專(zhuān)利名稱(chēng)：真空容器及采用真空容器的電子發(fā)射顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空容器，特別是涉及具有內(nèi)置隔離物以預(yù)定距離隔開(kāi)第一和第二基板的真空容器，以及采用該真空容器的電子發(fā)射顯示裝置。
背景技術(shù)：
一般來(lái)說(shuō)，電子發(fā)射裝置分為采用熱陰極作為電子發(fā)射源的電子發(fā)射裝置和采用冷陰極作為電子發(fā)射源的電子發(fā)射裝置。冷陰極電子發(fā)射裝置的類(lèi)型有多種，包括場(chǎng)發(fā)射陣列(FEA)型、金屬-絕緣層-金屬(MIM)型、金屬-絕緣層-半導(dǎo)體(MIS)型和表面?zhèn)鲗?dǎo)發(fā)射器(SCE)型。
盡管電子發(fā)射裝置根據(jù)其類(lèi)型的具體結(jié)構(gòu)不同，但是它們都基本上具有形成在基板上的電子發(fā)射區(qū)，以及控制開(kāi)/關(guān)和從電子發(fā)射區(qū)發(fā)射出的電子的數(shù)量的驅(qū)動(dòng)電極。該電子發(fā)射裝置可以用作光源的電子發(fā)射結(jié)構(gòu)，如背光或圖像顯示裝置。
就采用電子發(fā)射裝置的電子發(fā)射顯示裝置的典型結(jié)構(gòu)而言，電子發(fā)射區(qū)和驅(qū)動(dòng)電極形成在第一基板上，而熒光層形成在面向第一基板的第二基板的表面上，并具有陽(yáng)極將該熒光層在高電位狀態(tài)。在該第一和第二基板的周邊，采用密封構(gòu)件將它們密封在一起，并且抽空其內(nèi)部來(lái)形成真空容器以便電子可以在其內(nèi)部順利地發(fā)射和遷移。由于真空容器內(nèi)部和外部之間的壓力差，因此有強(qiáng)壓力施加在該真空容器上。多個(gè)隔離物提供在該真空容器內(nèi)以防止由于壓力而導(dǎo)致真空容器破碎。該隔離物用粘附層連接到該第一和第二基板中的任一個(gè)上，并且同該電子發(fā)射區(qū)和該熒光層設(shè)置在有源區(qū)域內(nèi)。
就這種真空容器而言，當(dāng)隔離物安置于第一和第二基板之一上并且其內(nèi)部抽空之后，該隔離物和不含層間粘附層且彼此隔開(kāi)的該第一和第二基板中的另一個(gè)保持彼此緊密接觸，從而對(duì)隔離物施加了壓緊力，并且隔離物由于該壓緊易于破裂。
該電子發(fā)射顯示裝置還包括有源區(qū)域和密封構(gòu)件之間不能顯示圖像的非有源區(qū)域。在抽空后，對(duì)于施加在該第一和第二基板上的壓力的分配而言，施加在非有源區(qū)域上的壓力大于施加在有源區(qū)域上的壓力。這是由于在非有源區(qū)域中沒(méi)有吸收和承受該兩個(gè)基板壓力的結(jié)構(gòu)。因此，由于非有源區(qū)域中相對(duì)大的壓力的作用，在該真空容器中可能會(huì)出現(xiàn)裂縫。
由于隔離物用粘附層連接到基板上，因此其相對(duì)于基板的粘附力就相對(duì)小。因此，在抽氣工藝中，有些隔離物會(huì)傾斜或從基板上脫離，從而施加在該真空容器上的壓力沒(méi)有均勻分配。結(jié)果，傾斜的隔離物可能阻塞電子束的通道，從而使顯示性能劣化。而且，由于壁式隔離物具有高的斷面高寬比和長(zhǎng)度，因此它們易于扭曲。由于這個(gè)原因，在采用壁式隔離物的真空容器中，隔離物在抽氣后可能會(huì)扭曲或傾斜。因此，需要用于真空容器和具有該真空容器的電子發(fā)射顯示裝置的改進(jìn)的設(shè)計(jì)，其能更好地承受和吸收由于真空容器造成的壓力，同時(shí)克服上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的一個(gè)目的是提供改進(jìn)的真空容器的設(shè)計(jì)和改進(jìn)的采用該真空容器的電子發(fā)射顯示器的設(shè)計(jì)。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供真空容器和采用該真空容器的電子發(fā)射顯示裝置，其中該真空容器可以阻止由于在抽氣工藝中施加到隔離物上的壓緊而引起的隔離物破裂。
本發(fā)明再一個(gè)目的是提供真空容器，其可以減小施加到第一和第二基板的非有源區(qū)域上的壓力，從而阻止該真空容器裂縫的發(fā)生。
本發(fā)明又一個(gè)目的是提供真空容器和采用該真空容器的電子發(fā)射顯示裝置，其中該真空容器可以增加隔離物相對(duì)于第一或第二基板的粘附力，從而防止隔離物從基板上傾斜或脫離。
這些和其它目的可以通過(guò)如下的真空容器和采用該真空容器的電子發(fā)射顯示裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種真空容器，包括第一和第二基板，彼此相對(duì)并且延伸穿過(guò)有源區(qū)域和圍繞該有源區(qū)域的非有源區(qū)域；密封構(gòu)件，設(shè)置在該第一和第二基板的周邊并且用于保持該兩塊基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，設(shè)置在該第一和第二基板之間，且延伸穿過(guò)該有源區(qū)域；和多個(gè)隔離物支撐，其設(shè)置在該第一和第二基板之間的非有源區(qū)域中，該多個(gè)隔離物支撐包括多個(gè)凹槽用于容放壁式隔離物的各個(gè)的端部，每個(gè)隔離物支撐的高度等于或大于該多個(gè)壁式隔離物的高度。
每個(gè)所述多個(gè)隔離物支撐都可以包括所述多個(gè)凹槽之一，其用于容放所述多個(gè)壁式隔離物之一的一端，每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物對(duì)應(yīng)于兩個(gè)所述多個(gè)隔離物支撐，一個(gè)用于所述多個(gè)壁式隔離物之一的一端。該真空容器可以包括兩個(gè)隔離物支撐，每個(gè)所述兩個(gè)隔離物支撐都包括多個(gè)凹槽，其用于容放所述的多個(gè)壁式隔離物中對(duì)應(yīng)的隔離物的端部。彼此相對(duì)設(shè)置并且其間設(shè)置有多個(gè)壁式隔離物之一的該多個(gè)凹槽中的一對(duì)凹槽之間的距離可以大于所述多個(gè)壁式隔離物的對(duì)應(yīng)隔離物的長(zhǎng)度。每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物和每個(gè)所述的隔離物支撐的高度差不超過(guò)每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物高度的10％。該真空容器還可以包括用于連接該多個(gè)隔離物支撐到該第一和第二基板之一上的粘合劑。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種電子發(fā)射顯示裝置，包括第一和第二基板，其彼此相對(duì)并且延伸穿過(guò)有源區(qū)域和圍繞該有源區(qū)域的非有源區(qū)域；電子發(fā)射單元，其設(shè)置在該有源區(qū)域內(nèi)和該第一基板上；發(fā)光單元，其設(shè)置在該有源區(qū)域內(nèi)和該第二基板上；密封構(gòu)件，其設(shè)置在該第一和第二基板的周邊并且用于保持該兩塊基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，其設(shè)置在該第一和第二基板之間，且延伸穿過(guò)該有源區(qū)域；多個(gè)隔離物支撐，其設(shè)置在該第一和第二基板之間的非有源區(qū)域中，該多個(gè)隔離物支撐包括多個(gè)用于結(jié)合多個(gè)壁式隔離物中各個(gè)的端部的凹槽，每個(gè)隔離物支撐的高度等于或大于該多個(gè)壁式隔離物的高度。
每個(gè)所述多個(gè)隔離物支撐可以包括所述多個(gè)凹槽之一，其用于容放所述多個(gè)壁式隔離物之一的一端，每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物都對(duì)應(yīng)于兩個(gè)所述多個(gè)隔離物支撐，每個(gè)隔離物支撐對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)壁式隔離物之一的每端。該電子發(fā)射顯示裝置可以包括兩個(gè)隔離物支撐，每個(gè)所述兩個(gè)隔離物支撐都包括多個(gè)凹槽，其用于容放所述多個(gè)壁式隔離物中對(duì)應(yīng)的隔離物的端部。彼此相對(duì)設(shè)置并且其間設(shè)置有多個(gè)壁式隔離物之一的該多個(gè)凹槽中的一對(duì)凹槽之間的距離可以大于所述多個(gè)壁式隔離物的對(duì)應(yīng)隔離物的長(zhǎng)度。每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物和每個(gè)所述隔離物支撐的高度差不能超過(guò)每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物高度的10％。該電子發(fā)射顯示裝置還可以包括用于連接該多個(gè)隔離物支撐到該第一和第二基板之一上的粘合劑。該電子顯示單元可以包括用于發(fā)射電子的多個(gè)電子發(fā)射區(qū)和用于控制該多個(gè)電子發(fā)射區(qū)中電子發(fā)射的驅(qū)動(dòng)電極，該發(fā)光單元可以包括多個(gè)熒光層和用于施與高電位到該多個(gè)熒光層上的陽(yáng)極。
根據(jù)本發(fā)明另一方面，提供了一種電子發(fā)射顯示裝置，包括第一基板，其面向第二基板并與之隔開(kāi)，并且跨過(guò)有源區(qū)域和圍繞該有源區(qū)域的非有源區(qū)域；電子發(fā)射單元，其設(shè)置在該有源區(qū)域內(nèi)的該第一基板上；發(fā)光單元，其設(shè)置在該有源區(qū)域內(nèi)的第二基板上；密封構(gòu)件，其設(shè)置在該第一和第二基板的周邊和該非有源區(qū)域中，該密封構(gòu)件用于保持該第一和第二基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，其設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間并且延伸穿過(guò)所述有源區(qū)域，所述多個(gè)壁式隔離物用于保持將所述第一基板與第二基板隔開(kāi)，并且吸收和承受作用在所述第一基板和第二基板上的有源區(qū)域中由于所述第一基板和第二基板之間的真空所造成的壓力；多個(gè)隔離物支撐，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間的非有源區(qū)域內(nèi)且在所述多個(gè)壁式隔離物的端部，所述多個(gè)壁式隔離物用于保持將所述第一基板與所述第二基板空間隔開(kāi)，并且吸收和承受作用在所述第一基板和第二基板上的非有源區(qū)域中由于所述第一基板和第二基板之間的所述真空所造成的壓力。
每個(gè)該多個(gè)隔離物支撐可以寬于每個(gè)該多個(gè)壁式隔離物。每個(gè)該多個(gè)隔離物支撐可以高于每個(gè)該多個(gè)壁式隔離物小于每個(gè)壁式隔離物高度的10％。該多個(gè)壁式隔離物可以具有條形式樣。每個(gè)該多個(gè)隔離物支撐可以包括一個(gè)凹槽，其用于容放每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物的一端。每個(gè)該多個(gè)隔離物支撐可以包括多個(gè)凹槽，其用于容放對(duì)應(yīng)的多個(gè)壁式隔離物的一端。


結(jié)合附圖，并參考下面的詳細(xì)描述，將會(huì)對(duì)本發(fā)明有更加完整的理解，并且其附帶的優(yōu)點(diǎn)會(huì)更加明顯和更加容易理解，其中，同樣的參考標(biāo)號(hào)代表同樣或類(lèi)似的元件，在附圖中圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子發(fā)射顯示裝置的分解透視圖。
圖2是圖1所示該電子發(fā)射顯示裝置沒(méi)有第二基板的結(jié)構(gòu)元件的平面圖。
圖3A是圖1中的該電子發(fā)射顯示裝置一部分的局部分解透視圖。
圖3B是圖1中的該電子發(fā)射顯示裝置一部分的局部平面圖。
圖4是圖1中展示的該隔離物和該隔離物支撐的放大透視圖。
圖5是該隔離物和該隔離物支撐的透視圖，其圖解了隔離物支撐的第一變體。
圖6和圖7是用于電子發(fā)射顯示裝置的真空容器的部分截面圖，其圖解了抽氣工藝。
圖8是該隔離物和該隔離物支撐的透視圖，其圖解了隔離物支撐的第二變體。
圖9是根據(jù)隔離物支撐的第二變體的電子發(fā)射顯示裝置沒(méi)有第二基板的結(jié)構(gòu)元件的平面圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在轉(zhuǎn)向圖1和2，該電子發(fā)射顯示裝置具有真空容器100，該真空容器100包括以預(yù)定距離彼此隔開(kāi)的第一基板2和第二基板4，和沿著第一基板2和第二基板4的周邊設(shè)置以便把基板密封在一起的密封構(gòu)件6。抽空該真空容器100的內(nèi)部并且將其保持10-6Torr的壓力。
電子發(fā)射單元提供在面向該第二基板4的該第一基板2的表面上，并且向該第二基板4發(fā)射電子。發(fā)光單元提供在面向該第一基板2的該第二基板4的表面上，并且當(dāng)其受到從該電子發(fā)射單元發(fā)射出的電子的碰撞時(shí)發(fā)射可見(jiàn)光，從而產(chǎn)生顯示的可見(jiàn)圖像。
現(xiàn)在轉(zhuǎn)向圖3A，圖3A是圖1中的該電子發(fā)射顯示裝置100的局部分解透視圖，其圖示了用于FEA型電子發(fā)射顯示裝置的電子發(fā)射單元26和發(fā)光單元28。如圖3A所示，在該FEA型電子發(fā)射顯示裝置100中，陰極8為第一電極，柵電極10為第二電極。該陰極8和柵電極10在第一基板2上彼此交叉并且在它們之間設(shè)置有第一絕緣層12。電子發(fā)射區(qū)14形成在該陰極8上的柵電極10和陰極8相交叉之處。在對(duì)應(yīng)于各個(gè)電子發(fā)射區(qū)14的第一絕緣層12和柵電極10中形成有開(kāi)口。這些開(kāi)口使該電子發(fā)射區(qū)14外露。
該電子發(fā)射區(qū)14由在真空氣氛下施加電場(chǎng)時(shí)可以發(fā)射電子的材料制造?？梢杂迷陔娮影l(fā)射區(qū)14中的這種材料的例子為含碳材料和納米尺寸材料?？梢杂迷陔娮影l(fā)射區(qū)14中的材料的具體例子包括碳納米管、石墨、石墨納米纖維、金剛石、類(lèi)金剛石碳、C60、硅納米線或其組合。該陰極8和該柵電極10起到控制該電子發(fā)射區(qū)14發(fā)射電子的驅(qū)動(dòng)電極的作用。
盡管柵電極10如圖3A所示設(shè)置在第一基板2上的陰極8之上，介于其間設(shè)置第一絕緣層12，但是也可以將柵電極12設(shè)置在陰極8之下，介于其間設(shè)置第一絕緣層12。當(dāng)該柵電極10設(shè)置在該陰極8的下方時(shí)，該電子發(fā)射區(qū)14設(shè)置成接觸該第一絕緣層12上的陰極8的側(cè)面。
回到該柵電極10形成在陰極8上時(shí)的情況，聚焦電極16形成在柵電極10的頂部上和第一絕緣層12的頂部上。該聚焦電極16作為第三電極。第二絕緣層18設(shè)置在聚焦電極16的下方以將聚焦電極16和柵電極10絕緣。在第二絕緣層18和該聚焦電極16中形成有開(kāi)口以便電子束通過(guò)。
圖3B是圖1中的該電子發(fā)射顯示裝置100的局部平面圖?，F(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖3A和3B，在第二基板4上的發(fā)光單元28中，熒光層20和涂黑層(black layers)22形成在面向該第一基板2的第二基板4的表面。陽(yáng)極24形成在該熒光層20的上方和該涂黑層22的上方?？梢杂媒饘俨牧?如鋁)作為該陽(yáng)極24。該陽(yáng)極24接收用于加速該電子束的高電壓。該陽(yáng)極24也可以用于反射從該熒光層20放射出的可見(jiàn)光，該光從第二基板4射向第一基板2，從而增強(qiáng)熒光屏的亮度。
作為對(duì)上述情況的變化，該陽(yáng)極24可以用透明導(dǎo)電材料替代制造，如氧化銦錫(ITO)。當(dāng)該陽(yáng)極24透明時(shí)，該陽(yáng)極置于面向該第二基板4的熒光層20和涂黑層22的一側(cè)。此外，該陽(yáng)極24可以構(gòu)圖成具有多個(gè)單獨(dú)的部分。再或者，陽(yáng)極24可以形成為具有透明導(dǎo)體材料基層和金屬材料基層的雙層結(jié)構(gòu)。
該電子發(fā)射單元26和該發(fā)光單元28的結(jié)構(gòu)不只是限于上述圖解或描述的情況。而且，根據(jù)本發(fā)明的電子發(fā)射顯示裝置不只是限于FEA型裝置，而是可以為另外的類(lèi)型，如SCE型、MIM型或MIS型，并且都在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
該第一基板2和第二基板4中設(shè)置電子發(fā)射單元26和發(fā)光單元28的區(qū)域(即產(chǎn)生圖像的區(qū)域)被稱(chēng)為有源區(qū)域30。非有源區(qū)域32設(shè)置在有源區(qū)域30的外部，在有源區(qū)域30和密封構(gòu)件6之間。在該非有源區(qū)域32中提供有抽氣孔、電極線和吸氣劑(未示出)。
通過(guò)上述結(jié)構(gòu)，多個(gè)壁式隔離物34設(shè)置在該第一基板2和第二基板4之間，同時(shí)延伸穿過(guò)有源區(qū)域30。隔離物支撐36還設(shè)置在每個(gè)壁式隔離物34的每一端。該隔離物支撐36設(shè)置在非有源區(qū)域32內(nèi)部并且包含容放該隔離物34的端部的凹槽38。
如圖2所圖解，每個(gè)隔離物34的長(zhǎng)度長(zhǎng)于該隔離物34延伸穿過(guò)的有源區(qū)域30的長(zhǎng)度。盡管圖2展示了每個(gè)隔離物34以有源區(qū)域30的長(zhǎng)軸的方向延伸穿過(guò)該有源區(qū)域30，但是每個(gè)隔離物也可以以該有源區(qū)域30的短軸的方向延伸，并且仍然在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。該隔離物34的寬度應(yīng)該足夠小，以便在熒光屏上看不見(jiàn)它們。該隔離物34設(shè)置在相鄰的柵電極10之間，從而對(duì)應(yīng)于涂黑層22，這樣該隔離物34沒(méi)有阻擋電子束和從熒光層20發(fā)射出的光。
如圖4和5所圖解，一對(duì)隔離物支撐36對(duì)應(yīng)于每個(gè)隔離物34。隔離物支撐36設(shè)置在每個(gè)隔離物34的每一端。凹槽38形成在該隔離物支撐36的側(cè)面。這些凹槽38面向有源區(qū)域30。在隔離物支撐36中的凹槽38用于保持隔離物支撐34的端部。此外，該隔離物支撐36用粘合劑連接到第一基板2和第二基板4之一上。然后該隔離物34置于該隔離物支撐36的凹槽38中。
該隔離物支撐36的高度可以與該隔離物34的高度相同或略高于該隔離物34。該隔離物支撐36用于吸收和承受在該非有源區(qū)域32中施加到該第一基板2和第二基板4上的壓力。圖4圖解了隔離物支撐36的高度與隔離物34的高度相同的情況。圖5中圖解了隔離物支撐36’的高度略高于隔離物34的高度的情況。
當(dāng)設(shè)置該隔離物支撐36’的高度大于該隔離物34的高度時(shí)，該隔離物支撐36’承受非有源區(qū)域32中施加到第一基板2和第二基板4上的壓力的沖擊，同時(shí)該隔離物34承受有源區(qū)域30中施加到該第一基板2和第二基板4上的壓力的沖擊，從而防止了非有源區(qū)域32中出現(xiàn)過(guò)大的壓力。因此，即使在完成抽氣工藝后，該第一基板2和第二基板4仍然處于穩(wěn)態(tài)，并且使有源區(qū)域30和非有源區(qū)域32之間的壓力差最小化。此外，在抽氣工藝中，當(dāng)如圖5中隔離物支撐36’的高度大于隔離物34的高度時(shí)，隔離物支撐36’也可以用于減小在抽氣過(guò)程中施加到該隔離物34上的壓緊。
現(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖6和7，圖6和7圖解了在抽氣過(guò)程中隔離物支撐36′怎樣減小對(duì)隔離物34的壓力。如圖6所示，在抽氣之前，隔離物34和隔離物支撐36′形成在該第一基板2上，并且第一基板2和第二基板4通過(guò)密封構(gòu)件6彼此密封。當(dāng)通過(guò)抽氣孔(未示出)抽空該密封的基板2和4的內(nèi)部時(shí)，由于在第二基板4和隔離物支撐36′之間出現(xiàn)第一壓緊，因此第二基板4與隔離物支撐36′緊密接觸。
如圖7所示，隨著抽氣的進(jìn)行，由于第二基板4和隔離物支撐34之間出現(xiàn)第二壓緊，該真空容器內(nèi)部和外部的壓力差導(dǎo)致該第二基板4與該隔離物34形成緊密接觸。施加壓力的位置和方向由圖6和7上的箭頭標(biāo)示。
由于在該真空容器的抽氣工藝中第一壓緊施加在隔離物支撐36’上而非隔離物34上，因此該隔離物支撐36’減小了施加到該隔離物34的壓緊，從而有效防止了由于在抽氣工藝中施加到其上的壓緊而造成的隔離物34的破碎或傾斜。該隔離物支撐36’和該隔離物34之間的高度差優(yōu)選為隔離物34的高度的10％或更小，使得由于隔離物支撐36’和隔離物34之間的高度差而造成第二基板4中的裂縫得以避免。
同時(shí)，與該隔離物34相比，由于該隔離物支撐36′設(shè)置在非有源區(qū)域32中，因此可以設(shè)計(jì)該隔離物支撐36′使其寬度大于該隔離物34。優(yōu)選地，只要該隔離物支撐36′不會(huì)造成真空容器和該電子發(fā)射顯示裝置的重量的增加，該隔離物支撐36′可盡量地寬。
現(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖8，圖8展示了該隔離物支撐36”的又一種替換設(shè)計(jì)。如圖8所示，該隔離物支撐36”可以集成為一個(gè)單體，每個(gè)單體都包括多個(gè)凹槽38，該多個(gè)凹槽38同時(shí)沿有源區(qū)域30的長(zhǎng)軸或短軸的方向延伸。當(dāng)該隔離物支撐36”具有這樣的集成結(jié)構(gòu)時(shí)，該隔離物支撐36”可以更有效地用于吸收和承受非有源區(qū)域32中的壓力。
現(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖9，圖9展示了設(shè)置在第一基板2上圖8的該隔離物支撐36”。在圖9中，該單體隔離物支撐36”與該有源區(qū)域30的短軸方向平行設(shè)置(如，圖中y軸方向)，并且隔離物34插入該隔離物支撐36”中的凹槽中。
本發(fā)明另外一種設(shè)計(jì)構(gòu)思關(guān)于相對(duì)支撐隔離物之間的距離。如分別具有隔離物支撐36、36’和36”的圖4、5和8所示，彼此相對(duì)放置的該凹槽38之間的距離略大于該隔離物34的長(zhǎng)度，以便留出該隔離物34可以在縱向移動(dòng)的余量空間。設(shè)置這個(gè)余量空間的目的為如果溫度升高就會(huì)導(dǎo)致該隔離物34的膨脹，而該隔離物34可以在該凹槽38的這個(gè)余量空間內(nèi)膨脹，從而防止了隔離物的扭曲和破裂。
該隔離物34可以由陶瓷、玻璃、玻璃陶瓷混合物、陶瓷帶、陶瓷片或陶瓷加強(qiáng)玻璃之一制造。該隔離物支撐36、36’和36”可以由熱膨脹系數(shù)等于或接近該隔離物34的熱膨脹系數(shù)的材料制造。因此該隔離物支撐36、36’和36”可以用與該隔離物34同樣的材料制造。
盡管前文已經(jīng)詳細(xì)描述了本發(fā)明的示范性實(shí)施例，但是應(yīng)該清楚地理解，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員對(duì)在此提出的基本發(fā)明思想所作的多種變化和/或修改仍然在權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種真空容器，包括第一基板和第二基板，彼此相對(duì)并且延伸穿過(guò)有源區(qū)域和圍繞所述有源區(qū)域的非有源區(qū)域；密封構(gòu)件，設(shè)置在所述第一基板和第二基板的周邊，并且用于保持所述兩塊基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間，并延伸穿過(guò)所述有源區(qū)域；和多個(gè)隔離物支撐，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間的非有源區(qū)域中，所述多個(gè)隔離物支撐包括用于容放所述多個(gè)壁式隔離物中各個(gè)的端部的多個(gè)凹槽，每個(gè)所述隔離物支撐的高度等于或大于所述多個(gè)壁式隔離物的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的真空容器，其中，每個(gè)所述隔離物支撐都包括一個(gè)用于容放所述壁式隔離物一端的凹槽，并且每個(gè)所述壁式隔離物對(duì)應(yīng)于一對(duì)所述隔離物支撐。
3.如權(quán)利要求1所述的真空容器，其中，所述真空容器包括兩個(gè)隔離物支撐，所述兩個(gè)隔離物支撐中每個(gè)都包括多個(gè)凹槽，所述多個(gè)凹槽用于容放所述多個(gè)壁式隔離物中對(duì)應(yīng)的隔離物的端部。
4.如權(quán)利要求1所述的真空容器，其中，彼此相對(duì)設(shè)置且其間設(shè)置有所述多個(gè)壁式隔離物之一的所述多個(gè)凹槽中的一對(duì)之間的距離大于所述多個(gè)壁式隔離物之一的長(zhǎng)度。
5.如權(quán)利要求1所述的真空容器，其中，所述多個(gè)壁式隔離物中每個(gè)和所述隔離物支撐中每個(gè)的高度差不超過(guò)所述多個(gè)壁式隔離物中每個(gè)的高度的10％。
6.如權(quán)利要求1所述的真空容器，還包括用于連接所述多個(gè)隔離物支撐到所述第一基板和第二基板之一上的粘合劑。
7.一種電子發(fā)射顯示裝置，包括第一基板和第二基板，彼此相對(duì)且延伸穿過(guò)有源區(qū)域和圍繞所述有源區(qū)域的非有源區(qū)域；電子發(fā)射單元，設(shè)置在所述有源區(qū)域內(nèi)并在所述第一基板上；發(fā)光單元，設(shè)置在所述有源區(qū)域內(nèi)并在所述第二基板上；密封構(gòu)件，設(shè)置在所述第一基板和第二基板的周邊并且用于保持所述第一和第二基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間，且延伸穿過(guò)所述有源區(qū)域；和多個(gè)隔離物支撐，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間的非有源區(qū)域中，所述多個(gè)隔離物支撐包括用于容放所述多個(gè)壁式隔離物中各個(gè)的端部的多個(gè)凹槽，每個(gè)所述隔離物支撐的高度等于或大于所述多個(gè)壁式隔離物的高度。
8.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，其中，每個(gè)所述隔離物支撐包括一個(gè)用于容放所述壁式隔離物一端的凹槽，并且每個(gè)所述壁式隔離物都對(duì)應(yīng)于一對(duì)所述隔離物支撐。
9.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，其中，所述電子發(fā)射顯示裝置包括兩個(gè)隔離物支撐，所述兩個(gè)隔離物支撐中每個(gè)都具有多個(gè)凹槽，每個(gè)所述凹槽用于容放所述多個(gè)壁式隔離物中對(duì)應(yīng)的一個(gè)的一端。
10.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，其中，彼此相對(duì)設(shè)置且其間設(shè)置有所述多個(gè)壁式隔離物之一的所述多個(gè)凹槽的一對(duì)之間的距離大于所述多個(gè)壁式隔離物之一的長(zhǎng)度。
11.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，其中，每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物和每個(gè)所述隔離物支撐之間的高度差不超過(guò)每個(gè)所述多個(gè)壁式隔離物高度的10％。
12.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，還包括用于連接所述多個(gè)隔離物支撐到所述第一基板和第二基板之一的粘合劑。
13.如權(quán)利要求7所述的電子發(fā)射顯示裝置，其中，所述電子發(fā)射單元包括用于發(fā)射電子的多個(gè)電子發(fā)射區(qū)和用于控制所述多個(gè)電子發(fā)射區(qū)中的電子發(fā)射的驅(qū)動(dòng)電極，其中所述發(fā)光單元包括多個(gè)熒光層和用于施與高電位到所述多個(gè)熒光層上的陽(yáng)極。
14.一種電子發(fā)射顯示裝置，包括第一基板，與第二基板分隔并面向所述第二基板，并且跨過(guò)有源區(qū)域和圍繞所述有源區(qū)域的非有源區(qū)域；電子發(fā)射單元，設(shè)置在所述有源區(qū)域內(nèi)的第一基板上；發(fā)光單元，設(shè)置在所述有源區(qū)域內(nèi)的第二基板上；密封構(gòu)件，設(shè)置在所述第一基板和第二基板的周邊及所述非有源區(qū)域中，所述密封構(gòu)件用于保持所述第一基板和第二基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間并且延伸穿過(guò)所述有源區(qū)域，所述多個(gè)壁式隔離物用于保持將所述第一基板與第二基板隔開(kāi)，并且吸收和承受作用在所述第一基板和第二基板上的有源區(qū)域中由于所述第一基板和第二基板之間的真空所造成的壓力；和多個(gè)隔離物支撐，設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間的非有源區(qū)域內(nèi)且在所述多個(gè)壁式隔離物的端部，所述多個(gè)壁式隔離物用于保持將所述第一基板與所述第二基板隔開(kāi)，并且吸收和承受作用在所述第一基板和第二基板上的非有源區(qū)域中由于所述第一基板和第二基板之間的所述真空所造成的壓力。
15.如權(quán)利要求14所述的電子發(fā)射顯示裝置，所述多個(gè)隔離物支撐中每個(gè)寬于所述多個(gè)壁式隔離物中每個(gè)的寬度。
16.如權(quán)利要求14所述的電子發(fā)射顯示裝置，所述多個(gè)隔離物支撐中每個(gè)高于所述多個(gè)壁式隔離物中每個(gè)不超過(guò)每個(gè)所述壁式隔離物的高度的10％。
17.如權(quán)利要求14所述的電子發(fā)射顯示裝置，所述多個(gè)壁式隔離物具有條形式樣。
18.如權(quán)利要求14所述的電子發(fā)射顯示裝置，所述多個(gè)隔離物支撐中每個(gè)包括一個(gè)凹槽，用于容放所述多個(gè)壁式隔離物之一的一端。
19.如權(quán)利要求14所述的電子發(fā)射顯示裝置，所述多個(gè)隔離物支撐中每個(gè)包括多個(gè)凹槽，用于容放對(duì)應(yīng)的多個(gè)壁式隔離物的一端。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空容器，其包括第一和第二基板，彼此相對(duì)并且延伸穿過(guò)有源區(qū)域和圍繞該有源區(qū)域的非有源區(qū)域；密封構(gòu)件，其設(shè)置在該第一和第二基板的周邊并且用于保持該兩塊基板之間的真空；多個(gè)壁式隔離物，其設(shè)置在該第一和第二基板之間而延伸穿過(guò)該有源區(qū)域；多個(gè)隔離物支撐，其設(shè)置在該第一和第二基板之間的非有源區(qū)域中，該多個(gè)隔離物支撐包括多個(gè)用于容放每個(gè)壁式隔離物的端部的凹槽，每個(gè)隔離物支撐的高度等于或大于該多個(gè)壁式隔離物的高度。
文檔編號(hào)H01J29/02GK1959914SQ200610136259
公開(kāi)日2007年5月9日 申請(qǐng)日期2006年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月31日
發(fā)明者徐亨喆 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社