專利名稱：真空鍍膜件及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜件及其制造方法，尤其涉及一種具有天藍(lán)色與金屬質(zhì)感的真空鍍膜件及其制造方法。
背景技術(shù)：
隨著科技的不斷進(jìn)步，手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、 及計(jì)算機(jī)等各式電子裝置也迅速發(fā)展，其功能亦愈來(lái)愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的外殼表面形成顏色層。然而，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金屬質(zhì)感。另一方面，由于真空鍍膜技術(shù)本身較為復(fù)雜而不易精密操控，現(xiàn)有技術(shù)中于外殼表面形成的金屬真空鍍膜層的色彩有限，與烤漆、陽(yáng)極處理等工藝相比，真空鍍膜層的顏色不夠豐富，嚴(yán)重限制了其在裝飾鍍膜領(lǐng)域的競(jìng)等力。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種具有天藍(lán)色及金屬質(zhì)感的真空鍍膜件。另外，本發(fā)明還提供一種上述真空鍍膜件的制造方法。一種真空鍍膜件，包括基體及形成于基體上的顏色層，所述顏色層為Ti-O-N膜， 該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于50至60之間，a*坐標(biāo)值介于-3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。一種真空鍍膜件的制造方法，其包括如下步驟提供基體；采用一鈦靶，以氧氣及氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，氧氣的流量為15 20sCCm，氮?dú)獾牧髁繛?0 lOOsccm，在所述基體上濺射形成顏色層；所述顏色層為Ti-O-N膜，所述顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于50至60之間，a*坐標(biāo)值介于_3至-2 之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。所述真空鍍膜件的制造方法，在形成顏色層時(shí)，采用鈦靶作為靶材，通過(guò)對(duì)反應(yīng)氣體氮?dú)夂脱鯕獾牧髁康目刂?，?shí)現(xiàn)所需的顏色層中各成分的比例關(guān)系及各成分間的微觀鍵合結(jié)構(gòu)，從而達(dá)到使顏色層呈現(xiàn)出天藍(lán)色的目的。以該方法所制得的真空鍍膜件可呈現(xiàn)出具吸引力的天藍(lán)色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競(jìng)爭(zhēng)力。


圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施例的真空鍍膜件的結(jié)構(gòu)示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明真空鍍膜件 10基體11
襯底層13顏色層1具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的真空鍍膜件10可為一手機(jī)的外殼。該真空鍍膜件10包括基體11、襯底層13及顏色層15。該襯底層13設(shè)置于基體11的表面，該顏色層15設(shè)置于襯底層13的表面。基體11為可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。所述襯底層13以磁控濺射的方式形成于基體11的表面。該襯底層13為鈦層，其厚度為50 lOOnm。該襯底層13的顏色為不影響顏色層顏色的淺色調(diào)，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。所述顏色層15為Ti-O-N膜，其以磁控濺射的方式形成。該顏色層15的厚度為200 350nm。該顏色層15由肉眼直觀呈現(xiàn)出天藍(lán)色，而其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的 L*坐標(biāo)值介于50至60之間，a*坐標(biāo)值介于-3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于_6至-10之間。上述真空鍍膜件10的制造方法主要包括如下步驟提供基體11。該基體11可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。對(duì)該基體11進(jìn)行預(yù)處理。該預(yù)處理可包括常規(guī)的對(duì)基體11進(jìn)行化學(xué)除油、除蠟、 酸洗、超聲波清洗及烘干等步驟。在基體11的表面形成襯底層13。該襯底層13為鈦金屬膜，其可采用磁控濺射的方式形成。形成該襯底層13的具體操作方法可為將基體11固定于一磁控濺射鍍膜機(jī)(圖未示)的轉(zhuǎn)架上，對(duì)該鍍膜機(jī)的鍍膜室進(jìn)行抽真空處理至真空度為8. O X IO-3Pa,并加熱該鍍膜室至80 120°C (即濺射溫度為80 120°C )，通入流量為100 250sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的工作氣體氬氣；開(kāi)啟一鈦靶材的電源，設(shè)定鈦靶材電源功率為7 10kw，對(duì)基體11施加-150 -250V的偏壓，占空比為50 70%，并設(shè)置轉(zhuǎn)架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為2 3 轉(zhuǎn)/每分鐘(revolution perminute, rpm)，沉積所述襯底層13。沉積所述襯底層13的時(shí)間為5 IOmin。在該襯底層13的表面形成顏色層15。在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，形成顏色層15 的具體操作方法可為在沉積所述襯底層13后，向所述磁控濺射鍍膜機(jī)中通入氧氣與氮?dú)?(反應(yīng)氣體)，其中氧氣的流量為15 20sCCm，氮?dú)獾牧髁繛?0 lOOsccm，保持所述鈦靶的電源功率、對(duì)基體施加的偏壓、濺射溫度及占空比不變，沉積所述顏色層15。沉積顏色層 15的時(shí)間為20 40min。該顏色層15為Ti-O-N膜，其于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于50至60之間， a*坐標(biāo)值介于-3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。本發(fā)明真空鍍膜件10可為筆記型計(jì)算機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理等電子裝置的外殼，或?yàn)槠渌b飾類產(chǎn)品的外殼。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述真空鍍膜件10的制造方法，是通過(guò)對(duì)靶材的選取及對(duì)反應(yīng)氣體氧氣和氮?dú)饬髁康脑O(shè)計(jì)，從而達(dá)到使顏色層15呈現(xiàn)出天藍(lán)色的目的。應(yīng)該指出，上述實(shí)施方式僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化。這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜件，包括基體及形成于基體上的顏色層，其特征在于所述顏色層為 Ti-O-N膜，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于50至60之間， a*坐標(biāo)值介于-3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。
2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于所述顏色層的厚度為200 350nm。
3.如權(quán)利要求1或2所述的真空鍍膜件，其特征在于該顏色層呈現(xiàn)天藍(lán)色。
4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于所述真空鍍膜件還包括形成于基體與顏色層之間的襯底層，該襯底層為鈦層。
5.如權(quán)利要求4所述的真空鍍膜件，其特征在于所述襯底層的厚度為50 lOOnm。
6.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜件，其特征在于所述基體為金屬材料、玻璃或塑料。
7.一種真空鍍膜件的制造方法，其包括如下步驟提供基體；采用一鈦靶，以氧氣及氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，氧氣的流量為15 20Sccm，氮?dú)獾牧髁繛?80 lOOsccm，在所述基體上濺射形成顏色層；所述顏色層為Ti-O-N膜，所述顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標(biāo)值介于50至60之間，a*坐標(biāo)值介于_3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。
8.如權(quán)利要求7所述的真空鍍膜件的制造方法，其特征在于形成該顏色層時(shí)，鈦靶的電源功率為7 10kw，對(duì)基體施加的偏壓為-150 -250V，占空比為50 70%，濺射溫度為80 120°C，濺射時(shí)間為20 40min。
9.如權(quán)利要求7所述的真空鍍膜件的制造方法，其特征在于該真空鍍膜件的制造方法還包括在形成顏色層前在基體上濺射形成襯底層的步驟。
10.如權(quán)利要求9所述的真空鍍膜件的制造方法，其特征在于所述襯底層為鈦層，形成該襯底層的工藝參數(shù)為以氬氣為工作氣體，設(shè)置其流量為100 250SCCm，采用鈦靶作為靶材，設(shè)置其電源功率為7 10kw，對(duì)基體施加的偏壓為-150 -250V，占空比為50 70%，濺射溫度為80 120°C，濺射時(shí)間為5 lOmin。
全文摘要
一種真空鍍膜件，包括基體及形成于基體上的顏色層，所述顏色層為Ti-O-N膜，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于50至60之間，a*坐標(biāo)值介于-3至-2之間，b*坐標(biāo)值介于-6至-10之間。本發(fā)明還提供一種上述真空鍍膜件的制造方法。該真空鍍膜件呈現(xiàn)出天藍(lán)色的外觀，從而豐富了真空鍍膜層的顏色。
文檔編號(hào)C23C14/06GK102477529SQ20101056096
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月26日
發(fā)明者張新倍, 張滿喜, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司