曝光方法、平板顯示器的制造方法和器件制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及曝光方法、平板顯示器的制造方法和器件制造方法，更具體而言，涉及使圖案保持體相對(duì)于能量束而在掃描方向上相對(duì)移動(dòng)的曝光方法、使用所述曝光方法的平板顯示器的制造方法和使用所述曝光方法的器件制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，在制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件(集成電路等)等電子器件(微型器件)的光刻工序中，使用了如下步進(jìn)-掃描式曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)曝光機(jī)(也稱作掃描曝光機(jī)))等:使掩模(光掩模)或掩模板(以下統(tǒng)稱為“掩?！?和玻璃板或晶片(以下統(tǒng)稱為“基板”)沿著規(guī)定的掃描方向(掃描方向)同步移動(dòng)，并使用能量束將在掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。
[0003]在這種曝光裝置中，使用了如下掩模臺(tái)裝置:通過(guò)對(duì)吸附保持掩模的端部的框狀的部件(稱作掩模架等)進(jìn)行位置控制，由此進(jìn)行掩模的位置控制(參照例如專利文獻(xiàn)I)。
[0004]此處，隨著近年來(lái)的基板的大型化，掩模也存在大型化的趨勢(shì)。由此，掩模的自重引起的燒曲(或振動(dòng))可能給曝光精度帶來(lái)影響。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:美國(guó)專利申請(qǐng)公開第2008/0030702號(hào)說(shuō)明書

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]用于解決問(wèn)題的手段
[0009]本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的，基于第I觀點(diǎn)，成為包含如下步驟的曝光方法:使具有規(guī)定圖案的圖案保持體的上表面與支承部件的下表面相對(duì)，其中，該支承部件能夠以非接觸方式從重力方向上側(cè)懸垂支承該圖案保持體；使所述圖案保持體以非接觸方式懸垂支承在所述支承部件上；使能夠保持所述圖案保持體的保持部件保持懸垂支承在所述支承部件上的所述圖案保持體；使用所述保持部件，使所述圖案保持體至少在規(guī)定的2維平面內(nèi)的掃描方向上相對(duì)于能量束移動(dòng)，并且，相對(duì)于所述能量束，在所述掃描方向上驅(qū)動(dòng)曝光對(duì)象物體，將所述圖案轉(zhuǎn)印到所述曝光對(duì)象物體上；在維持所述支承部件對(duì)所述圖案保持體的懸垂支承的狀態(tài)下，解除所述保持部件對(duì)所述圖案保持體的保持；使解除了所述保持部件的保持的所述圖案保持體的上表面與所述支承部件的下表面分離。
[0010]由此，在圖案保持體相對(duì)于能量束相對(duì)移動(dòng)時(shí)，其上表面以非接觸方式懸垂支承在支承部件上，因此，抑制了撓曲(或振動(dòng))。此外，在圖案保持體懸垂支承于支承部件的狀態(tài)下，進(jìn)行保持部件對(duì)圖案保持體的保持及該保持的解除，因此，與將圖案保持體交接給直接保持部件的情況下和從保持部件直接回收?qǐng)D案保持體的情況相比，圖案保持體的更換動(dòng)作變得簡(jiǎn)單。
[0011]根據(jù)第2觀點(diǎn)，本發(fā)明是包含如下步驟的平板顯示器的制造方法:使用本發(fā)明的第I觀點(diǎn)的曝光方法，對(duì)所述曝光對(duì)象物體進(jìn)行曝光；以及對(duì)曝光后的所述曝光對(duì)象物體進(jìn)行顯影。
[0012]根據(jù)第3觀點(diǎn)，本發(fā)明是包含如下步驟的器件制造方法；使用本發(fā)明的第I觀點(diǎn)的曝光方法，對(duì)所述曝光對(duì)象物體進(jìn)行曝光；以及，對(duì)曝光后的所述曝光對(duì)象物體進(jìn)行顯影。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1是概略地示出第I實(shí)施方式的液晶曝光裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0014]圖2是液晶曝光裝置的側(cè)面(一部分截面)圖。
[0015]圖3是圖1的液晶曝光裝置具有的掩模臺(tái)裝置的正面圖。
[0016]圖4是圖3的A-A線側(cè)視圖(從上方觀察掩模臺(tái)裝置的圖)。
[0017]圖5是圖3的B-B線側(cè)視圖(從下方觀察掩模臺(tái)裝置的圖)。
[0018]圖6(A)和圖6(B)是用于說(shuō)明送入掩模時(shí)的掩模裝載裝置的動(dòng)作的圖(其I和其2)。
[0019]圖7(A)?圖7(C)是用于說(shuō)明送入掩模時(shí)的掩模臺(tái)裝置的動(dòng)作的圖(其I?其3)。
[0020]圖8 (A)和圖8(B)是用于說(shuō)明使用第2實(shí)施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動(dòng)作的圖(其I和其2)。
[0021]圖9(A)和圖9(B)是用于說(shuō)明使用第2實(shí)施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動(dòng)作的圖(其3和其4)。
[0022]圖10(A)和圖10(B)是用于說(shuō)明使用第2實(shí)施方式的掩模裝載裝置的掩模送入動(dòng)作的圖(其5和其6)。
【具體實(shí)施方式】
[0023]《第I實(shí)施方式》
[0024]以下，基于圖1?圖7(C)，對(duì)第I實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
[0025]圖1概略地示出了第I實(shí)施方式的液晶曝光裝置10的結(jié)構(gòu)。液晶曝光裝置10例如是以在液晶顯示裝置(平板顯示器)等中使用的矩形(角型)的玻璃基板P(以下簡(jiǎn)單稱作基板P)為曝光對(duì)象物的步進(jìn)-掃描式的投影曝光裝置、即所謂掃描曝光機(jī)。
[0026]液晶曝光裝置10具有照明系統(tǒng)12、保持光透過(guò)型掩模M的掩模臺(tái)裝置14、投影光學(xué)系統(tǒng)16、裝置主體18、保持基板P的基板臺(tái)裝置20、掩模裝載裝置90 (在圖1中，未圖示。參照?qǐng)D2)和它們的控制系統(tǒng)等，其中，基板P在表面(在圖1中，朝向+Z側(cè)的面)涂布有抗蝕劑(感應(yīng)劑)。以下，在進(jìn)行曝光時(shí)，設(shè)掩模M和基板P相對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)16分別相對(duì)掃描的方向?yàn)閄軸方向，設(shè)在水平面內(nèi)與X軸垂直的方向?yàn)閅軸方向，設(shè)與X軸和Y軸垂直的方向?yàn)閆軸方向、設(shè)繞X軸、Y軸和Z軸的旋轉(zhuǎn)方向?yàn)?x、0y* Θ z方向來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。此外，設(shè)與X軸、Y軸和Z軸方向相關(guān)的位置分別為X位置、Y位置和Z位置來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。
[0027]照明系統(tǒng)12與例如美國(guó)專利第5，729，331號(hào)說(shuō)明書等公開的照明系統(tǒng)同樣地構(gòu)成。照明系統(tǒng)12使從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分色鏡、快門、波長(zhǎng)選擇濾光片、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)IL而照射于掩模M。作為照明光IL，使用例如i線(波長(zhǎng)365nm)，g線(波長(zhǎng)436nm)，h線(波長(zhǎng)405nm)等光(或上述i線、g線、h線的合成光)。
[0028]照明系統(tǒng)12(包含上述各種透鏡等的照明系統(tǒng)單元)支承于設(shè)置在潔凈室的地板11上的照明系統(tǒng)框架30。照明系統(tǒng)框架30具有多個(gè)腳部32(在圖1中，與紙面進(jìn)深方向重合)和支承于該多個(gè)腳部32的照明系統(tǒng)支承部34。
[0029]掩模臺(tái)裝置14是用于相對(duì)于照明系統(tǒng)12 (照明光IL)而在X軸方向(掃描方向)上以規(guī)定的長(zhǎng)度行程來(lái)驅(qū)動(dòng)掩模M,并在Y軸方向和Θ z方向上微細(xì)地驅(qū)動(dòng)掩模M的工件。掩模M例如由石英玻璃形成的俯視時(shí)呈矩形的板狀部件構(gòu)成，在朝向圖1中的-Z側(cè)的面(下表面部)形成有規(guī)定的電路圖案(掩模圖案)。圖3所示，在掩模M的下表面部，為了保護(hù)掩模圖案，安裝有被稱作表膜Pe的防塵膜。此處，在掩模M的下表面的寬度方向(Y軸方向)兩端部，設(shè)置有未形成有掩模圖案的區(qū)域(以下稱作余白區(qū)域)。因此，表膜Pe的寬度方向尺寸被設(shè)定為小于掩模M的寬度方向尺寸。關(guān)于掩模臺(tái)裝置14的詳細(xì)結(jié)構(gòu)，將在后面記述。
[0030]返回到圖1，投影光學(xué)系統(tǒng)16被配置在掩模臺(tái)裝置14的下方。投影光學(xué)系統(tǒng)16例如是與美國(guó)專利第6，552，775號(hào)說(shuō)明書等公開的投影光學(xué)系統(tǒng)相同結(jié)構(gòu)的所謂多透鏡投影光學(xué)系統(tǒng)，具有利用例如兩側(cè)遠(yuǎn)心的放大鏡來(lái)形成正立正像的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)。
[0031]在液晶曝光裝置10中，在利用來(lái)自照明系統(tǒng)12的照明光IL對(duì)掩模M上的照明區(qū)域進(jìn)行照明時(shí)，利用通過(guò)了掩模M的照明光，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)16，在與基板P上的照明區(qū)域共軛的照明光的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)中形成該照明區(qū)域內(nèi)的掩模M的電路圖案的投影像(部分正立像)。進(jìn)而，使掩模M相對(duì)于照明區(qū)域(照明光IL)在掃描方向上相對(duì)移動(dòng)，并且，使基板P相對(duì)于曝光區(qū)域(照明光IL)在掃描方向上相對(duì)移動(dòng)，由此，進(jìn)行基板P上的I個(gè)照射區(qū)域的掃描曝光，在該照射區(qū)域中轉(zhuǎn)印出在掩模M上形成的圖案。
[0032]裝置主體18支承上述投影光學(xué)系統(tǒng)16，并經(jīng)由多個(gè)防振裝置19設(shè)置在地板11上。裝置主體18與例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開第2008/0030702號(hào)說(shuō)明書公開的裝置主體同樣地構(gòu)成，具有上臺(tái)架部18a、下臺(tái)架部18b和一對(duì)中臺(tái)架部18c。裝置主體18被配置為與上述照明系統(tǒng)框架30在振動(dòng)方面分離。因此，投影光學(xué)系統(tǒng)16與照明系統(tǒng)12在振動(dòng)方面分離。
[0033]基板臺(tái)裝置20包含基座22、XY粗動(dòng)臺(tái)24和微動(dòng)臺(tái)26?；?2由俯視時(shí)(從+Z側(cè)觀察)矩形的板狀的部件