本發(fā)明涉及材料加工技術(shù)領(lǐng)域，具體而言涉及一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法及裝置。

背景技術(shù)：

隨著手機(jī)等電子設(shè)備的智能化發(fā)展和普及，人們對(duì)其外觀的要求越來越高，因此為了提高市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力和吸引更多消費(fèi)者，電子設(shè)備殼體的外觀也相當(dāng)重要。例如，對(duì)于當(dāng)前電子設(shè)備外觀的審美主流并深受消費(fèi)者喜愛的金屬殼體，為了改變殼體外觀單調(diào)的情況，業(yè)界通常采用曝光顯影并結(jié)合砂化工藝處理以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的雙光澤外觀效果。但是此種工藝需要涂布光阻、曝光、蝕刻、顯影、砂化等流程，工藝流程比較復(fù)雜，導(dǎo)致生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率較低，尤為重要的是，該工藝所制得的紋理較為粗糙。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法及裝置，能夠在實(shí)現(xiàn)金屬殼體雙光澤外觀效果的同時(shí)，以較為簡(jiǎn)單的工藝實(shí)現(xiàn)精細(xì)紋理，有利于提高生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率。

本發(fā)明一實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法，包括：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤；對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

可選地，所述對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理的步驟，包括：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第一顏色的氧化膜；對(duì)經(jīng)過第一次氧化處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理。

可選地，所述對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理的步驟之后，所述方法還包括：對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行第二次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第二顏色的氧化膜，所述第二顏色與所述第一顏色不相同。

可選地，第二次氧化處理和第一次氧化處理均為導(dǎo)電陽極氧化處理。

可選地，所述對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理的步驟，包括：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行炫光工藝處理；對(duì)經(jīng)過炫光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理。

本發(fā)明一實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的裝置，包括：拋光機(jī)構(gòu)，用于對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤；鐳雕機(jī)構(gòu)，用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

可選地，所述裝置還包括第一次氧化處理機(jī)構(gòu)，第一次氧化處理機(jī)構(gòu)用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第一顏色的氧化膜，而后鐳雕機(jī)構(gòu)用于對(duì)經(jīng)過第一次氧化處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理。

可選地，所述裝置還包括第二次氧化處理機(jī)構(gòu)，用于對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行第二次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第二顏色的氧化膜，所述第二顏色與所述第一顏色不相同。

可選地，第二次氧化處理和第一次氧化處理均為導(dǎo)電陽極氧化處理。

可選地，所述裝置還包括炫光機(jī)構(gòu)，所述炫光機(jī)構(gòu)用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行炫光工藝處理，而后第一次氧化處理機(jī)構(gòu)用于對(duì)經(jīng)過炫光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理。

有益效果：本發(fā)明實(shí)施例通過對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理以形成第一種光澤即鏡面光澤，對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材表面進(jìn)行鐳雕工藝處理以形成紋理，該紋理光澤與鏡面光澤不同，即通過鐳雕工藝形成第二種光澤，從而實(shí)現(xiàn)金屬殼體雙光澤外觀效果，并且相比較于曝光顯影并結(jié)合砂化工藝，鐳雕工藝的加工精度高且設(shè)備操作智能化，因此能夠以較為簡(jiǎn)單的工藝實(shí)現(xiàn)精細(xì)紋理，有利于提高生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法的流程示意圖；

圖2是本發(fā)明第二實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法的流程示意圖；

圖3是本發(fā)明第三實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法的流程示意圖；

圖4是本發(fā)明第四實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法的流程示意圖；

圖5是本發(fā)明第五實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法的流程示意圖；

圖6是本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的裝置一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明所提供的各個(gè)示例性的實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。在不沖突的情況下，下述各個(gè)實(shí)施例以及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

請(qǐng)參閱圖1，為本發(fā)明第一實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法。所述方法可以包括如下步驟s11和s12。

s11：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。

所述金屬基材為鋁合金但不限于各個(gè)牌號(hào)，例如可以為電子終端常用的5052、5083、6061、6063、7056。當(dāng)然，該金屬基材也可以為其他單一金屬基材或各種金屬合金基材。另外，該金屬基材包括但不限于電子終端的殼體，該電子終端可以為智能手機(jī)、pda(personaldigitalassistant，個(gè)人數(shù)字助理或平板電腦)等移動(dòng)終端，也可以是佩戴于肢體或者嵌入于衣物、首飾、配件中的可穿戴設(shè)備，還可以是其他采用金屬外殼的智能電子設(shè)備。

對(duì)于體積較大或外表面平整面積較大的金屬基材，本實(shí)施例可以采用機(jī)械式拋光工藝，例如，采用帆布、毛氈和/或皮革等疊制而成的拋光輪，并結(jié)合拋光機(jī)對(duì)金屬基材表面進(jìn)行拋光工藝處理。

而對(duì)于體積較小或外表面平整面積較小的金屬基材，本實(shí)施例可以采用化學(xué)式拋光工藝。所謂化學(xué)式拋光工藝指的是金屬基材表面通過有規(guī)則的溶解實(shí)現(xiàn)表面平滑光亮。例如，在化學(xué)式拋光過程中，由于鋼鐵零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率，而且鋼鐵零件表面鈍化氧化膜的溶解和形成始終同時(shí)進(jìn)行，只是其速率有差異，綜合結(jié)果使得鋼鐵零件表面逐漸由粗糙變?yōu)楣饣⒆罱K獲得平滑光亮的表面。

當(dāng)然，本實(shí)施例也可以采用電解式拋光工藝。具體地，以被拋光的金屬基材為陽極，不溶性的金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到裝有電解液的電解槽中，電解液淹沒兩極，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，從而使得金屬基材的表面光亮度增大，最終達(dá)到鏡面效果。

對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理之后，金屬基材的表面可視為一鏡面，該鏡面光澤可以為金屬基材本身具有的光澤。

s12：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

本發(fā)明一實(shí)施例可以利用激光器發(fā)射的高強(qiáng)度聚焦激光束照射需要雕刻紋理之處，使得紋理處的金屬基材發(fā)生氧化，由于氧化后的金屬基材光反射效果不同于氧化前的光反射效果，因此紋理光澤不同于上述鏡面光澤。

由此可知，本實(shí)施通過對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，可以形成第一種光澤即鏡面光澤，對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材表面進(jìn)行鐳雕工藝處理，可以形成第二種光澤，以此實(shí)現(xiàn)金屬殼體雙光澤外觀效果。相比較于利用曝光顯影并結(jié)合砂化工藝形成的雙光澤外觀效果，鐳雕工藝的加工精度高且設(shè)備操作智能化，因此能夠以較為簡(jiǎn)單的工藝實(shí)現(xiàn)精細(xì)紋理，有利于提高生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率。

本發(fā)明另一實(shí)施例可以在前述實(shí)現(xiàn)金屬殼體雙光澤外觀效果的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)單色外觀效果，如圖2所示的本發(fā)明第二實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法，包括如下步驟s21～s23。

s21：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。

s22：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

s23：對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有預(yù)定顏色的氧化膜。

本實(shí)施例可以將具有雙光澤外觀效果的金屬基材作為陽極，不溶性的金屬作為陰極，兩極同時(shí)浸入到裝有電解液的電解槽中，電解液可以為硫酸等酸性溶液且淹沒兩極，通以直流電而使電解液發(fā)生電解反應(yīng)，從而在金屬基材的表面形成一層氧化膜。該氧化膜的形成過程可視為金屬基材的著色過程，以此實(shí)現(xiàn)金屬殼體的單色雙光澤外觀效果。

請(qǐng)參閱圖3，為本發(fā)明第三實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法。所述方法可以包括如下步驟s31～s34。

s31：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。

s32：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第一顏色的氧化膜。

s33：對(duì)經(jīng)過第一次氧化處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

s34：對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行第二次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第二顏色的氧化膜，第一顏色與第二顏色不相同。

在前述圖2所述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，但與其不同的是，本實(shí)施例在對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理之后還進(jìn)行了一次氧化處理，即步驟s32所述的第一次氧化處理，對(duì)應(yīng)地，步驟s24中的第二次氧化處理為第二次氧化處理。這兩次氧化處理的工藝原理可以相同，例如均為導(dǎo)電陽極氧化處理。第一次氧化處理后，金屬基材處于非導(dǎo)電狀態(tài)，通過鐳雕工藝處理破壞氧化膜后，使紋理之處由非導(dǎo)電狀變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)，可以繼續(xù)第二次氧化處理。無論兩次氧化處理采用何種工藝，只需兩次所形成的氧化膜的顏色不相同即可，例如第二次氧化處理和第一次氧化處理均為導(dǎo)電陽極氧化處理時(shí)，兩者的電解液相同，陽極氧化處理的時(shí)間不同，染色缸中的色料不同，使得著色不同，即可實(shí)現(xiàn)第一顏色與第二顏色不同。

請(qǐng)參閱圖4，為本發(fā)明第四實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法。所述方法可以包括如下步驟s41～s45。

s41：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。

s42：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行炫光工藝處理。

s43：對(duì)經(jīng)過炫光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第一顏色的氧化膜。

s44：對(duì)經(jīng)過第一次氧化處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

s45：對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行第二次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第二顏色的氧化膜，第一顏色與第二顏色不相同。

與圖3所示實(shí)施例的不同之處在于，本實(shí)施例可以對(duì)拋光后的金屬表面進(jìn)行炫光工藝處理，增強(qiáng)鏡面光澤的質(zhì)感，從而產(chǎn)生預(yù)設(shè)的光引效果，例如產(chǎn)生cd紋光引效果、太陽紋光引效果。

同理，本發(fā)明也可以在實(shí)現(xiàn)單色雙光澤外觀效果的制程中增加炫光工藝，具體請(qǐng)參閱圖5所示的方法，包括：

s51：對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中所述金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。

s52：對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行炫光工藝處理。

s53：對(duì)經(jīng)過炫光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

s54：對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有預(yù)定顏色的氧化膜。

請(qǐng)參閱圖6，為本發(fā)明一實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的裝置。所述裝置60可以包括拋光機(jī)構(gòu)61和鐳雕機(jī)構(gòu)62。拋光機(jī)構(gòu)61用于對(duì)金屬基材進(jìn)行拋光工藝處理，以得到表面光滑的金屬基材，其中金屬基材的光滑表面具有鏡面光澤。鐳雕機(jī)構(gòu)62用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理，以在金屬基材的表面形成紋理，所述紋理光澤與所述鏡面光澤不同。

在另一實(shí)施例中，所述裝置60還可以包括第一次氧化處理機(jī)構(gòu)63。第一次氧化處理機(jī)構(gòu)63用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第一顏色的氧化膜。而后，鐳雕機(jī)構(gòu)62對(duì)經(jīng)過第一次氧化處理的金屬基材進(jìn)行鐳雕工藝處理。

為了實(shí)現(xiàn)金屬基材雙色雙光澤外觀效果，本發(fā)明一實(shí)施例的所述裝置60還可以包括第二次氧化處理機(jī)構(gòu)64。第二次氧化處理機(jī)構(gòu)64用于對(duì)經(jīng)過鐳雕工藝處理的金屬基材進(jìn)行第二次氧化處理，以在金屬基材的表面形成一層具有第二顏色的氧化膜，第二顏色與第一顏色不相同。

其中，第一次氧化處理機(jī)構(gòu)63和第二次氧化處理機(jī)構(gòu)64對(duì)金屬基材的氧化工藝原理可以相同，例如均為導(dǎo)電陽極氧化處理。無論兩者采用何種工藝，只需兩次所形成的氧化膜的顏色不相同即可，例如第二次氧化處理和第一次氧化處理均為導(dǎo)電陽極氧化處理時(shí)，兩者的電解液相同，陽極氧化處理的時(shí)間不同，染色缸中的色料不同，使得著色不同，即可實(shí)現(xiàn)第一顏色與第二顏色不同。

為了增強(qiáng)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材的鏡面光澤的質(zhì)感，從而產(chǎn)生預(yù)設(shè)的光引效果，例如產(chǎn)生cd紋光引效果、太陽紋光引效果，本發(fā)明一實(shí)施例的所述裝置60可以包括炫光機(jī)構(gòu)65。所述炫光機(jī)構(gòu)65用于對(duì)經(jīng)過拋光工藝處理的金屬基材進(jìn)行炫光工藝處理，而后第一次氧化處理機(jī)構(gòu)63對(duì)經(jīng)過炫光工藝處理的金屬基材進(jìn)行第一次氧化處理。

本發(fā)明實(shí)施例的所述裝置60的上述結(jié)構(gòu)元件對(duì)應(yīng)執(zhí)行上述各個(gè)實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)金屬基材表面雙光澤的方法，具有與其相同的技術(shù)效果。

應(yīng)該理解到，上述裝置60的劃分為一種邏輯功能劃分，實(shí)際實(shí)現(xiàn)時(shí)各個(gè)結(jié)構(gòu)元件可以采用具體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方式，并且，各個(gè)結(jié)構(gòu)元件之間或者與裝置60的處理器之間的連接可以通過一些接口，也可以是電性或其它形式予以實(shí)現(xiàn)。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，例如各實(shí)施例之間技術(shù)特征的相互結(jié)合，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。