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硅片鍍膜載板的制作方法

文檔序號:3407517閱讀:308來源:國知局
專利名稱:硅片鍍膜載板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及硅片鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種硅片鍍膜設(shè)備內(nèi)的鍍膜載 板。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的太陽能電池載板式PECVD鍍膜設(shè)備,如Roth&Rau公司的,均采用石墨 材質(zhì)的載板,一方面,在石墨載板的前端與后端容易出現(xiàn)成膜膜厚和折射率不均勻的現(xiàn) 象,造成薄膜顏色上的差異,影響電池外觀;另一方面,同時(shí)載板的強(qiáng)度在使用過程中 會降低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是生長膜厚和折射率均勻的薄膜,減少生產(chǎn) 過程中的色差現(xiàn)象。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種硅片鍍膜載板,在載 板的前端與后端分別安裝一條垂直載板前進(jìn)方向的勻流條,勻流條高出載板的上端和下端。具體的,勻流條高出載板上端2 10mm,高出載板下端2 10mm。勻流條為石墨材質(zhì)。本實(shí)用新型的有益效果是勻流條的安裝可以顯著的降低載板前后端色差片的 產(chǎn)生;同時(shí)勻流條的安裝增加了石墨載板的強(qiáng)度,使載板更加平穩(wěn)的運(yùn)行于設(shè)備中,降 低設(shè)備發(fā)生故障的幾率。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明;


圖1是載板安裝勻流條的側(cè)面圖;圖2是載板安裝勻流條的俯視圖;其中1.載板,2.勻流條。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在結(jié)合附
圖1和2對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的 示意圖,僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的 構(gòu)成。如
圖1和2所示,以156mm*156mm準(zhǔn)方形多晶硅太陽能電池用載板為例,在 載板1的前端與后端分別安裝一條垂直載板前進(jìn)方向的勻流條2,勻流條2高出載板上端 2 10mm,高出載板下端2 10mm。勻流條2為石墨材質(zhì)。
權(quán)利要求1.一種硅片鍍膜載板,其特征是在載板(1)的前端與后端分別安裝一條垂直載板 前進(jìn)方向的勻流條(2),勻流條(2)高出載板的上端和下端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片鍍膜載板,其特征是所述的勻流條(2)高出載板上端 2 10mm,高出載板下端2 10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片鍍膜載板,其特征是所述的勻流條(2)為石墨材質(zhì)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及硅片鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種硅片鍍膜設(shè)備內(nèi)的鍍膜載板,在載板的前端與后端分別安裝一條垂直載板前進(jìn)方向的勻流條,勻流條高出載板的上端和下端。勻流條的安裝可以顯著的降低載板前后端色差片的產(chǎn)生;同時(shí)勻流條的安裝增加了石墨載板的強(qiáng)度,使載板更加平穩(wěn)的運(yùn)行于設(shè)備中,降低設(shè)備發(fā)生故障的幾率。
文檔編號C23C16/458GK201793736SQ20102054804
公開日2011年4月13日 申請日期2010年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月29日
發(fā)明者張矚君 申請人:常州天合光能有限公司
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