紫外光。此外，作為照明光，例如也可以是:例如利用摻雜有鉺(或者鉺和鐿這雙方)的光纖放大器將從DFB半導(dǎo)體激光或光纖激光器振蕩出的紅外域、或可視范圍的單一波長激光放大，使用非線形光學(xué)晶體朝紫外光進行波長轉(zhuǎn)換而得到的高次諧波。此外，也可以使用固體激光(波長:355nm、266nm)等。
[0083]此外，對投影光學(xué)系統(tǒng)16是具有多個光學(xué)系統(tǒng)的多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)的情況進行了說明，但投影光學(xué)系統(tǒng)的個數(shù)不限于此，也可以是I個以上。此外，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)限，也可以是使用奧夫納型大型鏡的投影光學(xué)系統(tǒng)等。此外，作為投影光學(xué)系統(tǒng)16，可以是放大類或縮小類。
[0084]此外，作為掩模臺裝置，例如可以是美國專利第8，159，649號說明書中公開那樣的、使形成有2種掩模圖案的掩模適當在Y軸方向上步進移動，由此，不進行掩模更換即可選擇性地將上述2種掩模圖案轉(zhuǎn)印到基板上的掩模臺裝置。在該情況下，與上述實施方式相比，可以使上述第I?第4實施方式的掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的寬度形成得較大。
[0085]此外，作為曝光裝置的用途，不限于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印到角型玻璃板的液晶用的曝光裝置，例如可以廣泛應(yīng)用于有機EL(Electro-Luminescence:電致發(fā)光)面板制造用的曝光裝置、半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、用于制造薄膜磁頭、微型機械和DNA芯片等的曝光裝置。此外，不僅可以應(yīng)用于制造半導(dǎo)體元件等微型器件的曝光裝置，也可以應(yīng)用于為了制造在光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置和電子線曝光裝置等使用的掩?；蚬庋谀６虿ＡЩ寤蚬杈绒D(zhuǎn)印電路圖案的曝光裝置。
[0086]此外，作為曝光對象的物體不限于玻璃板，例如也可以是晶片、陶瓷基板、膜部件或掩模板等其它物體。此外，在曝光對象物為平板顯示器用的基板的情況下，該基板的厚度沒有特別限定，例如包含膜狀(具有可撓性的片狀的部件)在內(nèi)的物體。此外，在基板曝光對象物的一個邊的長度或?qū)蔷€長度為500mm以上的情況下，本實施方式的曝光裝置特別有效。
[0087]液晶顯示元件(或半導(dǎo)體元件)等電子器件是通過如下等步驟制造的:進行器件的功能/性能設(shè)計的步驟；制作基于該設(shè)計步驟的掩模(或中間掩模)的步驟；制作玻璃基板(或晶片)的步驟；利用上述各實施方式的曝光裝置及其曝光方法，將掩模(中間掩模)的圖案轉(zhuǎn)印到玻璃基板上的光刻步驟；對曝光的玻璃基板進行顯影的顯影步驟；利用蝕刻，將殘留有抗蝕劑的部分以外的部分的露出部件去除的蝕刻步驟；將完成蝕刻而變得不需要的抗蝕劑去除的抗蝕劑去除步驟；器件組裝步驟；以及檢查步驟。在該情況下，在光刻步驟中，使用上述實施方式的曝光裝置，執(zhí)行上述曝光方法，在玻璃基板上形成器件圖案，因此，能夠生產(chǎn)率高地制造高集成度的器件。
[0088]此外，援引與在到此為止的說明中引用的曝光裝置等相關(guān)的美國專利申請公開說明書和美國專利說明書的全部公開內(nèi)容，將其作為本說明書所記載的一部分。
[0089][產(chǎn)業(yè)上的可利用性]
[0090]如以上說明的那樣，本發(fā)明的曝光方法適合于使圖案保持體相對于能量束相對移動。此外，本發(fā)明的平板顯示器的制造方法適合于平板顯示器的生產(chǎn)。此外，本發(fā)明的器件制造方法適合于微型器件的生產(chǎn)。
[0091]標號說明
[0092]10...液晶曝光裝置、14...掩模臺裝置、40...掩模導(dǎo)流構(gòu)件，46...開口部、60...掩模保持裝置、IL...照明光，M...掩模，P...基板。
【主權(quán)項】
1.一種曝光方法，其包含如下步驟: 使具有規(guī)定圖案的圖案保持體的上表面與支承部件的下表面相對，其中，該支承部件能夠以非接觸方式從重力方向上側(cè)懸垂支承該圖案保持體； 使所述圖案保持體以非接觸方式懸垂支承在所述支承部件上； 使能夠保持所述圖案保持體的保持部件保持懸垂支承在所述支承部件上的所述圖案保持體； 使用所述保持部件，使所述圖案保持體至少在規(guī)定的2維平面內(nèi)的掃描方向上相對于能量束移動，并且，相對于所述能量束，在所述掃描方向上驅(qū)動曝光對象物體，將所述圖案轉(zhuǎn)印到所述曝光對象物體上； 在維持所述支承部件對所述圖案保持體的懸垂支承的狀態(tài)下，解除所述保持部件對所述圖案保持體的保持；以及 使解除了所述保持部件的保持的所述圖案保持體的上表面與所述支承部件的下表面分咼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其中， 在所述轉(zhuǎn)印中，使所述能量束通過形成于所述支承部件的開口部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光方法，其中， 在所述相對和所述分離中，使所述圖案保持體相對于所述支承部件，在與所述2維平面相交的方向上移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述相對和所述分離中，使用共同的輸送裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述保持中，在所述圖案保持體的下表面?zhèn)龋顾霰３植考乃鰭呙璺较虻囊粋?cè)朝另一側(cè)滑動，由此將該保持部件配置在所述圖案保持體的下方， 在所述保持的解除中，在所述圖案保持體的下表面?zhèn)?，使所述保持部件從所述掃描方向的另一?cè)朝一側(cè)滑動，由此，使該保持部件從所述圖案保持體的下方退避。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其中， 在所述相對和所述分離中，使用沿著所述掃描方向具有多個可動部件的圖案保持體輸送裝置，其中，上述可動部件被設(shè)置為能夠在支承所述圖案保持體的下表面的第I位置與從該圖案保持體的下表面分離的第2位置之間移動， 在所述保持和所述保持的解除中，根據(jù)所述保持部件的沿著所述掃描方向的位置，使多個所述可動部件從所述第I位置退避到所述第2位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1?6中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述相對和所述保持的解除中，使所述圖案保持體與所述支承部件的下表面的第I區(qū)域相對， 在所述轉(zhuǎn)印中，使所述圖案保持體沿著所述支承部件的下表面的與所述第I區(qū)域不同的第2區(qū)域移動。
8.根據(jù)權(quán)利要求1?7中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述轉(zhuǎn)印中，在所述2維平面內(nèi)，在與所述掃描方向垂直的方向和繞垂直于所述2維平面的軸的方向上，相對于所述能量束對所述圖案保持體進行微細驅(qū)動。
9.根據(jù)權(quán)利要求1?8中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述懸垂支承中，使所述支承部件吸引所述支承部件的所述下表面與所述圖案保持體的所述上表面之間的氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1?8中的任意一項所述的曝光方法，其中， 在所述懸垂支承中，使氣體高速地通過所述支承部件的所述下表面與所述圖案保持體的上表面之間，由此，使在重力方向上朝上的力作用于所述圖案保持體。
11.根據(jù)權(quán)利要求1?10中的任意一項所述的曝光方法，其中， 所述曝光對象物體是在平板顯示器裝置中使用的基板。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其中， 所述基板的至少一個邊的長度或?qū)蔷€長度為500mm以上。
13.一種平板顯示器的制造方法，其包含如下步驟: 使用權(quán)利要求11或12所述的曝光方法，對所述曝光對象物體進行曝光；以及 對曝光后的所述曝光對象物體進行顯影。
14.一種器件制造方法，其包含如下步驟: 使用權(quán)利要求1?10中的任意一項所述的曝光方法，對所述曝光對象物體進行曝光；以及 對曝光后的所述曝光對象物體進行顯影。
【專利摘要】曝光方法包含如下步驟：使具有掩模圖案的掩模(M)的上表面與掩模導(dǎo)流構(gòu)件(40)的下表面相對；使掩模(M)以非接觸方式懸垂支承在掩模導(dǎo)流構(gòu)件(40)上；使掩模保持裝置(60)保持懸垂支承在掩模導(dǎo)流構(gòu)件(40)上的掩模(M)；使用掩模保持裝置(60)，使掩模(M)在掃描方向上相對于曝光用照明光移動，并且，相對于曝光用照明光而在掃描方向上驅(qū)動作為曝光對象物體的基板，將掩模圖案轉(zhuǎn)印到基板上。
【IPC分類】H01L21-677, G03F7-20, H01L21-027
【公開號】CN104662481
【申請?zhí)枴緾N201380049848
【發(fā)明人】青木保夫, 原篤史
【申請人】株式會社 尼康
【公開日】2015年5月27日
【申請日】2013年8月5日
【公告號】WO2014024465A1