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噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置的制作方法

文檔序號:3362895閱讀:110來源:國知局
專利名稱:噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種將噴砂、水洗和烘干結(jié)合為一體的自動化一體裝置,屬于真空濺鍍技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
圖1為傳統(tǒng)的噴砂、水洗、烘干工藝流程示意圖。如圖1所示噴砂、水洗和烘干作為真空濺鍍行業(yè)的前處理操作,其所用到的噴砂 機1、高壓清洗機2和烘干機3分別獨立設(shè)置,即在生產(chǎn)中,噴砂、水洗、烘干,是由三個獨立 的工藝段來完成的,且在水洗工藝完成后,還需要工作人員在拍水工作臺4上進行拍水處 理,每個工藝段料件的進與出都需要工作人員5來操作,不僅延長了整體的工藝流程,而且 消耗了大量的人力物力,并為不良品的產(chǎn)生導(dǎo)入了不確定因素。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種可降低人力物力消耗、提 高工作效率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置。本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的一種噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置,包括噴砂機、高壓清洗機和烘干機,其特征 在于,還包括真空除水裝置,所述的真空除水裝置設(shè)置在高壓噴砂清洗機與烘干機之間,而 噴砂機、高壓清洗機、真空除水裝置和烘干機兩兩之間通過自動傳送線順序連接在一起,此 夕卜,總控制系統(tǒng)分別與噴砂機、高壓清洗機、真空除水裝置和烘干機中的分控制系統(tǒng)連通。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明由于采用的是自動化一體結(jié)構(gòu),只需要在進料和出 料位置需要工作人員進行操作,因此能大量節(jié)省人力、物力并縮短前處理工藝流程,實現(xiàn)了 標準化生產(chǎn),同時也提高產(chǎn)品的品質(zhì)。


圖1為傳統(tǒng)的噴砂、水洗、烘干工藝流程示意圖;圖2為本發(fā)明一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中主要附圖標記含義為1、噴砂機2、高壓清洗機3、烘干機4、拍水工作臺5、工作人員6、真空除水裝置7、自動傳送線
具體實施例方式下面將結(jié)合附圖,詳細說明本發(fā)明的
具體實施例方式圖2為本發(fā)明一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置,包括噴砂機1、高壓清洗機2、烘干 機3和真空除水裝置6,所述的真空除水裝置6設(shè)置在高壓清洗機2與烘干機3之間,而噴砂機1、高壓清洗機2、真空除水裝置6和烘干機3兩兩之間通過自動傳送線7順序連接在 一起,此外,總控制系統(tǒng)分別與噴砂機1、高壓清洗機2、真空除水裝置6和烘干機3中的分 控制系統(tǒng)連通。
本發(fā)明只需要在進料和出料位置需要工作人員5進行操作,其他的處理過程都是 通過總控制系統(tǒng)來進行控制而自動進行的,即料件首先進入噴砂機1,經(jīng)噴砂處理后,通過 自動傳送線7進入高壓清洗機2,清洗除塵后進入真空除水裝置6做真空除水處理,然后再 經(jīng)自動傳動線7進入烘干機3進行烘干,本發(fā)明大量節(jié)省了人力、物力,縮短了前處理工藝 流程,實現(xiàn)了標準化自動化生產(chǎn),提高產(chǎn)品的品質(zhì)。以上已以較佳實施例公開了本發(fā)明,然其并非用以限制本發(fā)明,凡采用等同替換 或者等效變換方式所獲得的技術(shù)方案,均落在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置,包括噴砂機(1)、高壓清洗機(2)和烘干機(3),其特征在于,還包括真空除水裝置(6),所述的真空除水裝置(6)設(shè)置在高壓清洗機(2)與烘干機(3)之間,而噴砂機(1)、高壓清洗機(2)、真空除水裝置(6)和烘干機(3)兩兩之間通過自動傳送線(7)順序連接在一起,此外,總控制系統(tǒng)分別與噴砂機(1)、高壓清洗機(2)、真空除水裝置(6)和烘干機(3)中的分控制系統(tǒng)連通。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種噴砂、水洗、烘干自動化一體裝置,包括噴砂機、高壓清洗機和烘干機,還包括真空除水裝置,所述的真空除水裝置設(shè)置在高壓清洗機與烘干機之間,而噴砂機、高壓清洗機、真空除水裝置和烘干機兩兩之間通過自動傳送線順序連接在一起,此外,總控制系統(tǒng)分別與噴砂機、高壓清洗機、真空除水裝置和烘干機中的分控制系統(tǒng)連通。
文檔編號C23C14/02GK101818329SQ201010167758
公開日2010年9月1日 申請日期2010年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月10日
發(fā)明者黃國興 申請人:赫得納米科技(昆山)有限公司
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