2b形成為YZ截面呈倒U字狀，與對(duì)應(yīng)的X線性導(dǎo)軌52a—同構(gòu)成例如美國(guó)專利第6，761，482號(hào)說(shuō)明書(shū)中公開(kāi)那樣的機(jī)械式X線性導(dǎo)軌裝置52。此外，在X工作臺(tái)62的下表面，以與上述X磁鐵單元54a隔著規(guī)定的間隙相對(duì)的方式固定有X線圈單元54b。X線圈單元54b與X磁鐵單元54a —同構(gòu)成例如美國(guó)專利第8，030，804號(hào)說(shuō)明書(shū)中公開(kāi)那樣的X線性電機(jī)54。
[0049]X工作臺(tái)62經(jīng)由包含X線性電機(jī)54的X工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)在襯板50上沿X軸方向進(jìn)行直進(jìn)驅(qū)動(dòng)。此外，用于沿X軸方向驅(qū)動(dòng)X工作臺(tái)62的X致動(dòng)器的種類沒(méi)有特別限定，例如可以使用包含固定在襯板50上的絲杠部和固定在X工作臺(tái)62上的螺母部的進(jìn)給絲杠裝置、帶(或繩索等)驅(qū)動(dòng)裝置等。X工作臺(tái)62的X位置信息由未圖示的線性編碼器系統(tǒng)(或光干涉儀系統(tǒng))求出。
[0050]X音圈電機(jī)64X (在圖3中，-Y側(cè)的掩模保持裝置60的X音圈電機(jī)64X隱藏在Y音圈電機(jī)64Y的紙面進(jìn)深側(cè)。參照?qǐng)D4)包含:經(jīng)由安裝板63固定在X工作臺(tái)62的上表面的固定件部64a ;以及固定在吸附保持部66的滑動(dòng)部件66b上的可動(dòng)件部64b?？蓜?dòng)件部64b形成為YZ截面呈U字狀，在一對(duì)相對(duì)面之間插入有固定件部64a?？蓜?dòng)件部64b例如在一對(duì)相對(duì)面上具有磁鐵單元，固定件部64a例如具有線圈單元。向線圈單元提供的電流的方向和大小由未圖示的主控制裝置控制。掩模保持裝置60能夠利用作用于X音圈電機(jī)64X的磁鐵單元與線圈單元之間的X軸方向的洛倫茲力，使吸附保持部66的滑動(dòng)部件66b相對(duì)于X工作臺(tái)62而在X軸方向上以微小的行程進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。此外，掩模保持裝置60能夠使用上述洛倫茲力來(lái)引導(dǎo)吸附保持部66，使其與X工作臺(tái)62 —體地在X軸方向上移動(dòng)。[0051 ] Y音圈電機(jī)64Y (在圖3中，+Y側(cè)的掩模保持裝置60的Y音圈電機(jī)64Y隱藏在X音圈電機(jī)64X的紙面進(jìn)深側(cè)。參照?qǐng)D4)除了產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力(推力)的方向不同這點(diǎn)以外，是與上述X音圈電機(jī)64X相同的結(jié)構(gòu)，因此省略說(shuō)明。掩模保持裝置60能夠利用作用于Y音圈電機(jī)64Y的磁鐵單元與線圈單元之間的Y軸方向的洛倫茲力，使吸附保持部66的滑動(dòng)部件66b相對(duì)于X工作臺(tái)62而在Y軸方向上以微小的行程進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。此外，在本實(shí)施方式中，X音圈電機(jī)64X和Y音圈電機(jī)64Y獨(dú)立地配置，但也可以使用能夠任意地產(chǎn)生X軸方向和/或Y軸方向的洛倫茲力的2自由度音圈電機(jī)。
[0052]吸附保持部66具有吸附墊66a、滑動(dòng)部件66b、管軸承66c。在本實(shí)施方式中，如圖4所示，相對(duì)于一個(gè)掩模保持裝置60，在X軸方向上以規(guī)定間隔例如設(shè)置兩個(gè)吸附墊66a，但吸附墊66a的數(shù)量不限于此，而可以根據(jù)例如掩模M的大小適當(dāng)變更。返回到圖3，吸附墊66a由YZ截面大致為L(zhǎng)字狀的部件構(gòu)成，且將一端部配置為相比襯板50而朝掩模M側(cè)突出。掩模M的上述余白區(qū)域(未形成有掩模圖案的區(qū)域)由吸附墊66a從下方支承。吸附墊66a與配置在掩模臺(tái)裝置14的外部的真空裝置連接，能夠使用從該真空裝置提供的真空吸引力吸附保持掩模M。
[0053]滑動(dòng)部件66b由在X軸方向上延伸的俯視時(shí)呈T字狀(參照?qǐng)D4)的板狀部件構(gòu)成，且配置在X工作臺(tái)62的上方。滑動(dòng)部件66b的一端一體地連接在吸附墊66a的另一端部附近。此外，在滑動(dòng)部件66b的另一端，固定有上述X音圈電機(jī)64X和Y音圈電機(jī)64Y的可動(dòng)件部64b。
[0054]管軸承66c由XZ截面呈矩形的筒狀的部件構(gòu)成，在由內(nèi)壁面規(guī)定的XZ截面呈矩形的貫通孔內(nèi)，以相對(duì)于該內(nèi)壁面隔著規(guī)定的間隙的方式插入有上述滑動(dòng)部件66b。管軸承66c與配置在掩模臺(tái)裝置14的外部的未圖示的加壓氣體提供裝置連接，從在上述內(nèi)壁面的上下表面上形成的多個(gè)微小孔部向滑動(dòng)部件66b的上下表面噴出加壓氣體?；瑒?dòng)部件66b借助上述加壓氣體的靜壓，以非接觸方式支承在管軸承66c上。此處，在X軸方向上，在管軸承66c的內(nèi)壁面與滑動(dòng)部件66b之間，形成有允許滑動(dòng)部件66b相對(duì)于管軸承66c以微小的行程相對(duì)移動(dòng)的程度的間隙(與此相對(duì)，Z位置受到限制)。
[0055]管軸承66c經(jīng)由軸66e，以規(guī)定的角度在θ x方向上自如轉(zhuǎn)動(dòng)的方式支承于固定在X工作臺(tái)62上的軸承板66d。軸66e的Z位置被設(shè)定為:在被吸附墊66a吸附保持的掩模M懸垂支承于掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的狀態(tài)下，滑動(dòng)部件66b (和吸附墊66a的墊面)與XY平面大致平行。與此相對(duì)，組合吸附墊66a和滑動(dòng)部件66b而成的系統(tǒng)的Y軸方向的重心位置被設(shè)定為比上述軸66e靠掩模M側(cè)，例如，如圖7(B)所示，在送入掩模M時(shí)、在送出掩模M時(shí)等，在吸附墊66a不吸附保持掩模M的狀態(tài)下，管軸承66c、滑動(dòng)部件66b和吸附墊66a因自重而一體地轉(zhuǎn)動(dòng)(旋轉(zhuǎn))，吸附墊66a的一端部側(cè)(墊面?zhèn)?與另一端部側(cè)相比，處于向下方下降的狀態(tài)。不過(guò)，X音圈電機(jī)64X和Y音圈電機(jī)64Y各自的可動(dòng)件部64b插入在固定于安裝板63上的一對(duì)限位器板65之間，在X音圈電機(jī)64X和Y音圈電機(jī)64Y中，防止固定件部64a與可動(dòng)件部64b的接觸。
[0056]氣缸68a被用于限制X工作臺(tái)62和滑動(dòng)部件66b在X軸和Y軸方向上的相對(duì)移動(dòng)。分別在+Y側(cè)的X工作臺(tái)62的上表面上的-Y側(cè)的端部附近和-Y側(cè)的X工作臺(tái)62的上表面上的+Y側(cè)的端部附近，以在X軸方向上分離方式設(shè)置有例如兩個(gè)氣缸68a(在圖3中紙面進(jìn)深方向重合。(參照?qǐng)D5))。在氣缸68a的桿末端固定有球68b。此外，在滑動(dòng)部件66b的下表面，在與氣缸68a對(duì)應(yīng)的位置，由朝下表面?zhèn)葦U(kuò)大的錐面形成規(guī)定的凹部68c (參照?qǐng)D4) ο
[0057]在圖3所示的球68b從對(duì)應(yīng)的凹部68c脫離的狀態(tài)下，允許X工作臺(tái)62和滑動(dòng)部件66b在X軸和Y軸方向上的相對(duì)移動(dòng)(滑動(dòng)部件66b能夠相對(duì)于X工作臺(tái)62略微進(jìn)行驅(qū)動(dòng))，與此相對(duì)，在球68b插入到對(duì)應(yīng)的凹部68c內(nèi)(嵌合)的狀態(tài)下，限制X工作臺(tái)62和滑動(dòng)部件66b在X軸和Y軸方向上的相對(duì)移動(dòng)。此外，在球68b插入到對(duì)應(yīng)的凹部68c內(nèi)的狀態(tài)下，通過(guò)使該球68b上下移動(dòng)，能夠使滑動(dòng)部件66b (即吸附墊66a)繞軸66e轉(zhuǎn)動(dòng)(旋轉(zhuǎn))。
[0058]此外，氣缸68a在掩模臺(tái)裝置14的初始化動(dòng)作時(shí)被使用。在掩模臺(tái)裝置14的初始化動(dòng)作時(shí)，包含將X工作臺(tái)62、滑動(dòng)部件66b等定位于掩模位置計(jì)測(cè)系統(tǒng)的計(jì)測(cè)原點(diǎn)位置的動(dòng)作。此時(shí)，成為球68b與由錐面規(guī)定的凹部68c嵌合的結(jié)構(gòu)，因此，能夠使X工作臺(tái)62與滑動(dòng)部件66b再現(xiàn)性良好地對(duì)齊位置。
[0059]如圖3所示，關(guān)于由掩模臺(tái)裝置14驅(qū)動(dòng)的掩模M的XY平面內(nèi)的位置信息(也包含Θ z方向的旋轉(zhuǎn)量信息)，可利用掩模導(dǎo)流構(gòu)件40中內(nèi)置的多個(gè)編碼器頭70，使用在掩模M的上表面上形成的2維光柵72來(lái)求出。2維光柵72形成為在X軸方向上延伸的帶狀，在掩模M的+Y側(cè)和-Y側(cè)的端部附近，形成在與掩模圖案不重合(與照明光IL(參照?qǐng)D1)的光路不干涉)的位置。2維光柵72包含以X軸方向?yàn)橹芷诜较虻腦衍射光柵(X比例尺)和以Y軸方向?yàn)橹芷诜较虻腨衍射光柵(Y比例尺)。如圖5所示，分別在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的+Y側(cè)和-Y側(cè)的端部附近，以不依賴于掩模M的X位置而始終能夠與2維光柵72相對(duì)的間隔配置至少一個(gè)編碼器頭70。此外，掩模位置計(jì)測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不限于此，例如也可以是光干涉儀系統(tǒng)、編碼器系統(tǒng)和光干涉儀系統(tǒng)的組合，或者，也可以基于圖像傳感器的輸出來(lái)求出掩模M的位置信息。
[0060]在如上所述構(gòu)成的液晶曝光裝置10(參照?qǐng)D2)中，在未圖示的主控制裝置的管理下，通過(guò)掩模裝載裝置90進(jìn)行掩模M對(duì)掩模臺(tái)裝置14的載置，并且，通過(guò)未圖示的基板裝載機(jī)，進(jìn)行基板P對(duì)基板臺(tái)裝置20的載置。然后，由主控制裝置使用未圖示的校準(zhǔn)檢測(cè)系執(zhí)行校準(zhǔn)計(jì)測(cè)，在該校準(zhǔn)計(jì)測(cè)結(jié)束后，在設(shè)定在基板P上的多個(gè)照射區(qū)域中，逐次進(jìn)行步進(jìn)-掃描式的曝光動(dòng)作。
[0061]此處，在液晶曝光裝置10中，根據(jù)在基板P上形成的掩模圖案，適當(dāng)進(jìn)行掩模M的更換。以下，使用圖6(A)?圖7(C)，對(duì)包含保持在掩模臺(tái)裝置14上的掩模M的更換動(dòng)作在內(nèi)的掩模裝載裝置90和掩模臺(tái)裝置14的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
[0062]圖6㈧示出了在掩模臺(tái)裝置14上未保持有掩模M的狀態(tài)的液晶曝光裝置10。掩模保持裝置60在比掩模更換區(qū)域稍靠+X側(cè)待機(jī)。此外，在掩模裝載裝置90中，由掩模輸送裝置94從掩模收容器92取出掩模M0