專利名稱：一種真空吸盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種硅片吸取裝置，尤其涉及在磨削機(jī)狹窄的磨 削腔體內(nèi)能夠非常方便、迅速、安全地取出硅片的真空吸盤。
背景技術(shù)：
在硅片磨削制造流程中，由于磨削砂輪高速旋轉(zhuǎn)，為了保證機(jī)器 和操作人員的安全性，這一加工過程一般設(shè)計(jì)在一密封腔體內(nèi)完成。 在加工時(shí)，由于可能出現(xiàn)的某些情況，例如機(jī)器突然斷電、真空壓力 不足等，使得硅片停留在磨削腔體中，此時(shí)磨削機(jī)需要檢査出故障原 因后才能重新啟動(dòng)，停留在磨削機(jī)腔體內(nèi)的硅片需要人工手動(dòng)取出， 但由于磨削機(jī)腔體空間狹小，而且固定硅片部件具有一定高度，硅片 狀態(tài)像是嵌入在一加工面里，使得普通真空吸盤無法與硅片表面完全 平行接觸，導(dǎo)致不能吸取硅片。同時(shí)操作人員由于個(gè)人自身熟練程度， 身體狀況等方面的客觀因素影響，在取片過程中如果使用的力度、姿 勢(shì)不對(duì)，使得硅片在被取出過程中難免碰撞到周圍部件而造成硅片破 碎。為了避免普通真空吸盤在狹窄的磨削腔體內(nèi)無法與硅片表面完全 平行接觸，導(dǎo)致不能取出硅片，同時(shí)也避免操作人員人工手動(dòng)取片帶 來的效率下降，硅片損失問題。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型目的是提供一種真空吸盤，能夠在磨削機(jī)狹窄的磨削 腔體內(nèi)非常方便、迅速、安全地取出硅片。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案這種真空吸 盤包括一截面為"凸"字形的圓柱體支架，一V型圈， 一本體，截面為 "凸"字形的圓柱體支架設(shè)一氣流通道，本體為一中空通氣管，于本體 側(cè)面設(shè)一突出端口，突出的端口中空并與本體通氣管連通，本體側(cè)面 突出的端口插入截面為"凸"字形的圓柱體支架上的氣流通道實(shí)現(xiàn)氣 流連通。圓柱體支架用于固定V型圈和連接本體，V型圈固定在圓柱體 支架上。本體作為手持部分，于本體側(cè)面設(shè)一突出端口，突出的端口 中空并與本體通氣管連通，突出的端口插入圓柱體支架上的氣流通道
實(shí)現(xiàn)氣流連通。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)本實(shí)用新型在吸取停留在機(jī)器狹窄腔體內(nèi)的 硅片時(shí)，避免普通真空吸盤無法與硅片表面完全平行接觸，不能吸取 硅片的弊端；也避免操作人員由于個(gè)人自身熟練程度，身體狀況等方 面的客觀因素影響，在取片過程中如果使用的力度、姿勢(shì)不對(duì)，使得 硅片在取出過程中碰撞到周圍部件而造成硅片破碎。同時(shí)在磨削腔體 內(nèi)吸取硅片時(shí)由于眼睛很難或不能看清楚，而本實(shí)用新型中的V型 圈由軟性橡膠材料制成，首先接觸硅片能夠起緩沖作用，避免吸盤吸 附面對(duì)硅片表面造成劃傷。


圖1為本實(shí)用新型真空吸盤的分解示意圖。
圖2為本實(shí)用新型真空吸盤的組合示意圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖1和圖2，一種磨削機(jī)用真空吸盤，其包括一截面為"凸" 字形的圓柱體支架l， 一V型圈(V-ring) 2， 一本體3。截面為"凸，， 字形的圓柱體支架1由兩個(gè)直徑不同的圓柱體I和圓柱體II構(gòu)成，圓 柱體I和圓柱體II為一整體。圓柱體I具有一定厚度T((XT^50mm), 圓柱體I直徑等于V型圈2的外徑；圓柱體II厚度T1等于V型圈2 內(nèi)側(cè)高度H。 V型圈2由軟性橡膠材料制成，V型圈2的內(nèi)徑略小于 圓柱體II直徑，V型圈2固定在圓柱體II上。截面為"凸"字形的圓柱 體支架1設(shè)一氣流通道1-1，本體3作為手持部分，本體3具有足夠 長(zhǎng)度(即便于操作的長(zhǎng)度)，本體3為一中空通氣管，于本體側(cè)面設(shè) 置一突出端口3-l，突出的端口 3-1中空并與本體3通氣管連通，突 出的端口 3-1插入圓柱體支架1上的氣流通道1-1實(shí)現(xiàn)氣流連通。
當(dāng)吸取在磨削腔里的硅片時(shí)，圓柱體I具有一定厚度T，該厚度大于硅片周圍固定硅片部件的高度，在腔體內(nèi)吸取硅片時(shí)由于眼睛很 難或不能看清楚，吸盤直接接觸硅片時(shí)，V型圈2由軟性橡膠材料制 成，首先接觸硅片能夠起緩沖作用，避免吸盤對(duì)硅片表面造成損傷。
同時(shí)由軟性橡膠材料制成的V型圈2與硅片完全接觸后形成一吸附
空間，抽真空時(shí)，吸附空間壓力減小，形成真空吸力，硅片被吸取。
權(quán)利要求1. 一種真空吸盤，其特征在于它包括一截面為“凸”字形的圓柱體支架，一V型圈，一本體，截面為“凸”字形的圓柱體支架設(shè)一氣流通道，本體為一中空通氣管，于本體側(cè)面設(shè)一突出端口，突出的端口中空并與本體通氣管連通，本體側(cè)面突出的端口插入截面為“凸”字形的圓柱體支架上的氣流通道實(shí)現(xiàn)氣流連通。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸盤，其特征在于截面為"凸" 字形的圓柱體支架由兩個(gè)直徑不同的圓柱體I和圓柱體II構(gòu)成，圓柱 體I和圓柱體II為一整體。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空吸盤，其特征在于圓柱體I的 厚度T為0<TS50mm。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空吸盤，其特征在于V型圈由軟 性橡膠材料制成，V型圈內(nèi)側(cè)高度等于圓柱體II高度，V型圈固定在 圓柱體II上。
專利摘要一種真空吸盤，它包括一截面為“凸”字形的圓柱體支架，一V型圈，一本體，截面為“凸”字形的圓柱體支架設(shè)一氣流通道，本體為一中空通氣管，于本體側(cè)面設(shè)一突出端口，突出的端口中空并與本體通氣管連通，本體側(cè)面突出的端口插入截面為“凸”字形的圓柱體支架上的氣流通道實(shí)現(xiàn)氣流連通。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在吸取停留在機(jī)器狹窄腔體內(nèi)的硅片時(shí)，避免普通真空吸盤無法與硅片表面完全平行接觸，不能吸取硅片的弊端；也避免操作人員在取片過程中如果使用的力度、姿勢(shì)不對(duì)，使得硅片在取出過程中碰撞到周圍部件而造成硅片破碎。設(shè)置V型圈由軟性橡膠材料制成，首先接觸硅片能夠起緩沖作用，避免吸盤吸附面對(duì)硅片表面造成劃傷。
文檔編號(hào)B24B7/22GK201287284SQ200820110098
公開日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2008年8月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月21日
發(fā)明者庫黎明, 張國(guó)棟, 盛方毓, 索思卓, 鐘 葛, 閆志瑞, 陳海濱, 黃軍輝 申請(qǐng)人:北京有色金屬研究總院;有研半導(dǎo)體材料股份有限公司