專利名稱：研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器等中使用的FPD (Flat Panel Display 平板顯示器)用的玻璃基板通過被稱為浮法法的玻璃制法將熔融玻璃成形為板狀，并通過專利文獻(xiàn)1等公開的連續(xù)式的研磨裝置對(duì)其表面的微小的凹凸及起伏進(jìn)行研磨而除去，從而制造出滿足所要求的平面度的薄板作為FPD用的玻璃基板。在此種連續(xù)式研磨裝置中，通常如專利文獻(xiàn)2所記載那樣，利用進(jìn)行自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)的研磨墊對(duì)玻璃板進(jìn)行研磨。專利文獻(xiàn)1 日本國特開2007-190657號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本國特開2001-293656號(hào)公報(bào)上述的研磨裝置使用漿液對(duì)玻璃板的表面(以下稱為被研磨面)進(jìn)行研磨。漿液從在研磨墊的中央部設(shè)置的漿液供給孔向研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面之間供給。 供給到研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面之間的漿液的量在研磨面上不均勻時(shí)，被研磨的玻璃板的被研磨面的平面度變差。因此，供給的漿液需要均勻地遍布研磨面。然而，玻璃板隨著升級(jí)換代而其尺寸增大，伴隨于此，研磨墊也大型化。伴隨著該研磨墊的大型化，供給的漿液的量在研磨面上的均勻性成為問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于此種情況而作出，其目的在于提供一種改善漿液的流動(dòng)性并使研磨能力在研磨墊的研磨面上均勻，而提高玻璃板的被研磨面的平面度的研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的研磨墊用于研磨玻璃板，具備第一漿液供給孔，該第一漿液供給孔是用于向該研磨墊的研磨面與所述玻璃板的被研磨面之間供給漿液的漿液供給孔，且在該研磨面的中心貫穿該研磨墊，所述研磨面通過從中心朝外側(cè)形成的多個(gè)槽而分割成放射狀。根據(jù)本發(fā)明，由于具備貫穿研磨墊的中心的第一漿液供給孔，并將研磨面通過從中心朝外側(cè)形成的多個(gè)槽而分割成放射狀，因此從第一漿液供給孔供給的漿液流入研磨面上形成的多個(gè)槽，而且通過使研磨墊旋轉(zhuǎn)，而均勻地遍布研磨面的整個(gè)面。因此，能夠使研磨能力在研磨面上均勻并提高玻璃板的被研磨面的平面度。需要說明的是，作為研磨墊，能夠使用圓形的研磨墊或矩形的研磨墊。此外，第一漿液供給孔的位置也可以是研磨墊的大致中心。 另外，優(yōu)選，本發(fā)明的研磨墊具備多個(gè)第二漿液供給孔，所述多個(gè)第二漿液供給孔在從所述研磨面的中心偏離的位置貫穿該研磨墊。 根據(jù)本發(fā)明，通過從在研磨墊的中心設(shè)置的第一漿液供給孔和在偏離中心的位置上設(shè)置的多個(gè)第二漿液供給孔也供給漿液，能夠使?jié){液均勻地遍布研磨面的整個(gè)面，從而能夠使研磨能力在研磨面上均勻。另外，優(yōu)選，本發(fā)明的所述第二漿液供給孔貫穿所述槽的區(qū)域。由此，根據(jù)本發(fā)明， 能夠使研磨能力更均勻。另外，本發(fā)明的所述第二漿液供給孔也可以貫穿由所述槽分割而成的研磨區(qū)域。 由此，根據(jù)本發(fā)明，能夠使研磨能力更均勻。另外，優(yōu)選，本發(fā)明的所述研磨面被實(shí)施網(wǎng)眼狀的槽加工。由此，根據(jù)本發(fā)明，能夠使研磨能力更均勻。另外，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，使用了本發(fā)明的研磨墊的研磨裝置具備研磨墊；使所述研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面抵接并使該研磨墊旋轉(zhuǎn)的單元；及向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液的供給單元，其中，經(jīng)由所述研磨墊的第一漿液供給孔向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液。根據(jù)本發(fā)明，從第一漿液供給孔供給的漿液流入在研磨墊的研磨面形成的多個(gè)槽，而且通過使研磨墊旋轉(zhuǎn)而均勻地遍布研磨面的整個(gè)面，因此，能夠使研磨能力在研磨面上變得均勻并提高玻璃板的被研磨面的平面度。另外，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，使用了本發(fā)明的研磨墊的研磨裝置具備研磨墊；使所述研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面抵接并使該研磨墊旋轉(zhuǎn)的單元；及向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液的供給單元，其中，經(jīng)由所述研磨墊的第一漿液供給孔及第二漿液供給孔向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液。根據(jù)本發(fā)明，由于從在研磨墊的中心設(shè)置的第一漿液供給孔和在偏離中心的位置上設(shè)置的第二漿液供給孔供給漿液，因此能夠使?jié){液均勻地遍布研磨面的整個(gè)面，使研磨能力在研磨面上變得均勻，從而能夠提高玻璃板的被研磨面的平面度。另外，使用了本發(fā)明的研磨墊的研磨裝置具備控制單元，所述控制單元對(duì)從所述第一漿液供給孔供給的漿液的量和從所述第二漿液供給孔供給的漿液的量進(jìn)行控制。根據(jù)本發(fā)明，由于能夠使?jié){液更均勻地遍布研磨面的整個(gè)面，因此能夠使研磨能力在研磨面上變得均勻，從而提高玻璃板的被研磨面的平面度。需要說明的是，所述控制單元優(yōu)選控制成以使從第一漿液供給孔供給的漿液的量和從全部的第二漿液供給孔供給的漿液的總量相等的方式來供給漿液。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置，能夠改善漿液的流動(dòng)性并使研磨能力在研磨面上均勻，從而提高玻璃板的被研磨面的平面度。


圖1是表示玻璃板的研磨裝置的主要部分的圖。圖2 (a)、圖2 (b)、圖2 (c)、圖2 (d)及圖2 (e)是表示研磨墊的研磨面的圖。圖3是表示玻璃板的研磨裝置的主要部分的圖。標(biāo)號(hào)說明1玻璃板IA被研磨面
10、20、30、40、50 研磨墊IOA研磨面12、16 槽14漿液供給孔14a中央漿液供給孔14b周邊漿液供給孔100、101 研磨裝置102工件平臺(tái)104研磨平臺(tái)106旋轉(zhuǎn)軸108漿液供給部
具體實(shí)施例方式以下，根據(jù)附圖，說明本發(fā)明的研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置的優(yōu)選實(shí)施方式。<實(shí)施方式>圖1是表示玻璃板的研磨裝置100的主要部分的圖。研磨裝置100是對(duì)例如 1100mm(寬度)X 1300mm(長(zhǎng)度)以上的尺寸的液晶顯示器用玻璃板進(jìn)行連續(xù)研磨的裝置。研磨裝置100具備保持玻璃板1的工件平臺(tái)102、安裝有研磨墊10的研磨平臺(tái) 104、使研磨平臺(tái)104旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸106、向研磨墊10與玻璃板1之間供給漿液的漿液供給部108。漿液供給部108經(jīng)由旋轉(zhuǎn)接頭(未圖示)與貫穿研磨平臺(tái)104的漿液通路(未圖示)連接。漿液通路與后述的漿液供給孔14連接。工件平臺(tái)102保持被研磨物即玻璃板1并將其沿規(guī)定的方向輸送。研磨平臺(tái)104 在與玻璃板1抵接的位置上安裝有研磨墊10。旋轉(zhuǎn)軸106被支承為以自轉(zhuǎn)軸O1為中心旋轉(zhuǎn)自如，在未圖示的驅(qū)動(dòng)單元的作用下，以自轉(zhuǎn)軸O1為中心進(jìn)行自轉(zhuǎn)，并以公轉(zhuǎn)軸O2為中心進(jìn)行公轉(zhuǎn)。伴隨該旋轉(zhuǎn)軸106的自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)而研磨平臺(tái)104進(jìn)行自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)。在配置于漿液供給部108的外部泵(未圖示)的作用下，漿液供給部108使?jié){液經(jīng)由旋轉(zhuǎn)接頭、漿液通路、以及研磨墊10上設(shè)置的漿液供給孔14，供給到研磨墊10的研磨面IOA與玻璃板1的被研磨面IA之間。作為漿液，使用含有二氧化硅、氧化鈰等研磨粒子的漿液。然后，從玻璃板1的外周部排出的漿液由未圖示的循環(huán)單元回收，在過濾后再次使用。在如此構(gòu)成的研磨裝置100中，對(duì)玻璃板1的被研磨面IA和研磨墊10的研磨面 IOA進(jìn)行按壓，并通過研磨墊10的自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)來研磨玻璃板1的被研磨面1A。此時(shí)，若從漿液供給孔14供給的漿液在玻璃板1的被研磨面IA上不均勻地存在，則研磨墊10無法均勻地研磨玻璃板1，而研磨后的玻璃板1的被研磨面IA的平面度變差。因此，需要使供給的漿液均勻地遍布研磨面IOA的整個(gè)面。圖2 (a)是以往的研磨墊10的研磨面IOA的外觀圖。在此使用圓形的墊作為研磨墊10，但也可以是矩形的墊。
另外，在研磨墊10的中心設(shè)有直徑為20mm的圓形的漿液供給孔14。漿液供給孔 14的直徑并未限定為20mm，但優(yōu)選5 100mm。而且，漿液供給孔14也可以是矩形。也可以對(duì)漿液供給孔14的研磨面IOA側(cè)實(shí)施錐度加工，以使?jié){液容易流出。此外，在研磨墊10的研磨面IOA上實(shí)施寬度2mm、深度1. 5mm、間距寬度20mm的網(wǎng)眼狀的槽12的加工。關(guān)于這些數(shù)值也并未特別限定，而能夠適當(dāng)變更。需要說明的是，優(yōu)選寬度為1 30mm、深度為0. 5 5mm、間距寬度為2 30mm。從漿液供給孔14供給的漿液流入該槽12，而且通過研磨墊10的旋轉(zhuǎn)，而遍布研磨面IOA整個(gè)面。此時(shí)，優(yōu)選均勻地遍布研磨面IOA整個(gè)面，但在如本實(shí)施方式那樣研磨墊 10的尺寸大時(shí)，存在不均勻地遍布的情況。圖2 (b)表示本實(shí)施方式的研磨墊20的研磨面的外觀圖。在研磨墊20的研磨面上設(shè)有與研磨墊10同樣的網(wǎng)眼狀的槽12及漿液供給孔14。此外，在研磨面上，從中心朝外周設(shè)有四個(gè)槽16，研磨面呈放射狀地分割成四個(gè)區(qū)域。該槽16形成為寬度20mm、深度1. 5mm。 換言之，研磨墊20的研磨面由從中心朝外側(cè)形成的多個(gè)槽分割成放射狀，分割后的研磨面再被實(shí)施網(wǎng)眼狀的槽加工。需要說明的是，該槽16只要是寬度為1 30mm、深度為0. 5 5mm艮阿。通過如此構(gòu)成研磨面，而從漿液供給孔14供給的漿液流入槽12及槽16，然后通過研磨墊20的旋轉(zhuǎn)，而遍布研磨面整個(gè)面。通過槽16，能夠比以往的研磨墊10更均勻地使?jié){液遍布。另外，圖2(c)所示的研磨墊30與圖2(b)所示的研磨墊20相比，在設(shè)置有8個(gè)槽 16這一點(diǎn)上不同。如該圖所示，研磨墊30的研磨面由槽16呈放射狀地分割成8個(gè)區(qū)域。如此，也可以增加從中心向外周的槽16的個(gè)數(shù)。需要說明的是，在本實(shí)施方式中，槽12形成為直線的網(wǎng)眼狀，但槽12也可以形成為曲線的網(wǎng)眼狀。此外，也可以從多個(gè)漿液供給孔供給漿液。在圖2(d)所示的研磨墊40的研磨面上，與圖2(b)所示的研磨墊20同樣地設(shè)有網(wǎng)眼狀的槽12及槽16。此外，在研磨墊40的中心，直徑20mm的圓形的中央漿液供給孔14a(第一漿液供給孔)貫穿研磨墊40，在各個(gè)槽 16中，一邊為2mm的矩形(正方形)的周邊漿液供給孔14b (第二漿液供給孔)貫穿研磨墊 40。需要說明的是，中央漿液供給孔14a的直徑為5 IOOmm即可，周邊漿液供給孔14b的一邊為2 IOmm即可。在本實(shí)施方式中，周邊漿液供給孔14b設(shè)置在距研磨墊40的中心為500mm的位置，但該距離適當(dāng)決定即可。而且，周邊漿液供給孔14b的形狀并未限定為矩形，也可以是圓形。圖3表示用于使用研磨墊40的研磨裝置101的主要部分。需要說明的是，對(duì)與圖 1共通的部分附加相同標(biāo)號(hào)，省略其詳細(xì)說明。研磨裝置101的漿液供給部108構(gòu)成為能夠經(jīng)由中央漿液供給孔1 及周邊漿液供給孔14b供給漿液。在研磨裝置101上還可以設(shè)置漿液量調(diào)整部，該漿液量調(diào)整部用于調(diào)整經(jīng)由中央漿液供給孔Ha供給的漿液量和經(jīng)由周邊漿液供給孔14b供給的漿液量。通過使用如上所述構(gòu)成的研磨裝置101，能夠從研磨墊40的中央漿液供給孔Ha 及周邊漿液供給孔14b分別供給所希望的量的漿液。如此，在研磨墊的槽的位置設(shè)置多個(gè)漿液供給孔，并在研磨裝置中經(jīng)由多個(gè)漿液供給孔供給漿液，從而能夠使供給的漿液均勻地遍布研磨面。所述多個(gè)漿液供給孔也可以設(shè)置在與槽16不同的位置。在圖2(e)所示的研磨墊 50的研磨面上，與圖2(d)所示的研磨墊40不同地，2mm見方的矩形(正方形)的周邊漿液供給孔14b設(shè)置在由槽16分隔的研磨區(qū)域上。與研磨墊40同樣地，周邊漿液供給孔14b 設(shè)置在距研磨墊50的中心為500mm的位置，但距中心的距離適當(dāng)決定即可。而且，關(guān)于周邊漿液供給孔14b的一邊的長(zhǎng)度或形狀，只要以容易供給漿液的方式適當(dāng)決定即可。如此，通過在研磨面的區(qū)域上設(shè)置多個(gè)漿液供給孔，也能夠使供給的漿液均勻地遍布研磨面。需要說明的是，周邊漿液供給孔14b的數(shù)目并不局限于四個(gè)。例如，設(shè)置8個(gè)槽16 時(shí)，既可以設(shè)置在各個(gè)槽16的區(qū)域而設(shè)置8個(gè)，也可以在分割成8個(gè)的研磨區(qū)域設(shè)置8個(gè)。 而且，也可以設(shè)置在槽16的區(qū)域和分割成的研磨區(qū)域這雙方。<實(shí)施例>制作圖2所示的各研磨墊的網(wǎng)格模型，對(duì)每個(gè)研磨墊的漿液壓力進(jìn)行了模擬。模擬使用了 CFD(數(shù)值流體力學(xué))軟件，該CFD軟件使用了有限體積法。模擬的條件是，研磨墊的直徑為1690mm，槽12的寬度為2mm，槽12的間距寬度為20mm，槽16的寬度為20mm， 圓形的中央漿液供給孔14a(14)的直徑為20mm，周邊漿液供給孔14b的位置距研磨墊中心為500mm，矩形的周邊漿液供給孔14b的一邊為20mm，墊自轉(zhuǎn)速度為50rpm，墊公轉(zhuǎn)速度為 120rpm，墊公轉(zhuǎn)半徑為75mm，漿液供給量為每分鐘40升。所述條件下的研磨開始9秒后的各研磨墊的漿液壓力(研磨面平均值)的計(jì)算結(jié)果如表1所示。需要說明的是，計(jì)算出的漿液壓力越低，則表示漿液的供給 排出越順利。 即，漿液壓力越低，則表示漿液越均勻地遍布研磨面，而研磨墊的研磨能力越均勻。[表 1]
權(quán)利要求
1.一種研磨墊，用于研磨玻璃板，其中，具備第一漿液供給孔，該第一漿液供給孔是用于向該研磨墊的研磨面與所述玻璃板的被研磨面之間供給漿液的漿液供給孔，且在該研磨面的中心貫穿該研磨墊， 所述研磨面通過從中心朝外側(cè)形成的多個(gè)槽而分割成放射狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中，具備多個(gè)第二漿液供給孔，所述多個(gè)第二漿液供給孔在從所述研磨面的中心偏離的位置貫穿該研磨墊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊，其中， 所述第二漿液供給孔貫穿所述槽的區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊，其中，所述第二漿液供給孔貫穿由所述槽分割而成的研磨區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中， 所述研磨面被實(shí)施網(wǎng)眼狀的槽加工。
6.根據(jù)權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的研磨墊，其中， 所述研磨面被實(shí)施網(wǎng)眼狀的槽加工。
7.一種研磨裝置，具備 研磨墊；使所述研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面抵接并使該研磨墊旋轉(zhuǎn)的單元；及向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液的供給單元，其中， 所述研磨墊是權(quán)利要求1或5所述的研磨墊，經(jīng)由所述研磨墊的第一漿液供給孔向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液。
8.一種研磨裝置，具備 研磨墊；使所述研磨墊的研磨面與玻璃板的被研磨面抵接并使該研磨墊旋轉(zhuǎn)的單元；及向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液的供給單元，其中， 所述研磨墊是權(quán)利要求2 4、6中任一項(xiàng)所述的研磨墊，經(jīng)由所述研磨墊的第一漿液供給孔及第二漿液供給孔向該研磨墊與所述玻璃板之間供給漿液。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的研磨裝置，其中，具備控制單元，所述控制單元對(duì)從所述第一漿液供給孔供給的漿液的量和從所述第二漿液供給孔供給的漿液的量進(jìn)行控制。
全文摘要
本發(fā)明涉及研磨墊及使用了研磨墊的研磨裝置。該研磨墊用于研磨玻璃板，其中，具備第一漿液供給孔，該第一漿液供給孔是用于向該研磨墊的研磨面與所述玻璃板的被研磨面之間供給漿液的漿液供給孔，且在該研磨面的中心貫穿該研磨墊，所述研磨面通過從中心朝外側(cè)形成的多個(gè)槽而分割成放射狀。
文檔編號(hào)B24B37/04GK102240966SQ20111012867
公開日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2011年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月13日
發(fā)明者城山厚, 河內(nèi)辰朗 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社