專利名稱：裝卸料機(jī)構(gòu)、cvd設(shè)備和該cvd設(shè)備的控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種裝卸料機(jī)構(gòu)、具有該裝卸料機(jī)構(gòu)的CVD(化學(xué)氣相淀積)設(shè)備及CVD設(shè)備的控制方法。
背景技術(shù)：
目前CVD設(shè)備，特別是MOCVD( 金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相淀積)設(shè)備，作為L(zhǎng)ED生產(chǎn)エ藝過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，其設(shè)備成本約占整條生產(chǎn)線投資成本的70%。MOCVD外延エ藝流程及其復(fù)雜，エ藝難度很高，エ藝時(shí)間長(zhǎng)。通常需要數(shù)小時(shí)才能完成ー爐基片的完整エ藝過(guò)程。隨著LED產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展以及制造エ藝的逐步完善，對(duì)MOCVD設(shè)備的產(chǎn)能要求也在不斷的提升。如圖I所示，為現(xiàn)有技術(shù)中多托盤(pán)立式結(jié)構(gòu)的反應(yīng)室的示意圖。該反應(yīng)室包括反應(yīng)室外壁110’和設(shè)置在反應(yīng)室外壁110’之外的多個(gè)感應(yīng)加熱線圈120’。多層呈垂直間隔放置的托盤(pán)400’設(shè)置在外延反應(yīng)腔室之內(nèi)。通過(guò)在反應(yīng)室內(nèi)増加托盤(pán)數(shù)量可以擴(kuò)大設(shè)備產(chǎn)能。如圖2所示，為現(xiàn)有技術(shù)中具有裝卸料機(jī)構(gòu)的多托盤(pán)立式結(jié)構(gòu)的CVD設(shè)備結(jié)構(gòu)圖。該CVD設(shè)備包括反應(yīng)室和裝卸料機(jī)構(gòu)。裝卸料機(jī)構(gòu)包括托架300’、設(shè)置在托架300’之上的多層托盤(pán)400’和托盤(pán)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)500’。其中，基片被放置在可旋轉(zhuǎn)的多層托盤(pán)400’上，托盤(pán)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)500’可驅(qū)動(dòng)托架300’旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而可由托架300’帶動(dòng)多層托盤(pán)400’旋轉(zhuǎn)。反應(yīng)室與如圖I所示的反應(yīng)室結(jié)構(gòu)相同，均采用多托盤(pán)立式結(jié)構(gòu)，該反應(yīng)室包括反應(yīng)室外壁110’以及設(shè)置在反應(yīng)室外壁110’之外的多個(gè)感應(yīng)加熱線圈(圖2中未示出)，以及穿過(guò)多個(gè)托盤(pán)400’并為多個(gè)托盤(pán)400’上的基片提供反應(yīng)氣體的エ藝氣體傳輸結(jié)構(gòu)130’。其中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’和升降機(jī)構(gòu)220’。目前的上下料方案是在ー爐生長(zhǎng)エ藝完成之后，將承載多層托盤(pán)400’的托架300’整體下降到反應(yīng)室下方，從而使整個(gè)托架300’降到反應(yīng)室之外，利用托盤(pán)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)500’進(jìn)行分度旋轉(zhuǎn)，配合機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’將每層的基片取出并放到片盒承載架(片盒放在L0ADL0CK腔室內(nèi))上。機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’可具有水平方向伸縮、旋轉(zhuǎn)及Z軸上下運(yùn)動(dòng)功能，配合托盤(pán)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)500’在原位完成多層基片的取放工作?，F(xiàn)有技術(shù)存在的缺點(diǎn)是在ー爐生長(zhǎng)エ藝完成之后，多層托盤(pán)結(jié)構(gòu)在反應(yīng)室之下，由機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’ 一片一片地取出完成生長(zhǎng)エ藝的基片并放到片盒承載架上，然后機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’再將待生長(zhǎng)的基片傳送到每層托盤(pán)400’上，之后再將承載多層托盤(pán)400’的托架300’上升到反應(yīng)室內(nèi)開(kāi)始下ー爐エ藝。這樣造成了每爐之間需要較長(zhǎng)時(shí)間用于等待機(jī)械手搬運(yùn)結(jié)構(gòu)210’取放基片的時(shí)間，因此影響了機(jī)臺(tái)的有效エ藝時(shí)間，降低了設(shè)備產(chǎn)能
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的g在至少解決上述技術(shù)缺陷之一，特別是解決現(xiàn)有CVD設(shè)備有效エ藝時(shí)間及設(shè)備產(chǎn)能低的缺陷。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明第一方面的實(shí)施例提出一種裝卸料機(jī)構(gòu)，包括第一機(jī)架，所述第一機(jī)架在第一エ位與反應(yīng)エ位之間可移動(dòng)；第一托架，所述第一托架上設(shè)有用干承載多個(gè)基片的多層第一托盤(pán)且所述第一托架可上下移動(dòng)地設(shè)置在所述第一機(jī)架上；第二托架，所述第二托架上設(shè)有用于承載多個(gè)基片的多層第二托盤(pán)且所述第二托架可上下移動(dòng)地設(shè)置在所述第二機(jī)架上；和機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，用于將基片從位于第一エ位的所述第一托架上的第一托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第一エ位的所述第一托架上的第一托盤(pán)上，以及用于將基片從位于第二エ位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第二エ位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上。本發(fā)明實(shí)施例的裝卸料機(jī)構(gòu)可以大大縮短每爐之間用于基片取放的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提高了設(shè)備的利用效率。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第一旋轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)可上下移動(dòng)安裝在所述第一機(jī)架上且與所述第一托架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第一托架帶動(dòng)所述多層第一托盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)；和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)安裝在所述機(jī)架上且與所述第二托架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第二托架帶動(dòng)所述多層第二托盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一升降機(jī)構(gòu)，所述第一升降機(jī)構(gòu)安裝在所述第一機(jī)架上，用于驅(qū)動(dòng)所述第一托架和所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)；第二升降機(jī)構(gòu)，所述第二升降機(jī)構(gòu)安裝在所述第二機(jī)架上，用于驅(qū)動(dòng)所述第二托架和所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)；第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述第一機(jī)架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第一機(jī)架在所述第一エ位和所述反應(yīng)エ位之間移動(dòng)；和第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述第二機(jī)架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第二機(jī)架在所述第二エ位和所述反應(yīng)エ位之間移動(dòng)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一エ位、所述反應(yīng)エ位與所述第二エ位呈直線排列，所述反應(yīng)エ位位于所述第一エ位和第二エ位之間，且所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的移動(dòng)軌跡平行于所述第一エ位、所述反應(yīng)エ位與所述第二エ位之間的連線。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，還包括機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)相連，用于驅(qū)動(dòng)所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)在所述第一エ位和所述第二エ位之間移動(dòng)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的裝卸料機(jī)構(gòu)通過(guò)機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)對(duì)基片的自動(dòng)裝卸，從而提聞裝卸效率。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一直線導(dǎo)軌，所述第一直線導(dǎo)軌連接所述第一エ位與所述反應(yīng)エ位且所述第一機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述第一直線導(dǎo)軌上；第二直線導(dǎo)軌，所述第二直線導(dǎo)軌連接所述第二エ位與所述反應(yīng)エ位且所述第二機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述第二直線導(dǎo)軌上，所述第一直線導(dǎo)軌與所述第二直線導(dǎo)軌在同一條直線上；第三直線導(dǎo)軌，所述第三直線導(dǎo)軌平行于第一直線導(dǎo)軌和所述第二直線導(dǎo)軌且所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)地設(shè)置在所述第三直線導(dǎo)軌上。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)片盒裝載室，所述多個(gè)片盒裝載室與所述第三直線導(dǎo)軌平行設(shè)置且彼此間隔開(kāi)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一直線導(dǎo)軌和所述第二直線導(dǎo)軌由同一導(dǎo)軌構(gòu)成。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一エ位與所述反應(yīng)エ位之間的連線垂直于所述第二エ位與所述反應(yīng)エ位之間的連線。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)固定在第四位置，所述第四位置與所述第一エ位之間的連線平行于所述第二エ位與所述反應(yīng)エ位之間的連線，且所述第四位置與所述第二エ位之間的連線平行于所述第一エ位與所述反應(yīng)エ位之間的連線。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一エ位、所述反應(yīng)エ位和所述第二エ位呈圓環(huán)排列。 在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)固定在第四位置，所述第四位置在所述圓環(huán)上位于所述第一エ位與所述第二エ位之間。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括環(huán)形導(dǎo)軌，其中所述第一機(jī)架和所述第二機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述環(huán)形導(dǎo)軌上。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)片盒裝載室，所述多個(gè)片盒裝載室圍繞所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)間隔排列。本發(fā)明另一方面的實(shí)施例提出了ー種CVD設(shè)備，包括裝卸料機(jī)構(gòu)，所述裝卸料機(jī)構(gòu)為如上所述的裝卸料機(jī)構(gòu)；和反應(yīng)室本體，所述反應(yīng)室本體內(nèi)限定有反應(yīng)室，所述反應(yīng)室本體位于所述裝卸料機(jī)構(gòu)的所述反應(yīng)エ位上方，以便處于反應(yīng)エ位的第一托架或第二托架可向上移動(dòng)到所述反應(yīng)室內(nèi)和向下移出所述反應(yīng)室。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備可實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提高設(shè)備產(chǎn)能。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述CVD設(shè)備還包括控制器，所述控制器分別與所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第一升降機(jī)構(gòu)、所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二升降機(jī)構(gòu)和所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)相連，用于在所述反應(yīng)室內(nèi)對(duì)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上的基片進(jìn)行エ藝處理的同時(shí)，通過(guò)所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)對(duì)第二托架中的多層第二托盤(pán)裝卸基片。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上的基片在所述反應(yīng)室內(nèi)處理完畢之后，所述控制器控制所述第一升降機(jī)構(gòu)使所述第一托架向下移出所述反應(yīng)室并控制所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將所述第一機(jī)架從所述反應(yīng)エ位移動(dòng)至所述第一エ位，所述控制器控制所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以將所述第二機(jī)架從所述第二エ位移動(dòng)至所述反應(yīng)エ位，控制所述第二升降機(jī)構(gòu)使所述第二托架移入所述反應(yīng)室并控制所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)所述第二托架中的所述多層第二托盤(pán)以進(jìn)行エ藝處理，同時(shí)所述控制器控制所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)所述第一托架上的所述多層第一托盤(pán)并控制所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)從處于所述第一エ位的第一托架上的多層第一托盤(pán)卸載基片。本發(fā)明再一方面的實(shí)施例還提出了ー種CVD設(shè)備的控制方法，包括以下步驟在第一エ位控制第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上裝載基片；在對(duì)所述第一托盤(pán)裝載基片完畢之后，將所述第一托架從所述第一エ位移動(dòng)至反應(yīng)エ位；在所述反應(yīng)エ位將所述第一托架移入反應(yīng)室之內(nèi)并旋轉(zhuǎn)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)以進(jìn)行エ藝處理，同時(shí)在第二エ位控制第二托架上的多層第二托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向所述第ニ托架上的多層第二托盤(pán)裝載基片；在第一托盤(pán)上的基片的エ藝處理完畢之后，控制所述第一托架移出反應(yīng)室并移動(dòng)到所述第一エ位；將所述第二托架從所述第二エ位移動(dòng)至所述反應(yīng)エ位；和在所述反應(yīng)エ位將所述第二托架移入反應(yīng)室并控制所述第二托架上的多層第ニ托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以對(duì)進(jìn)行エ藝處理，同時(shí)在第一エ位控制所述第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以從所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上卸載基片。通過(guò)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的控制方法可實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提高設(shè)備產(chǎn)倉(cāng)^:。本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。


本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖I為現(xiàn)有技術(shù)中多托盤(pán)立式結(jié)構(gòu)的反應(yīng)室的示意圖； 圖2為現(xiàn)有技術(shù)中具有裝卸料機(jī)構(gòu)的多托盤(pán)立式結(jié)構(gòu)的CVD設(shè)備結(jié)構(gòu)圖；圖3和4為根據(jù)本發(fā)明ー個(gè)實(shí)施例的直線式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖和主視圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的直角式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖；圖6為根據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施例的環(huán)形裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖；圖7為根據(jù)本發(fā)明ー個(gè)實(shí)施例的CVD設(shè)備的控制方法流程圖。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，術(shù)語(yǔ)“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明而不是要求本發(fā)明必須以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的裝卸料機(jī)構(gòu)適于與反應(yīng)室相互配合，從而使得ー組承載基片的托盤(pán)在反應(yīng)室中進(jìn)行エ藝處理的同時(shí)，對(duì)另一組承載基片的托盤(pán)進(jìn)行裝卸操作，從而可以在ー組完成處理之后直接將已裝載完畢的托盤(pán)送入反應(yīng)室中進(jìn)行處理，以實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)。如圖3和4所示，分別為根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的直線式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖和主視圖。如圖5所示，為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的直角式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖。如圖6所示，為根據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施例的環(huán)形裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的裝卸料機(jī)構(gòu)包括第一機(jī)架1100、第一托架1200、第二機(jī)架2100、第二托架2200和機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000。第一機(jī)架1100在第一エ位5100與反應(yīng)エ位5200之間可移動(dòng)，第二機(jī)架2100在第二エ位5300與反應(yīng)エ位5200之間可移動(dòng)。第一托架1200上設(shè)有用于承載多個(gè)基片的多層第一托盤(pán)1500，且第一托架1200可上下移動(dòng)地設(shè)置在第一機(jī)架1100上，這樣當(dāng)?shù)谝煌屑?200處于反應(yīng)エ位5200時(shí)，可使第一托架1200上移進(jìn)入反應(yīng)室1000內(nèi)。
同樣地，第二托架2200上設(shè)有用于承載多個(gè)基片的多層第二托盤(pán)2500，且第二托架2200可上下移動(dòng)地設(shè)置在第二機(jī)架2100上，這樣當(dāng)?shù)诙屑?200處于反應(yīng)エ位5200時(shí)，可使第二托架2200上移進(jìn)入反應(yīng)室1000內(nèi)。在本發(fā)明的實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300。第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300可上下移動(dòng)安裝在第一機(jī)架1100上且與第一托架1200相連，用于驅(qū)動(dòng)第一托架1200帶動(dòng)多層第一托盤(pán)1500轉(zhuǎn)動(dòng)，例如當(dāng)?shù)谝煌屑?200進(jìn)入反應(yīng)室1000中進(jìn)行反應(yīng)時(shí)，第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300控制第一托架1200中的多層第一托盤(pán)1500以第一轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)，而當(dāng)?shù)谝煌屑?200位于第一エ位5100進(jìn)行基片的裝卸時(shí)，第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300控制第一托架1200中的多層第一托盤(pán)1500以第 二轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)。同樣地，第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300可上下移動(dòng)安裝在第二機(jī)架2100上且與第二托架2200相連，用于驅(qū)動(dòng)第二托架2200帶動(dòng)多層第二托盤(pán)2500轉(zhuǎn)動(dòng)，例如當(dāng)?shù)诙屑?200進(jìn)入反應(yīng)室1000中進(jìn)行反應(yīng)時(shí)，第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300控制第二托架2200中的多層第二托盤(pán)2500以第一轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)，而當(dāng)?shù)诙屑?200位于第二エ位5300進(jìn)行基片的裝卸時(shí)，第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300控制第二托架2200中的多層第二托盤(pán)2500以第二轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)。機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000用于將基片從位于第一エ位5100的第一托架1200上的第ー托盤(pán)1500上卸載或?qū)⒒b載到位于第一エ位5100的第一托架1200上的第一托盤(pán)1500上，以及用于將基片從位于第二エ位5300的第二托架2200上的第二托盤(pán)2500上卸載或?qū)⒒b載到位于第二エ位5300的第二托架2200上的第二托盤(pán)2500上。需要理解的是，在本發(fā)明中，術(shù)語(yǔ)“反應(yīng)エ位”、“第一エ位”、和“第二エ位”是指第一托架和第二托架所處的不同位置，例如，“反應(yīng)エ位”可以是第一托架或第二托架移動(dòng)到反應(yīng)室下面、以便可以將多層第一托盤(pán)或多層第二托盤(pán)向上移動(dòng)到反應(yīng)室內(nèi)、從而在反應(yīng)室內(nèi)對(duì)第一托盤(pán)或第二托盤(pán)上承載的基片進(jìn)行處理的位置第一エ位”可以是第一托架從反應(yīng)室下方移開(kāi)以進(jìn)行裝卸基片的位置；“第二エ位”可以是第二托架從反應(yīng)室下方移開(kāi)以進(jìn)行裝卸基片的位置。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一升降機(jī)構(gòu)1400、第二升降機(jī)構(gòu)2400和第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及第ニ驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖中未示出)。第一升降機(jī)構(gòu)1400安裝在第一機(jī)架1100上,用于驅(qū)動(dòng)第一托架1200和第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300上下移動(dòng)，例如在反應(yīng)エ位5200可以使得承載第一托盤(pán)1500的第一托架1200和第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300進(jìn)入反應(yīng)エ位5200上方的反應(yīng)室1000。第二升降機(jī)構(gòu)2400安裝在第二機(jī)架2100上，用于驅(qū)動(dòng)第二托架2200和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300上下移動(dòng)，例如在反應(yīng)エ位5200可以使得承載第二托盤(pán)2500的第二托架2200和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300進(jìn)入反應(yīng)エ位5200上方的反應(yīng)室1000。第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與第一機(jī)架1100相連，用于驅(qū)動(dòng)第一機(jī)架1100在第一エ位5100和反應(yīng)エ位5200之間移動(dòng)，第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與第二機(jī)架2100相連，用于驅(qū)動(dòng)第二機(jī)架2100在第二エ位5300和反應(yīng)エ位之間移動(dòng)。下面參考附圖結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)根據(jù)本發(fā)明的裝卸料機(jī)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)描述。參考圖3和4，為本發(fā)明實(shí)施例一的直線式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖和主視圖。在圖4的主視圖中，以將第一托架1200送入反應(yīng)室1000進(jìn)行處理，而第二托架2200在第二エ位5300進(jìn)行基片裝卸為例進(jìn)行描述。如圖3和4，在該實(shí)施例中，第一エ位5100、反應(yīng)エ位5200與第二エ位5300呈直線排列，且反應(yīng)エ位5200位于第一エ位5100和第二エ位5300之間，且機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000的移動(dòng)軌跡平行于第一工位5100、反應(yīng)工位5200與第二工位5300之間的連線。當(dāng)然在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，也可在第一工位5100和第二工位5300分別設(shè)置機(jī)械手。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000相連，用于驅(qū)動(dòng)機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000在第一工位5100和第二工位5300之間移動(dòng)。參照?qǐng)D3，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括第一直線導(dǎo)軌6100、第二直線導(dǎo)軌6200和第三直線導(dǎo)軌6300。第一直線導(dǎo)軌6100連接第一工位5100與反應(yīng)工位5200且第一機(jī)架1100可移動(dòng)地設(shè)置在第一直線導(dǎo)軌6100上，第二直線導(dǎo)軌6200連接第二工位5300與反應(yīng)工位5200且第二機(jī)架2100可移動(dòng)地設(shè)置在第二直線導(dǎo)軌6200上。在本發(fā)明的實(shí)施例中，第一直線導(dǎo)軌6100與第二直線導(dǎo)軌6200在同一條直線上，優(yōu)選地，第一直線導(dǎo)軌6100和第二直線導(dǎo)軌6200由同一導(dǎo)軌構(gòu)成。其中，第三直線導(dǎo)軌6300平行于第 一直線導(dǎo)軌6100和第二直線導(dǎo)軌6200且機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000可移動(dòng)地設(shè)置在第三直線導(dǎo)軌6300上。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)片盒裝載室4000，多個(gè)片盒裝載室4000與第三直線導(dǎo)軌6300平行設(shè)置且彼此間隔開(kāi)，從而方便機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000取
放基片。圖5為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例二的直角式裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖。在該實(shí)施例中，第一工位5100、反應(yīng)工位5200和第二工位5300呈直角，即第一工位5100與反應(yīng)工位5200之間的連線垂直于第二工位5300與反應(yīng)工位5200之間的連線。同樣地，在該實(shí)施例中，還包括第一直線導(dǎo)軌6100和第二直線導(dǎo)軌6200。其中，第一直線導(dǎo)軌6100連接第一工位5100與反應(yīng)工位5200且第一機(jī)架1100可移動(dòng)地設(shè)置在第一直線導(dǎo)軌6100上，第二直線導(dǎo)軌6200連接第二工位5300與反應(yīng)工位5200且第二機(jī)架2100可移動(dòng)地設(shè)置在第二直線導(dǎo)軌6200上。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000固定在第四位置，第四位置與第一工位5100之間的連線平行于第二工位5300與反應(yīng)工位5200之間的連線，且第四位置與第二工位5300之間的連線平行于第一工位5100與反應(yīng)工位5200之間的連線。該實(shí)施例相對(duì)于實(shí)施例一來(lái)說(shuō)，可以將機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000固定設(shè)置，從而降低設(shè)備的成本，且相對(duì)于實(shí)施例一，實(shí)施例二可節(jié)省一個(gè)X方向的直線導(dǎo)軌，同時(shí)就設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)而言，如采用直角式裝卸料結(jié)構(gòu)能節(jié)省設(shè)備占地面積。圖6為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例三的環(huán)形裝卸料機(jī)構(gòu)的俯視圖。在該實(shí)施例中，第一工位5100、反應(yīng)工位5200和第二工位5300呈環(huán)形，即第一工位5100、反應(yīng)工位5200和第二工位5300呈圓環(huán)排列。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000固定在第四位置，其中，第四位置在圓環(huán)上位于第一工位5100與第二工位5300之間。該裝卸料機(jī)構(gòu)還包括環(huán)形導(dǎo)軌6400，其中第一機(jī)架1100和第二機(jī)架2100可移動(dòng)地設(shè)置在環(huán)形導(dǎo)軌6400上。該實(shí)施例相對(duì)于實(shí)施例一和實(shí)施例二在實(shí)際工程實(shí)施中結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單，更容易實(shí)現(xiàn)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，裝卸料機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)片盒裝載室4000，多個(gè)片盒裝載室4000圍繞機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000間隔排列。下面描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備，例如MOCVD設(shè)備等。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備包括裝卸料機(jī)構(gòu)和反應(yīng)室本體。其中，所述裝卸料機(jī)構(gòu)可以為參考上述實(shí)施例描述的裝卸料機(jī)構(gòu)。反應(yīng)室本體內(nèi)限定有反應(yīng)室1000，反應(yīng)室本體位于裝卸料機(jī)構(gòu)的反應(yīng)工位5200的上方，以便處于反應(yīng)工位5200的第一托架2100或第二托架2200可向上移動(dòng)到反應(yīng)室1000內(nèi)或向下移出反應(yīng)室1000。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備可實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提高設(shè)備產(chǎn)能。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，該CVD設(shè)備還包括控制器，該控制器分別與第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第一升降機(jī)構(gòu)1400、第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300、第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二升降機(jī)構(gòu)2400和第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300相連，用于在反應(yīng)室1000內(nèi)對(duì)第一托架1200上的多層第一托盤(pán)1500上的基片進(jìn)行工藝處理的同時(shí)，通過(guò)機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000對(duì)第二托架2200中的另一個(gè)上的多層第二托盤(pán)2500裝卸基片。具體地，當(dāng)?shù)谝煌屑?200上的多層第一托盤(pán)1500上的基片在反應(yīng)室1000內(nèi)處理完畢之后，控制器控制第一升降機(jī)構(gòu)1400使第一托架1100向下移出反應(yīng)室1000并控制第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將第一機(jī)架1100從反應(yīng)工位5200移動(dòng)至第一工位5100，控制器控制第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以將第二機(jī)架2200從第二工位5300移動(dòng)至反應(yīng)工位5200，控制第二升降機(jī)構(gòu)2400使第二托架2200移入反應(yīng)室1000并控制第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2300旋轉(zhuǎn)第二托架 2200中的多層第二托盤(pán)2500以進(jìn)行工藝處理，同時(shí)控制器控制第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1300旋轉(zhuǎn)第一托架1200上的多層第一托盤(pán)1500并控制機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)3000從處于第一工位5100的第一托架1200上的多層第一托盤(pán)1500卸載基片。下面參考附圖描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備的控制方法。如圖7所示，為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備的控制方法流程圖，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備的控制方法包括以下步驟步驟S701，在第一工位控制第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向第一托架上的多層第一托盤(pán)上裝載基片。步驟S702，在對(duì)第一托盤(pán)裝載基片完畢之后，將第一托架從第一工位移動(dòng)至反應(yīng)工位，其中，第一工位與反應(yīng)工位相鄰。步驟S703，在反應(yīng)工位將第一托架移入反應(yīng)室之內(nèi)并旋轉(zhuǎn)第一托架上的多層第一托盤(pán)以進(jìn)行工藝處理，同時(shí)在第二工位控制第二托架上的多層第二托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向第二托架上的多層第二托盤(pán)裝載基片。步驟S704，在第一托盤(pán)上的基片的工藝處理完畢之后，控制第一托架移出反應(yīng)室并移動(dòng)到第一工位。步驟S705，將第二托架從第二工位移動(dòng)至反應(yīng)工位，其中，第二工位與反應(yīng)工位相鄰。步驟S706，在反應(yīng)工位將第二托架移入反應(yīng)室并控制第二托架上的多層第二托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以對(duì)進(jìn)行工藝處理，同時(shí)在第一工位控制第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以從第一托架上的多層第一托盤(pán)上卸載基片。利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CVD設(shè)備的控制方法可實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提聞設(shè)備廣能。在本說(shuō)明書(shū)的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等 同限定。
權(quán)利要求
1.一種裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括 第一機(jī)架，所述第一機(jī)架在第一工位與反應(yīng)工位之間可移動(dòng)； 第一托架，所述第一托架上設(shè)有用于承載多個(gè)基片的多層第一托盤(pán)且所述第一托架可上下移動(dòng)地設(shè)置在所述第一機(jī)架上； 第二機(jī)架，所述第二機(jī)架在第二工位與所述反應(yīng)工位之間可移動(dòng)； 第二托架，所述第二托架上設(shè)有用于承載多個(gè)基片的多層第二托盤(pán)且所述第二托架可上下移動(dòng)地設(shè)置在所述第二機(jī)架上；和 機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，用于將基片從位于第一工位的所述第一托架上的第一托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第一工位的所述第一托架上的第一托盤(pán)上，以及用于將基片從位于第二工位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第二工位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括 第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可上下移動(dòng)安裝在所述第一機(jī)架上且與所述第一托架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第一托架帶動(dòng)所述多層第一托盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)；和 第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)安裝在所述機(jī)架上且與所述第二托架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第二托架帶動(dòng)所述多層第二托盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括 第一升降機(jī)構(gòu)，所述第一升降機(jī)構(gòu)安裝在所述第一機(jī)架上，用于驅(qū)動(dòng)所述第一托架和所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)； 第二升降機(jī)構(gòu)，所述第二升降機(jī)構(gòu)安裝在所述第二機(jī)架上，用于驅(qū)動(dòng)所述第二托架和所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)； 第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述第一機(jī)架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第一機(jī)架在所述第一工位和所述反應(yīng)工位之間移動(dòng)；和 第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述第二機(jī)架相連，用于驅(qū)動(dòng)所述第二機(jī)架在所述第二工位和所述反應(yīng)工位之間移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求I所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第一工位、所述反應(yīng)工位與所述第二工位呈直線排列，所述反應(yīng)工位位于所述第一工位和第二工位之間，且所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的移動(dòng)軌跡平行于所述第一工位、所述反應(yīng)工位與所述第二工位之間的連線。
5.如權(quán)利要求4所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械手驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)相連，用于驅(qū)動(dòng)所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)在所述第一工位和所述第二工位之間移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求5所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括 第一直線導(dǎo)軌，所述第一直線導(dǎo)軌連接所述第一工位與所述反應(yīng)工位且所述第一機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述第一直線導(dǎo)軌上； 第二直線導(dǎo)軌，所述第二直線導(dǎo)軌連接所述第二工位與所述反應(yīng)工位且所述第二機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述第二直線導(dǎo)軌上，所述第一直線導(dǎo)軌與所述第二直線導(dǎo)軌在同一條直線上； 第三直線導(dǎo)軌，所述第三直線導(dǎo)軌平行于所述第一直線導(dǎo)軌和所述第二直線導(dǎo)軌且所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)地設(shè)置在所述第三直線導(dǎo)軌上。
7.如權(quán)利要求6所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括多個(gè)片盒裝載室，所述多個(gè)片盒裝載室與所述第三直線導(dǎo)軌平行設(shè)置且彼此間隔開(kāi)。
8.如權(quán)利要求6所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第一直線導(dǎo)軌和所述第二直線導(dǎo)軌由同一導(dǎo)軌構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求I所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第一工位與所述反應(yīng)工位之間的連線垂直于所述第二工位與所述反應(yīng)工位之間的連線。
10.如權(quán)利要求9所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)固定在第四位置，所述第四位置與所述第一工位之間的連線平行于所述第二工位與所述反應(yīng)工位之間的連線，且所述第四位置與所述第二工位之間的連線平行于所述第一工位與所述反應(yīng)工位之間的連線。
11.如權(quán)利要求I所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第一工位、所述反應(yīng)工位和所述第二工位呈圓環(huán)排列。
12.如權(quán)利要求11所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)固定在第四位置，所述第四位置在所述圓環(huán)上位于所述第一工位與所述第二工位之間。
13.如權(quán)利要求11所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括環(huán)形導(dǎo)軌，其中所述第一機(jī)架和所述第二機(jī)架可移動(dòng)地設(shè)置在所述環(huán)形導(dǎo)軌上。
14.如權(quán)利要求10或12所述的裝卸料機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括多個(gè)片盒裝載室，所述多個(gè)片盒裝載室圍繞所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)間隔排列。
15.一種CVD設(shè)備，其特征在于，包括 裝卸料機(jī)構(gòu)，所述裝卸料機(jī)構(gòu)為如權(quán)利要求1-14中任一項(xiàng)所述的裝卸料機(jī)構(gòu)；和 反應(yīng)室本體，所述反應(yīng)室本體內(nèi)限定有反應(yīng)室，所述反應(yīng)室本體位于所述裝卸料機(jī)構(gòu)的所述反應(yīng)工位上方，以便處于反應(yīng)工位的第一托架或第二托架可向上移動(dòng)到所述反應(yīng)室內(nèi)和向下移出所述反應(yīng)室。
16.如權(quán)利要求15所述的CVD設(shè)備，其特征在于，還包括控制器，所述控制器分別與所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第一升降機(jī)構(gòu)、所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二升降機(jī)構(gòu)和所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)相連，用于在所述反應(yīng)室內(nèi)對(duì)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上的基片進(jìn)行工藝處理的同時(shí)，通過(guò)所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)對(duì)第二托架中的多層第二托盤(pán)裝卸基片。
17.如權(quán)利要求16所述的CVD設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上的基片在所述反應(yīng)室內(nèi)處理完畢之后，所述控制器控制所述第一升降機(jī)構(gòu)使所述第一托架向下移出所述反應(yīng)室并控制所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)將所述第一機(jī)架從所述反應(yīng)工位移動(dòng)至所述第一工位，所述控制器控制所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以將所述第二機(jī)架從所述第二工位移動(dòng)至所述反應(yīng)工位，控制所述第二升降機(jī)構(gòu)使所述第二托架移入所述反應(yīng)室并控制所述第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)所述第二托架中的所述多層第二托盤(pán)以進(jìn)行工藝處理，同時(shí)所述控制器控制所述第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)所述第一托架上的所述多層第一托盤(pán)并控制所述機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)從處于所述第一工位的第一托架上的多層第一托盤(pán)卸載基片。
18.—種CVD設(shè)備的控制方法，其特征在于，包括以下步驟 在第一工位控制第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上裝載基片；在對(duì)所述第一托盤(pán)裝載基片完畢之后，將所述第一托架從所述第一工位移動(dòng)至反應(yīng)工位； 在所述反應(yīng)工位將所述第一托架移入反應(yīng)室之內(nèi)并旋轉(zhuǎn)所述第一托架上的多層第一托盤(pán)以進(jìn)行工藝處理，同時(shí)在第二工位控制第二托架上的多層第二托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以向所述第二托架上的多層第二托盤(pán)裝載基片； 在第一托盤(pán)上的基片的工藝處理完畢之后，控制所述第一托架移出反應(yīng)室并移動(dòng)到所述第一工位； 將所述第二托架從所述第二工位移動(dòng)至所述反應(yīng)工位；和 在所述反應(yīng)工位將所述第二托架移入反應(yīng)室并控制所述第二托架上的多層第二托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以對(duì)進(jìn)行工藝處理，同時(shí)在第一工位控制所述第一托架上的多層第一托盤(pán)旋轉(zhuǎn)以從所述第一托架上的多層第一托盤(pán)上卸載基片。
全文摘要
本發(fā)明提出一種裝卸料機(jī)構(gòu)、具有其的CVD設(shè)備及控制方法。該裝卸料機(jī)構(gòu)，包括第一機(jī)架、第一托架、第一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、第二機(jī)架、第二托架、第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)構(gòu)用于將基片從位于第一工位的第一托架上的第一托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第一工位的第一托架上的第一托盤(pán)上，以及用于將基片從位于第二工位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上卸載或?qū)⒒b載到位于第二工位的所述第二托架上的第二托盤(pán)上。本發(fā)明實(shí)施例的裝卸料機(jī)構(gòu)可以大大縮短每爐之間用于基片取放的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)每爐之間不間斷生產(chǎn)，從而提高了設(shè)備的利用效率。
文檔編號(hào)C23C16/44GK102677017SQ201110066938
公開(kāi)日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2011年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月18日
發(fā)明者董志清 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司