專利名稱：一種裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種裝置，其通過使一撓性基板的表面受至少第一前體及第二前體的連續(xù)表面反應(yīng)而對基板的表面進行處理，特別是根據(jù)權(quán)利要求第I項地前序所述的裝置。
現(xiàn)有技術(shù)在已知技術(shù)的數(shù)種裝置類型中，根據(jù)原子層沉積(atomic layer depositionmethod, ALD)的原理是利用這些裝置及噴嘴頭使基板的表面受至少第一前體及第二前體的連續(xù)表面反應(yīng)而對基板的表面進行處理。在ALD應(yīng)用中，一般是經(jīng)由分開階段將兩氣體前體引入ALD反應(yīng)器中。氣體前體有效地與基板的表面進行反應(yīng)，以形成單一原子層之沉積。一般而言，前體階段是緊接在沖洗階段之后或與沖洗階段分開的方式進行，在引入其它不同前體之前是需通過前體階段去除基板表面上的過量前體。因此，ALD工藝需要依序交替方式使復(fù)數(shù)前體流動至基板表面。此重復(fù)的交替表面反應(yīng)順序及介于其間之沖洗階段即為一般ALD沉積循環(huán)。已知技術(shù)中的ALD裝置通常包括一噴嘴頭，此噴嘴頭具有使基板的表面受第一前體的作用的一個或多個第一前體區(qū)域、具有使基板的表面受第二前體的作用的一個或多個第二前體區(qū)域，以及具有使基板的表面受·一沖洗氣體的作用的一個或多個沖洗氣體區(qū)域或具有使基板的表面受一沖洗氣體的作用且設(shè)置于第一前體區(qū)域及第二前體區(qū)域之間的一個或多個沖洗氣體區(qū)域。噴嘴頭中的復(fù)數(shù)區(qū)域是以連續(xù)交替方式設(shè)置:第一前體區(qū)域、沖洗氣體區(qū)域、第二前體區(qū)域、沖洗氣體區(qū)域、第一前體區(qū)域、沖洗氣體區(qū)域、第二前體區(qū)域等等。因此，當(dāng)噴嘴頭于基板的表面上移動時，依照ALD方法可在基板的表面上制作生長層。噴嘴頭還可包括排放通道，這些排放通道可設(shè)置于第一前體區(qū)域及第二前體區(qū)域之間或在第一前體區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域之間或在第二前體區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域之間。在基板的表面經(jīng)受前體作用之后，利用排放通道對于前體及沖洗氣體進行排放?？商娲?，各已知技術(shù)中的前體區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域包括用于供應(yīng)前體或沖洗氣體的至少一個入口端口及用于排放前體或沖洗氣體的至少一個出口端口。因此，在基板的表面受前體的作用后，利用各前體區(qū)域及各沖洗氣體區(qū)域所提供之吸取作用對于前體或沖洗氣體進行排放。由于再一次ALD循環(huán)期間僅能在基板的表面上制作單一原子層，在通過具有復(fù)數(shù)第一區(qū)域及第二區(qū)域之噴嘴頭的作用下，噴嘴頭對基板的表面進行單次掃描便可在基板的表面上形成復(fù)數(shù)原子層，并且噴嘴頭的單次掃描是可經(jīng)由噴嘴頭或基板得運動而達成。在已知技術(shù)中，利用一運動機構(gòu)對于噴嘴頭進行快速前后線性移動可增加噴嘴頭的掃描次數(shù)，以便對基板的表面多次掃描。然而，以上用于制作復(fù)數(shù)原子層的已知技術(shù)的缺點在于其運動機構(gòu)的前后一拿點過程中產(chǎn)生大的機械力且噴嘴頭必須抵抗此機械力，運動機構(gòu)對已停止于結(jié)束位置的噴嘴頭再次加速移動所產(chǎn)生機械力更是特別的大。因此，利用馬達對于噴嘴頭進行加速、減速作業(yè)時容易造成裝置及噴嘴頭的損壞。此外，在結(jié)束位置之間之噴嘴頭的前后振蕩方式是需要一再地對于噴嘴頭進行加速，如此將耗費相當(dāng)多的能量。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種裝置，由此以解決上述已知技術(shù)的問題。依照權(quán)利要求第I項之裝置的特征部分以達成本發(fā)明的目的，其特征在利用運動機構(gòu)對于噴嘴頭在振蕩搖擺中所釋放的的至少部分動能進行儲存。附屬項中對于本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行說明。本發(fā)明的構(gòu)想在于提供具有一噴嘴之一種裝置，通過噴嘴使基板的表面受至少第一前體及第二前體的表面反應(yīng)。本發(fā)明的裝置還包括一運動機構(gòu)，由此可在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間以振蕩方式使噴嘴頭運動。這意味著噴嘴頭朝第一方向移動，直到噴嘴頭抵達第一結(jié)束位置為止；隨后，噴嘴頭朝第二方向移動，直到噴嘴頭抵達第二結(jié)束位置為止。在正常情況下，當(dāng)噴嘴頭遠離第一結(jié)束位置時是以加速方式進行，隨后當(dāng)噴嘴頭接近第二結(jié)束位置時是以減速方式進行，并且在噴嘴頭再次加速朝向第一結(jié)束位置運動之前，噴嘴頭停止于第二結(jié)束位置。在減速期間，噴嘴頭的動能降低，能量便由噴嘴頭釋放。本發(fā)明的裝置所包括的運動機構(gòu)可在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間以振蕩運動方式使噴嘴頭運動。根據(jù)本發(fā)明的運動機構(gòu)用以對噴嘴頭的振蕩中所釋放的至少部分動能進行儲存，這意味著運動機構(gòu)對于當(dāng)噴嘴頭接近第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置時的減速過程中所釋放的噴嘴頭的至少部分動能進行儲存。在本發(fā)明的某些應(yīng)用中，當(dāng)噴嘴頭接近一結(jié)束位置時的減速過程中所釋 放的動能是以另一能量型式進行儲存或轉(zhuǎn)換。換言之，通過儲存或轉(zhuǎn)換噴嘴頭的動能而對于噴嘴頭進行減速。噴嘴頭的動能可儲存為勢能，例如:重力勢能、彈簧勢能或壓力介質(zhì)的勢能?？商娲?，噴嘴頭的動能可儲存為電能或磁能。噴嘴頭的動能還可儲存至動能元件，例如:一飛輪。儲存或轉(zhuǎn)換之噴嘴頭的動能可對于同一噴嘴頭或其它噴嘴頭進行加速?？商娲?，儲存或轉(zhuǎn)換之噴嘴頭的動能可有其它使用目的或甚至供應(yīng)至電氣網(wǎng)絡(luò)。本發(fā)明所提供之一裝置的優(yōu)點在于其具有低能量消耗之一移動噴嘴頭。此外，因噴嘴頭之移動而作用在本發(fā)明的裝置的應(yīng)力及力量可被減少。通過將噴嘴頭的動能儲存或轉(zhuǎn)換為另一型式能量的方式對于噴嘴頭進行減速時，噴嘴頭進行減速作業(yè)可在平滑方式下進行。因此，在噴嘴頭進行減速過程中不會形成應(yīng)力峰值。

以下將配合附圖針對本發(fā)明的相關(guān)的優(yōu)選實施例進行詳述。圖1是根據(jù)本發(fā)明的裝置的一個實施例的示意圖；以及圖2是根據(jù)本發(fā)明的裝置的另一實施例的示意圖。
具體實施方式
圖1是表示本發(fā)明的裝置的一個實施例的示意圖。本發(fā)明的裝置包括具有圓形或圓柱形外表面46的輸送圓柱24。本發(fā)明的裝置還可僅包括一個或兩個以上的輸送圓柱24。輸送圓柱24可以是靜止的，或者這些輸送圓柱24可交替地繞其中心軸線42進行旋轉(zhuǎn)。如圖1所示，基板6沿著輸送路徑進行輸送，如此使基板6沿著輸送圓柱24的至少部分的外表面46進行輸送。在圖1中，基板6自第一基板滾輪20供應(yīng)至輸送圓柱24且進一步供應(yīng)至第二基板滾輪22。第一基板滾輪20、第二基板滾輪22還可由用于供應(yīng)、接收和儲存對細長基板6的其它某些種類的容器所取代。撓性基板6可以是任何細長和撓性基板。然而，本發(fā)明不受限為任何類型的基板，基板及移動噴嘴頭可以是任何類型。在本說明書中，基板指基板本身或者安裝在細長的和撓性的基板載體或其它基板載體之上的粉末狀、粒子狀或分開的部件或?qū)ο?。所使用的前體可包括任何適用于原子層沉積的任何前體，例如:臭氧(ozone)、三甲基鋁(trimethylaluminium, TMA)、水、四氯化鈦(TiCl4)、二乙基鋅(diethylzinc, DEZ)，或前體還可以是等離子體，例如:氨(NH3)、氬(Ar)、氧(O2)、氮(N2)、氫(H2)或二氧化碳(CO2)等離子體。在噴嘴頭圓柱2內(nèi)所使用的沖洗氣體可包括惰性氣體，例如:氮氣、干燥空氣或適用于在原子層沉積中作為沖洗氣體的其它氣體。等離子體還可用于進行沖洗作業(yè)，例如:氮或氬等離子體。于本說明書中，沖洗氣體及前體還可以是等離子體。如圖1所不,在輸送圓柱24的外表面46上以大約180度對于基板6進行輸送。然而，應(yīng)注意，還可以45度或大于45度對于基板進行輸送，優(yōu)選為90度或甚至是以至少270度或大于270度的扇形下沿著輸送圓柱24的外表面46對于基板進行輸送。通過以與基板6的輸送速度相同的速度使輸送圓柱24旋轉(zhuǎn)，基板6可沿著輸送圓柱24的外表面46進行輸送?？商娲?，在輸送圓柱24的外表面46具有滑動表面，基板6以滑動方式沿著輸送圓柱24的外表面46進行輸送。在可替代實施例中，輸送圓柱24的外表面46具有一個或多個輸送元件(未圖示)，利用輸送元件導(dǎo)引基板6沿著輸送圓柱24的外表面46移動且加強基板6在輸送圓柱24的外表面46的運動。輸送兀件可形成為輸送滾輪，這些輸送滾輪基本沿著輸送圓柱24的中心軸線進行延伸，并且這些輸送滾輪可以是自由旋轉(zhuǎn)滾輪或被動滾輪。舉例而言，輸送元件可以是繞在輸送圓柱24的外表面46旋轉(zhuǎn)的輸送帶。應(yīng)注意，本說明書中的圓柱形圓柱或圓柱形表面還可以是略呈錐圓柱。換言之，例如圓柱還可在其中間處具有可對于基板6進行導(dǎo)引的窄部。本發(fā)明的裝置還具有噴嘴頭40，噴嘴頭40以與輸送圓柱24有關(guān)的方式進行設(shè)置。然而，利用與輸送圓柱24有關(guān)的兩個或兩個以上的噴嘴頭40也是可行的，該兩個或兩個以上之噴嘴頭40以彼此平行或串連方式進行設(shè)置，換言之，兩個或兩個以上之噴嘴頭40彼此相鄰或相繼。噴嘴頭40包括輸出面5，處理氣體經(jīng)由噴嘴頭40的輸出面5進行供給及排放。本說明書中的輸出面5表不噴嘴頭40的朝向基板6的表面。輸出面5也表不朝向基板6的包括處理氣體噴嘴及排放通道的部分表面，并且經(jīng)由流體連接而將前體及沖洗氣體供給至噴嘴頭40?？商娲兀瑖娮祛^40具有一個或多個前體及/或沖洗氣體容器、瓶或類似物，使得在噴嘴頭40運動時前體及/或沖洗氣體一起運動。該配置減少連接至移動中的噴嘴頭40之需高度技術(shù)流體連接件之?dāng)?shù)量。如圖1所不,所形成的噴嘴頭40的輸出面5符合圓柱形表面的一部分,也就是說噴嘴頭40的輸出面5形成為從圓柱形表面所切割的一凹面或一弧面。此外,輸出面5還可定位于輸送表面46的上方或在輸送表面46之上。因此,所形成的噴嘴頭40的輸出面5基本符合輸送圓柱24的輸送表面46。這意味著使噴嘴頭40的輸出面5及輸送圓柱24的輸送表面46優(yōu)選具有基本相同的形狀。噴嘴頭40被定位成使得在噴嘴頭40的輸出面5及輸送圓柱24的輸送表面46之間具有一間隙,細長基板6經(jīng)由噴嘴頭40的輸出面5及輸送圓柱24的輸送表面46之間所形成的間隙中進行輸送。 因此，當(dāng)基板6在輸送圓柱24的輸送表面46之上進行輸送時,在基板6及噴嘴頭40的輸出面5之間一起形成一表面空間。在優(yōu)選實施例中，噴嘴頭40的輸出面5被定位成沿著輸送圓柱24的輸送表面46的長度與輸送圓柱24的輸送表面46之間保持基本恒定的距離。如此一來，輸送圓柱24具有一第一半徑，并且噴嘴頭40的輸出面5具有一第二半徑，其中，第二半徑大于第一半徑。因此，噴嘴頭40的輸出面5與輸送圓柱24的輸送表面46被同軸地設(shè)置，以便在輸送圓柱24的輸送表面46及噴嘴頭40的輸出面5之間提供基本恒定的距離。如圖1所示，噴嘴頭40的輸出面5被配置為對沿著輸送圓柱24的輸送表面46的基本整個扇形上所輸送的基板6進行處理。在可替代實施例中，噴嘴頭40的輸出面5被配置為僅對沿著輸送圓柱24的輸送表面46的部分扇形上所輸送的基板6進行處理。本發(fā)明的裝置包括運動機構(gòu)，此運動機構(gòu)相對于輸送圓柱24使至少一個噴嘴頭運動。如圖1所示，運動機構(gòu)在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間，繞輸送圓柱24的中心軸線42使噴嘴頭2以振蕩搖擺方式運動。噴嘴頭40設(shè)置在桿件44的端部，運動機構(gòu)形成擺錘，由此可在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間對噴嘴頭40進行搖擺。如圖1所示，當(dāng)噴嘴頭40以振蕩運動方式運動時，噴嘴頭40位于最低點時是具有最大動能。當(dāng)噴嘴頭40朝向第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置運動時，噴嘴頭40的動能會降低；當(dāng)噴嘴頭40經(jīng)由圖1所示位置沿著輸送圓柱24的輸送表面46向上移動時，噴嘴頭40的重力勢能會增加。因此，噴嘴頭40的至少部分動能儲藏成重力勢能。當(dāng)噴嘴頭40抵達第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置且停止時，噴嘴頭40的動能為零，但噴嘴頭40的重力勢能具有最大值。隨后，噴嘴頭40自第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置開始運動，噴嘴頭40的重力勢能降低且其動能增加，直到噴嘴頭40再次抵達圖1所示位置為止。因此，在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之噴嘴頭2之搖擺作用下，擺錘將噴嘴頭2的至少部分動能儲存為重力勢能。如圖1所示，噴嘴頭40形成擺錘的重量。在可替代實施例中，噴嘴頭40連接分開的重量，通過分開的重量提供噴嘴頭40的搖擺。因此，噴嘴頭40通過擺錘運動以距離輸送圓柱46的外表面基本恒定的距離運動。馬達可連接于噴嘴頭40或運動機構(gòu)，通過馬達維持?jǐn)[錘運動。根據(jù)上述說明可知， 運動機構(gòu)配置為對噴嘴頭40的振蕩中所釋放的至少部分動能進行儲存，并且具體是運動機構(gòu)對于當(dāng)噴嘴頭40接近第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置時的減速過程中所釋放的噴嘴頭40的至少部分動能進行儲存。運動機構(gòu)被配置為利用其儲存的動能進一步使噴嘴頭40或另一噴嘴運動?？商娲兀瑑Υ娴膭幽苓\用于本發(fā)明的裝置中或本發(fā)明的裝置外的其它目的。此外，需注意的是，噴嘴頭40的部分動能還可儲存為或轉(zhuǎn)換成彈性勢能，例如彈簧或壓力介質(zhì)的勢能。舉例而言，壓力介質(zhì)可以是氣體空間，當(dāng)噴嘴頭40接近第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置時的氣體空間是處于被壓縮狀態(tài)。噴嘴頭的部分動能還可儲存為或轉(zhuǎn)換成電勢能或磁勢能。舉例而言，磁勢能可用于對噴嘴頭40及噴嘴頭移動的結(jié)束位置提供具有相同極性的磁極。圖2是表示本發(fā)明的裝置的一個實施例的示意圖。用于處理至少部分圓柱狀表面的裝置包括一噴嘴頭2。在圖2中，噴嘴頭2為具有中心軸線且基本圓形的周邊壁的中空圓柱,并且周邊壁具有內(nèi)表面及外表面。在圖2的實施例中，噴嘴頭2的周邊壁的內(nèi)表面為噴嘴頭2的輸出面，經(jīng)由噴嘴頭2的輸出面對前體進行供應(yīng)，使基板的表面經(jīng)受前體的作用。如圖2所示，噴嘴頭2用于處理圓柱狀基板6的外表面4，使圓柱狀基板6可運動通過中空噴嘴頭2。第一前體及第二前體可以是應(yīng)用在原子層沉積的任何氣態(tài)前體。此外，等離子體還可用以作為前體。沖洗氣體可以是某些惰性氣體(例如:氮氣、等離子體或類似物)。前體、沖洗氣體可經(jīng)由流體連接件而供給至噴嘴頭2?？商娲兀瑖娮祛^2具有一個或多個前體及/或沖洗氣體容器、瓶或類似物，使前體及/或沖洗氣體可與噴嘴頭2同時移動，由此配置可減少連接至一移動噴嘴頭2的較難得術(shù)流體連接件的數(shù)量。圓柱狀噴嘴頭2的輸出面具有一個或多個第一前體區(qū)域14及一個或多個第二前體區(qū)域16，通過第一前體區(qū)域14使圓柱狀基板6的外表面4經(jīng)受第一前體所的作用，并且通過第二前體區(qū)域16使圓柱狀基板6的外表面4經(jīng)受第二前體的作用。如圖2所示，噴嘴頭2包括兩個第一前體區(qū)域14及兩個第二前體區(qū)域16，兩個第一前體區(qū)域14及兩個第二前體區(qū)域16沿著噴嘴頭2的周邊壁且沿著輸出面連續(xù)交替設(shè)置。當(dāng)圓柱狀基板6沿著圖2中所示的箭頭12繞縱軸進行旋轉(zhuǎn)時，使基板6的外表面4可經(jīng)受第一前體區(qū)域14及第二前體區(qū)域16中的第一前體及第二前體的作用。噴嘴頭2還可繞圓柱形噴嘴頭2的中心軸線旋轉(zhuǎn)。圖2的實施例的裝置包括一運動機構(gòu)，運動機構(gòu)用于在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間使噴嘴頭2以振蕩運動方式繞中心軸線進行旋轉(zhuǎn)。運動機構(gòu)包括一個或多個彈簧，當(dāng)噴嘴頭2移動接近第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置時，彈簧產(chǎn)生壓縮；當(dāng)噴嘴頭2移動遠離第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置時，彈簧產(chǎn)生解壓縮。在圖2中的噴嘴頭2可進行45度或大于45度之旋轉(zhuǎn)，優(yōu)選為180度或大于180度或甚至是超過360度。如上所述，圖2的實施例的噴嘴頭2的動能還可替代地儲存成勢能。此外，噴嘴頭2的動能可儲存為動能元件(未圖標(biāo))的動能。動能元件可以是一飛輪或某些其它旋轉(zhuǎn)元件或移動組件。在可替代實施例中，運動機構(gòu)以傳統(tǒng)線性振蕩方式使噴嘴投在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間運動。噴嘴頭可包括平面狀輸出面，平面狀輸出面用于使基板的表面經(jīng)受至少第一前體及第二前體的作用。運動機構(gòu)配置成通過前后振蕩運動使噴嘴頭運動且將噴嘴頭的線性移動的至少部分動能轉(zhuǎn)換成彈簧或壓力介質(zhì)的勢能或?qū)娮祛^的動能儲存至旋轉(zhuǎn)元件或一飛輪的動能。上述噴嘴頭的輸出面上連續(xù)包括以下順序:可選擇地重復(fù)多次的沖洗氣體區(qū)域、前體區(qū)域及排放區(qū)域。沖洗氣體區(qū)域、`前體區(qū)域及排放區(qū)域沿著噴嘴頭2的周邊進行連續(xù)交替設(shè)置。噴嘴頭在輸出面上以以下順序相繼包括:可選擇地重復(fù)多次的第一前體區(qū)域、排放區(qū)域、沖洗氣體區(qū)域、第二前體區(qū)域、排放區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域。前體經(jīng)由前體區(qū)域進行供給，通過前體對一表面進行表面反應(yīng)。沖洗氣體供應(yīng)至沖洗氣體區(qū)域，并且前體利用吸取或真空方式經(jīng)由排放區(qū)域進行排放。前體區(qū)域可形成為在基本相同方向延伸的復(fù)數(shù)個通道。上述配置提供沿著前體區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域的整個長度的均勻氣體流動且提供沿著排放區(qū)域進行氣體的均勻排放。因此，前體區(qū)域14、16可提供作為前體噴嘴，通過前體噴嘴沿著前體區(qū)域的整個長度進行前體之供給。沖洗氣體區(qū)域還可設(shè)置為沖洗氣體噴嘴，所述沖洗氣體噴嘴通過沖洗氣體噴嘴沿著沖洗氣體區(qū)域的整個長度進行沖洗氣體之供給，并且排放區(qū)域用于沿著排放區(qū)域的整個長度進行前體及沖洗氣體之排放。在可替代實施例中，以以下順序相繼沿著噴嘴頭的周邊提供輸出面:可選擇地重復(fù)多次的第一前體區(qū)域、沖洗區(qū)域、第二前體區(qū)域及沖洗氣體區(qū)域。在本實施例中，第一前體區(qū)域具有用于供應(yīng)第一前體的至少一個第一入口端口及用于排放第一前體的至少一個第一出口端口，第二前體區(qū)域具有用于供應(yīng)第二前體的至少一個第二入口端口及用于排放第二前體的至少一個第二出口端口，并且沖洗區(qū)域具有用于供應(yīng)沖洗氣體的至少一個第三入口端口。沖洗氣體區(qū)域還可包括一個或多個第三出口端口或可替代地將沖洗氣體經(jīng)由前體區(qū)域之出口端口進行排放。舉例而言，入口端口可位于縱長前體通道及沖洗氣體通道的一個端部，并且出口端口可位于前體通道或沖洗氣體通道的另一端部，如此使前體及沖洗氣體可沿著通道流動。可替代地，入口端口可位于通道的中間，并且出口端口可位于通道的相對端部。因為本發(fā)明的技術(shù)優(yōu)點，本發(fā)明的概念可經(jīng)由各種方式加以實施,這對本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。本發(fā)明及其實施例不被限制于上述實施例，可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)變 動。
權(quán)利要求
1.一種裝置，其通過使基板￠)的表面(4)經(jīng)受至少第一前體及第二前體的連續(xù)表面反應(yīng)而對該基板￠)的該表面(4)進行處理，該裝置包括: 至少一個噴嘴頭(2，40)，其包括兩個或更多個前體區(qū)域(14，16)，該前體區(qū)域用于使該基板￠)的該表面(4)經(jīng)受至少該第一前體及該第二前體的作用；以及 運動機構(gòu)(42，44)，其使該噴嘴頭(2，40)在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間以振蕩運動方式運動； 其特征在于: 該運動機構(gòu)(42，44)被配置成儲存該噴嘴頭(2，40)的振蕩運動中所釋放的該噴嘴頭(2，40)的至少部分動能。
2.如權(quán)利要求第I項所述之裝置，其特征在于至少部分該運動機構(gòu)(42，44)被配置成儲存當(dāng)該噴嘴頭(2，40)接近該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置時在該噴嘴頭減速中釋放的噴嘴頭(2，40)的至少部分動能。
3.如權(quán)利要求第I或2項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分動能儲存為勢能。
4.如權(quán)利要求第3項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分動能在該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置的至少一個中儲存為重力勢能。
5.如權(quán)利要求第3項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分動能在該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置的至少一個中儲存為彈性勢能。
6.如權(quán)利要求第5項所述 之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分動能儲存為彈簧或壓力介質(zhì)的勢能。
7.如權(quán)利要求第3項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分動能在該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置的至少一個中儲存為電勢能。
8.如權(quán)利要求第7項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的動能儲存為磁勢能。
9.如權(quán)利要求第I或2項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)的至少部分作為動能儲存至動能元件。
10.如權(quán)利要求第11項所述之裝置，其特征在于該動能元件為飛輪或旋轉(zhuǎn)元件。
11.如權(quán)利要求第I至8項中任一項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)包括擺錘(40，42，44)，該擺錘使該噴嘴頭(40)在該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置之間搖擺。
12.如權(quán)利要求第11項所述之裝置，其特征在于該擺錘配置為在該噴嘴頭(2)的搖擺運動的結(jié)束位置處將該噴嘴頭(40)的至少部分動能儲存為重力勢能。
13.如權(quán)利要求第11或12項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(40)形成該擺錘(42，44)的重量，或分開的重量連接于該噴嘴頭(40)以提供該噴嘴頭(40)的搖擺運動。
14.如權(quán)利要求第11至13項中任一項所述之裝置，其特征在于該裝置包括具有外表面的輸送圓柱(46)，撓性細長基板(6)沿著該輸送圓柱的外表面進行輸送，該噴嘴頭(40)配置成通過擺錘運動在距離該輸送圓柱(46)的外表面的基本恒定距離處運動。
15.如權(quán)利要求第I至10項中任一項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)配置成通過該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置之間的振蕩旋轉(zhuǎn)運動使該噴嘴頭(2)繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
16.如權(quán)利要求第15項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)形成為具有中心軸線及在距離中心軸線恒定距離處的基本圓形的周邊的圓柱形噴嘴頭，并且該運動機構(gòu)配置成通過該第一結(jié)束位置及該第二結(jié)束位置之間的振蕩旋轉(zhuǎn)運動使該噴嘴頭(2)繞該噴嘴頭(2)的中心軸線旋轉(zhuǎn)。
17.如權(quán)利要求第15或16項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)配置成在該噴嘴頭(2)的旋轉(zhuǎn)運動的結(jié)束位置處將該噴嘴頭(2)的至少部分旋轉(zhuǎn)動能儲存為彈簧或壓力介質(zhì)的勢能。
18.如權(quán)利要求第15或16項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)將該噴嘴頭(2)的至少部分旋轉(zhuǎn)動能儲存入旋轉(zhuǎn)元件或飛輪的動能中。
19.如權(quán)利要求第I至10項中任一項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)配置成使該噴嘴頭(2)在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間以線形振蕩運動方式運動。
20.如權(quán)利要求第19項所述之裝置，其特征在于該噴嘴頭(2)包括平面狀輸出面，該平面狀輸出面用于使該基板(6)的表面(4)經(jīng)受至少該第一前體及該第二前體的作用，并且該運動機構(gòu)配置成通過前后振蕩運動使該噴嘴頭(2)運動。
21.如權(quán)利要求第19或20項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)配置成將該噴嘴頭(2)的線性運動的至少部分動能轉(zhuǎn)換成彈簧或壓力介質(zhì)的勢能或旋轉(zhuǎn)元件或飛輪的動能。
22.如權(quán)利要求第I至21項中任一項所述之裝置，其特征在于該運動機構(gòu)(42，44)配置成利用該儲存動能進一步使一個或多個噴嘴頭(2，40)運動。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種裝置，其通過使基板(6)的表面(4)經(jīng)受至少第一前體及第二前體的連續(xù)表面反應(yīng)而對基板(6)的表面(4)進行處理。本發(fā)明的裝置包括至少一個噴嘴頭(2,40)及運動機構(gòu)(42,44)。噴嘴頭(2,40)包括兩個或更多個前體區(qū)域(14,16)，用于使基板(6)之表面(4)經(jīng)受至少第一前體及第二前體的作用。運動機構(gòu)(42,44)在第一結(jié)束位置及第二結(jié)束位置之間以振蕩運動方式使噴嘴頭(2,40)運動。根據(jù)本發(fā)明所述，噴嘴頭(2,40)的振蕩中所釋放的噴嘴頭(2,40)的至少部分動能由運動機構(gòu)(42,44)儲存。
文檔編號C23C16/455GK103237921SQ201180041749
公開日2013年8月7日 申請日期2011年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月30日
發(fā)明者T·阿拉薩雷拉, P·索伊尼寧 申請人:Beneq有限公司