構(gòu)成，一體地載置在下臺(tái)架部18b上。XY粗動(dòng)臺(tái)24是組合例如能夠沿X軸方向以規(guī)定的長度行程移動(dòng)的X粗動(dòng)臺(tái)和能夠沿Y軸方向以規(guī)定的長度行程移動(dòng)的Y粗動(dòng)臺(tái)而成的所謂龍門式的2軸臺(tái)裝置(X、Y粗動(dòng)臺(tái)省略圖示)。
[0034]微動(dòng)臺(tái)26由俯視時(shí)呈矩形的板狀(或箱形)的部件構(gòu)成，包含吸附保持基板P的下表面的基板夾具。微動(dòng)臺(tái)26經(jīng)由例如美國專利申請(qǐng)公開第2010/0018950號(hào)說明書中公開那樣的重量取消裝置(在圖1中未圖示)而載置在基座22上。微動(dòng)臺(tái)26被引導(dǎo)(誘導(dǎo))到上述XY粗動(dòng)臺(tái)24，在X軸方向和/或Y軸方向上以規(guī)定的長度行程相對(duì)于投影光學(xué)系統(tǒng)16 (照明光IL)移動(dòng)。
[0035]使用固定在微動(dòng)臺(tái)26上的Y條形鏡27y并利用固定在裝置主體18上的Y激光干涉儀28y，求出微動(dòng)臺(tái)26的Y軸方向的位置信息，基于該Y激光干涉儀28y的輸出，進(jìn)行基板P的Y位置控制。此外，如圖2所示，使用固定在微動(dòng)臺(tái)26上的X條形鏡27x并利用固定在作為裝置主體18的一部分的干涉儀色譜柱18d上的X激光干涉儀28x，求出微動(dòng)臺(tái)26的X軸方向的位置信息，基于該X激光干涉儀28x的輸出，進(jìn)行基板P的X位置控制。能夠分別設(shè)置多個(gè)Y激光干涉儀28y和X激光干涉儀28x，求出基板P的θ z方向的旋轉(zhuǎn)量信息。此外，只要能夠使基板P以與保持在上述掩模臺(tái)裝置14的掩模M同步的方式至少在X軸(掃描)方向上以規(guī)定的長度行程驅(qū)動(dòng)，則對(duì)基板臺(tái)裝置20的結(jié)構(gòu)沒有特別限定。
[0036]如圖2所示，掩模裝載裝置90在地板11上被設(shè)置在裝置主體18的-X側(cè)。掩模裝載裝置90具有:保管多個(gè)掩模M的掩模收容器92 ;以及從掩模收容器92向掩模臺(tái)裝置14輸送掩模M的掩模輸送裝置94。掩模收容器92在上下方向上規(guī)定間隔保持多個(gè)掩模M。此外，雖然在圖2中沒有圖示，但在掩模收容器92中保管的多個(gè)掩模M上分別預(yù)先安裝有表膜Pe (參照?qǐng)D3)。掩模輸送裝置94具有:輸送工作臺(tái)94a ;用于使該輸送工作臺(tái)94a上下移動(dòng)的升降裝置94b ;以及在輸送工作臺(tái)94a與掩模收容器92之間進(jìn)行掩模M的交接的一對(duì)滑動(dòng)部件94c (在圖2中，僅圖示了一個(gè))。
[0037]輸送工作臺(tái)94a由被設(shè)定為比掩模M外形略大的俯視時(shí)呈矩形的板狀部件構(gòu)成。升降裝置94b具有例如氣缸等一軸致動(dòng)器，使支承在輸送工作臺(tái)94a上的掩模M上下移動(dòng)。如圖7(A)所示，一對(duì)滑動(dòng)部件94c在Y軸方向上分離地配置，其中一個(gè)經(jīng)由例如美國專利第6，761，482號(hào)說明書中公開那樣的機(jī)械式X線性導(dǎo)軌裝置94d而搭載在輸送工作臺(tái)94a的+Y側(cè)的端部附近上，另一個(gè)搭載在輸送工作臺(tái)94a的-Y側(cè)的端部附近上。一對(duì)滑動(dòng)部件94c分別由YZ截面呈L字狀且在X軸方向上延伸的部件構(gòu)成，且被配置為彼此在紙面上左右對(duì)稱。設(shè)定Y軸方向的間隔，使得一對(duì)滑動(dòng)部件94c與表膜Pe不接觸，能夠從下方支承掩模M的+Y側(cè)和-Y側(cè)分別的端部附近(余白區(qū)域)。一對(duì)滑動(dòng)部件94c分別借助未圖示的X致動(dòng)器，在X軸方向上以規(guī)定的行程相對(duì)于輸送工作臺(tái)94a同步驅(qū)動(dòng)。
[0038]如圖2所示，在送入掩模M時(shí)，在掩模輸送裝置94中，將輸送工作臺(tái)94a的Z位置定位為，在期望(輸送對(duì)象)的掩模M的下方能夠插入一對(duì)滑動(dòng)部件94c，在該狀態(tài)下，將一對(duì)滑動(dòng)部件94c插入到期望的掩模M的下方，使該掩模M從掩模收容器92交接到滑動(dòng)部件94cο在使掩模M從掩模輸送裝置94返回到掩模收容器92時(shí)，進(jìn)行與上述相反的動(dòng)作。關(guān)于掩模裝載裝置90與掩模臺(tái)裝置14之間的掩模M的交接動(dòng)作，將在后面記述。此外，保管多個(gè)掩模M的裝置的結(jié)構(gòu)和輸送掩模M的裝置的結(jié)構(gòu)不限于此，而可適當(dāng)變更，例如，掩模輸送裝置也可以是多關(guān)節(jié)機(jī)械臂等。此外，掩模裝載裝置90也可以是設(shè)置在液晶曝光裝置10的外部。
[0039]接下來，對(duì)掩模臺(tái)裝置14的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。如圖3所示，掩模臺(tái)裝置14具有掩模導(dǎo)流構(gòu)件40、一對(duì)襯板50和一對(duì)掩模保持裝置60。
[0040]掩模導(dǎo)流構(gòu)件40以吊掛方式支承在掩模導(dǎo)流構(gòu)件支承框架18e上。掩模導(dǎo)流構(gòu)件支承框架18e經(jīng)由多個(gè)腳部18f支承在上臺(tái)架部18a上。因此，掩模導(dǎo)流構(gòu)件40與照明系統(tǒng)12(在圖3中未圖示。參照?qǐng)D1)在振動(dòng)方面分離。
[0041]掩模導(dǎo)流構(gòu)件40具有:在X軸方向上延伸的、由厚度較薄的箱形的部件構(gòu)成的主體部42 ;以及在X軸方向上延伸的板狀地形成的多孔質(zhì)部件44。多孔質(zhì)部件44嵌入到在主體部42的下表面上形成的凹部中。掩模M被配置為其上表面(與圖案面相反一側(cè)的面)與多孔質(zhì)部件44的下表面相對(duì)。多孔質(zhì)部件44的長邊方向的尺寸被設(shè)定為比掩模M的長邊方向(X軸方向)的尺寸長，在曝光動(dòng)作時(shí)，掩模M的上表面始終與多孔質(zhì)部件44的下表面相對(duì)。
[0042]在多孔質(zhì)部件44的下表面的大致整個(gè)面上，形成有多個(gè)微小孔部。掩模導(dǎo)流構(gòu)件40與設(shè)置在掩模臺(tái)裝置14的外部的未圖示的加壓氣體供給裝置和真空裝置連接。掩模導(dǎo)流構(gòu)件40經(jīng)由上述多孔質(zhì)部件44具有的多個(gè)孔部的一部分，吸引多孔質(zhì)部件44的下表面與掩模M的上表面之間的氣體，向掩模M作用上浮力(+Z方向的力)，并且，經(jīng)由上述多個(gè)孔部的其它部向掩模M的上表面噴出加壓氣體，由此，在多孔質(zhì)部件44的下表面與掩模M的上表面之間形成微小的間隙(例如5 μπι?10 μπι)。即，掩模導(dǎo)流構(gòu)件40作為所謂真空預(yù)加載空氣軸承而發(fā)揮作用。此外，掩模導(dǎo)流構(gòu)件40可以始終在整個(gè)面上噴出和吸引氣體，也可以僅向掩模M的與上表面相對(duì)的區(qū)域局部地噴出和吸引氣體。
[0043]此外，如圖2所示，在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40中的照明系統(tǒng)12的正下方的位置形成有開口部46，該開口部46分別朝掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的上表面部和下表面部開口。如圖5所不，開口部46形成為以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的俯視時(shí)呈矩形，從照明系統(tǒng)12射出的照明光IL (均未在圖5中圖示。參照?qǐng)D1)通過開口部46，照射于掩模Μ。此外，開口部46的形狀沒有特別限定，例如可根據(jù)掩模M上的照明區(qū)域的形狀而適當(dāng)變更(例如也可以是圓形)。
[0044]此處，如圖2所示，在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40中，開口部46形成為比關(guān)于X軸方向的中央部稍靠+X側(cè)。而且，在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40中，在曝光動(dòng)作時(shí)，比開口部46靠+X側(cè)的區(qū)域和比開口部46靠-X側(cè)的一部分的區(qū)域引導(dǎo)掩模Μ(以下將這些區(qū)域稱作曝光區(qū)域)，在比上述曝光區(qū)域靠-X側(cè)的區(qū)域(圖2中，相比干涉儀色譜柱18d而朝-X側(cè)突出的區(qū)域)專門在掩模M的更換動(dòng)作時(shí)使用(以下稱作掩模更換區(qū)域)。上述掩模裝載裝置90的升降裝置94b配置在掩模更換區(qū)域的正下方。
[0045]—對(duì)襯板50由與XY平面平行地配置且在X軸方向上延伸的板狀的部件構(gòu)成，如圖4所示，其中一個(gè)在俯視時(shí)配置在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的+Y側(cè)，另一個(gè)在俯視時(shí)配置在掩模導(dǎo)流構(gòu)件40的-Y側(cè)。如圖1所示，一對(duì)襯板50分別支承在掩模臺(tái)支承框架36上，該掩模臺(tái)支承框架36固定在照明系統(tǒng)框架30具有的多個(gè)腳部32上(參照?qǐng)D2)，一對(duì)襯板50相對(duì)于裝置主體18和基板臺(tái)裝置20在振動(dòng)方面相互分離。此外，在本實(shí)施方式中，一對(duì)襯板50支承在照明系統(tǒng)框架30上，但也可以是，在相對(duì)于裝置主體18和基板臺(tái)裝置20在振動(dòng)方面相互分離的狀態(tài)下，搭載在設(shè)置在地板11上的另外的臺(tái)架上。
[0046]如圖4所示，在襯板50的上表面，在Y軸方向上以規(guī)定間隔固定有多條(在本實(shí)施方式中，例如2條)的X線性導(dǎo)軌52a。此外，在襯板50的上表面，例如在2條X線性導(dǎo)軌52a之間的區(qū)域固定有X磁鐵單元54a，該X磁鐵單元54a包含沿X軸方向排列的多個(gè)永久磁鐵。
[0047]一對(duì)掩模保持裝置60中的一個(gè)載置在+Y側(cè)的襯板50上，另一個(gè)載置在-Y側(cè)的襯板50上。一對(duì)掩模保持裝置60中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)，除了配置為繞Z軸旋轉(zhuǎn)180°這點(diǎn)以外，是相同的結(jié)構(gòu)，因此，以下除了沒有特別說明的情況，對(duì)+Y側(cè)的掩模保持裝置60進(jìn)行說明。如圖3所示，掩模保持裝置60具有X工作臺(tái)62、X音圈電機(jī)64X、Y音圈電機(jī)64Υ(在圖3中，掩藏在X音圈電機(jī)64Χ的紙面進(jìn)深側(cè)。參照-Y側(cè)的掩模保持裝置60)、吸附保持部66和氣缸68a。
[0048]X工作臺(tái)62由與XY平面平行地配置的俯視時(shí)呈矩形的板狀的部件構(gòu)成。在X工作臺(tái)62的下表面，相對(duì)于I條X線性導(dǎo)軌52a固定有例如兩個(gè)(在圖3中紙面進(jìn)深方向重合)的X滑動(dòng)部件52b。X滑動(dòng)部件5