向相繼交替地設(shè)置的一個或多個第一前驅(qū)物區(qū)域(14)和一個或多個第二前驅(qū)物區(qū)域(16)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，噴嘴頭筒體(2)在輸出面(5)上按以下次序相繼地包括:清除氣體區(qū)域(13)、前驅(qū)物區(qū)域(14、16)和排放區(qū)域(11)，可選地重復(fù)多次。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的裝置，其中，噴嘴頭筒體(2)在輸出面(5)上按以下次序相繼地包括:第一前驅(qū)物區(qū)域(14)、排放區(qū)域(11)、清除氣體區(qū)域(13)、第二前驅(qū)物區(qū)域(16)、排放區(qū)域(11)和清除氣體區(qū)域(13)，可選地重復(fù)多次。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，輸出面(5)按以下次序相繼地設(shè)有:第一前驅(qū)物區(qū)域(14)、清除氣體區(qū)域(13)、第二前驅(qū)物區(qū)域(16)和清除氣體區(qū)域(13)，可選地重復(fù)多次。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置，其中，第一前驅(qū)物區(qū)域(14)設(shè)有至少一個用于供應(yīng)第一前驅(qū)物的入口端口和至少一個用于排放第一前驅(qū)物的出口端口，第二前驅(qū)物區(qū)域(16)設(shè)有至少一個用于供應(yīng)第二前驅(qū)物的入口端口和至少一個用于排放第二前驅(qū)物的出口端口，并且清除氣體區(qū)域(13)設(shè)有至少一個用于供應(yīng)清除氣體的入口端口。
16.根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項所述的裝置，其中，前驅(qū)物區(qū)域(14、16)由通道形成，所述通道大致沿著噴嘴頭筒體(2)的中心軸線方向延伸，或者所述通道相對于噴嘴頭筒體(2)的中心軸線方向成角度地延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求1至16中任一項所述的裝置，其中，所述裝置包括轉(zhuǎn)動機構(gòu)，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)用于使噴嘴頭筒體(2)或傳輸筒體(8)繞著噴嘴頭筒體(2)的中心軸線轉(zhuǎn)動。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)設(shè)置成使噴嘴頭筒體(2)或傳輸筒體(8 )沿著傳輸表面(3 )在基底(6 )的傳輸方向上轉(zhuǎn)動，或者使噴嘴頭筒體(2 )或傳輸筒體(8)沿著傳輸表面(3)在相對于基底(6)的傳輸方向相反的方向上轉(zhuǎn)動。
19.根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一項所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)設(shè)置成沿著傳輸表面(3)傳輸基底(6)至少270度。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中，傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)設(shè)置成沿著傳輸表面(3 )傳 輸基底(6 )至少330度。
21.根據(jù)權(quán)利要求1至20中任一項所述的裝置，其中，噴嘴頭筒體(2)包括用于供應(yīng)和/或排放處理氣體的氣體連接件，所述氣體連接件相對于噴嘴頭筒體(2)的中心軸線軸向設(shè)置或同軸設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于處理柔性基底(6)的表面(4)的裝置。該裝置包括用于傳輸基底(6)的傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)；和至少一個噴嘴頭(2)，所述至少一個噴嘴頭包括兩個或更多個用于使基底(6)的表面(4)經(jīng)受至少第一前驅(qū)物和第二前驅(qū)物作用的前驅(qū)物區(qū)域(14、16)。根據(jù)本發(fā)明，傳輸機構(gòu)(20、22、24、26、28、30、8、10)包括傳輸筒體(8)，并且噴嘴頭形成為圍繞著傳輸筒體(8)設(shè)置的噴嘴頭筒體(2)，用于在傳輸筒體(8)與噴嘴頭筒體(2)之間傳輸和處理基底(6)。
文檔編號C23C16/54GK103108985SQ201180041755
公開日2013年5月15日 申請日期2011年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月30日
發(fā)明者J·辛科 申請人:Beneq有限公司